自行车钢球行星抛光加工工艺

阐述了自行车钢球行星抛光的机理，介绍行星抛光设备，进行新旧抛光工艺的对比，指出了行星抛光加工工艺的发展方向．     

镜面光整加工中磨料轨迹的分析研究

本文对镜面光整加工磨料轨迹进行了分析研究，提出了一个能表征加工效果的新参数Ｗ，推导出Ｗ的计算式，并通过实例验证了Ｗ与加工效果有直接关系。     

摆线钢球行星传动

利用钢球来承受载荷，使运动平稳和具有高的运动精度，机器和有关设备的性能有了极大的提高。例如滑动轴承引入钢球后成为滚动轴承，滑动丝杠成为滚珠丝杠，滑动螺母成为滚动螺母，滑动导轨成为滚动导轨。     

45号钢低温抛光纳米加工试验研究

随着现代科学技术的发展，精密、超精密加工技术在机械制造领域越来越占有重要地位。由于45号钢在横具制造、半导体制造、超真空制造、金属反射镜等方面有着广泛的应用，本文采用冰盘抛光新技术，首次对45号钢材料试件进行了纳米抛光加工试验研究，给出了实际测量结果。通过分析与实验验证，得到了不同工艺参数对纳米抛光精度带来不同影响的规律；对冰盘抛光纳米加工进行了较为深入的分析与探讨。     

摆线钢球行星传动机构设计与仿真分析

根据摆线钢球行星传动的结构组成和传动原理,进行了二级摆线钢球减速器的结构设计,选定了减速器的基本结构设计参数,结构类型为Ⅰ型和Ⅲ型的并联组合.运用Pro/E对其主要零件进行了参数化建模,并完成了摆线钢球减速器各个零件的装配;运用Pro/E和ADAMS进行了三维模型的联合仿真分析,实现了减速器的动态仿真,得到了偏心盘和输出盘的角速度曲线.其分析结果与理论计算结果一致,以此来验证三维模型设计的正确性,以及二级摆线行星运动的准确性,这为该减速器样机的研制提供了依据.     

双摆线钢球行星传动减速器振动分析

建立了K-H-V双摆线钢球传动减速器(一级)传动的力学模型和数学模型。通过计算和分析得知，不平衡质量离心惯性力是引起振动的主要振源。因此，双摆线钢球行星传动减速器必须得到很好的静平衡和动平衡。     

微晶玻璃研磨抛光超光滑表面粗糙度的工艺研究

研磨抛光采用浸液式定偏心锡磨盘抛光方式，研究抛光液浓度、PH值、上下研磨盘转速、抛光时间等参数对微晶玻璃超光滑表面粗糙度的影响，粗糙度的测量采用NT1100干涉仪．实验结果表明：粗糙度受PH值影响比较大；试件在低浓度弱碱抛光液中，延长抛光时间可降低表面粗糙度值并获得高质量的表面，最终测得表面粗糙度为Rα=0．37nm．     

无磨料低温抛光件表面分形特性

利用HL Ⅱ型微机控制原子力显微镜(AFM)系统对无磨料低温抛光件表面的轮廓曲线进行了测量。基于分形理论,分析和讨论了不同工艺参数对表面分形维数D和轮廓算术平均偏差Ra的影响。研究结果表明:D与Ra反映了表面质量的不同方面,它们之间有一定的对应关系,但并不是线性的;对于同样的加工方法,硬质合金材料的D值比铝合金材料的D值大;分形维数可以揭示超光滑表面的表层质量。     

振动抛光技术的研究与比较

介绍了柔性磨体振动抛光技术的机理，机床原理特点以及应用情况，并从加工表面质量和效率方面与粘弹性磨料流加工，超声波抛光作分析比较。     

环带式磁流变抛光加工石英光学零件实验分析

针对磁流变抛光工艺参数对加工石英光学零件表面粗糙度的影响规律,进行了平面石英玻璃光学零件的工艺实验.应用正交实验方法分析了磁流变抛光中主要工艺参数:磁场强度、工件轴转速、平摆速度、抛光盘与工件间的间隙对石英玻璃表面粗糙度的影响规律,确定了石英玻璃磁流变抛光最优工艺因素.并分阶段采用不同工艺参数进行磁流变抛光,抛光后石英玻璃光学零件的表面粗糙度值达到0.6 nm.     

微晶玻璃研磨抛光超光滑表面粗糙度的工艺研究

研磨抛光采用浸液式定偏心锡磨盘抛光方式,研究抛光液浓度、PH值、上下研磨盘转速、抛光时间等参数对微晶玻璃超光滑表面粗糙度的影响,粗糙度的测量采用NT1100干涉仪.实验结果表明:粗糙度受PH值影响比较大;试件在低浓度弱碱抛光液中,延长抛光时间可降低表面粗糙度值并获得高质量的表面,最终测得表面粗糙度为Ra=0.37 nm.     

一种振动强化抛光装置及其试验

针对传统抛光方式的缺点,设计了一种可利用试件在含磨料液体中振动实现强化抛光加工的装置.这种利用游离态磨粒进行工件的抛光加工的工艺,可获得高的表面质量和表面粗糙度值,而且加工表面无加工变质层.通过正交试验证明加工时间是影响去除量的主要因素,而磨料粒度对表面粗糙度影响较大.试验条件下试件表面粗糙度可达Ra0.10μm,且试件表面的疲劳应力有所提高.从表面状态看,抛光加工后的试件表面并无磨料产生的很长的划痕,只有细密均匀的凹坑.试验证明本装置可对曲面进行强化抛光.     

磁场强度对磁流变抛光表面粗糙度的影响

在自制的磁流变抛光实验装置中,通过被加工零件和Bingham凸起相对运动产生的剪切力来实现抛光.在该装置上进行工艺实验,研究了磁流变抛光技术中磁场对表面粗糙度的影响.比较了不同磁场强度下的磁流变抛光情况,以及表面粗糙度和抛光效率的差别,然后,通过采用不同磁场强度组合加工,使初始表面粗糙度(Ra)为400 nm的K9玻璃材料的平面,磁流变抛光30 min,表面粗糙度值达到了0.86 nm,提高了被加工零件的抛光效率和表面质量.     

花岗石抛光磨石的分析研究

通过对国内外抛光磨石的硬度，主要组成的成分，含量和组织结构进行分析，对比，找出了国内外抛光磨石的性能差别，提出了制作优质抛光磨石可供借鉴的方向和性能指标。     

微流控芯片磁性抛光工艺参数优化

以提高微流控芯片表面质量为目的,进行磁性抛光微流控芯片的关键工艺参数优化研究.首先,设计单因素实验组,根据实验结果,得到磁性抛光关键工艺参数对其抛光质量的影响规律:随着抛光间隙的减小,芯片表面粗糙度由0.327μm增至0.045μm,后又降至0.130μm,其最佳抛光间隙为1.5 mm;主轴转速对抛光质量的影响并不显著,改变转速进行抛光后芯片表面粗糙度保持在0.045～0.055μm,其最佳范围为400～800 r/min;微流控芯片表面粗糙度随着抛光时间增加而提高,最高表面粗糙度为0.018μm,相对而言,最佳抛光时间为30 min.此外,磁性复合流体(magnetic compound fluid,MCF)抛光质量受加工间隙影响最大,受抛光时间的影响略大于主轴转速.实验结果表明,通过对磁性抛光的关键工艺参数进行优化,可以将微流控芯片的表面粗糙度从0.510μm提高到0.018μm,由此可进一步探索磁性抛光技术应用于微流控芯片的确定性抛光.     

无磨料低温抛光的均匀性仿真

无磨料低温抛光是一种可获得原子级超光滑表面的新方法。作者首先对加工区进行建模,并分析了冰盘与工件盘在水平面内的相对运动,然后利用Preston方程对工件的抛光均匀性进行了分析,并用数值方法实现了计算机仿真。结果表明:工件盘与冰盘的偏心距越大,工件的抛光均匀性越好。     

基于正交试验设计的压缩机曲轴电化学抛光工艺参数优选

利用正交试验设计的方法,研究了涡旋压缩机曲轴电化学抛光工艺参数的最佳组合。归纳了影响曲轴电化学抛光效果的8个主要因素,通过正交试验设计方法,优选出影响曲轴电化学抛光工艺的因素水平,在此条件下,通过试验验证,压缩机曲轴电化学抛光技术与传统的磨削工艺相比抛光后的粗糙度降低了40%以上,大大降低了涡旋压缩机曲轴由于运动产生的摩擦损耗。     

基于硫系玻璃非球面抛光工艺研究

硫系玻璃非球面透镜具有优异的红外光学性能,分析了硫系玻璃材料的光学和热力学特性,针对硫系玻璃质软,热膨胀系数大,依据自适应迭代驻留时间算法理论,采用数控气囊式抛光对?50mm硫系玻璃非球面透镜进行抛光。通过正交试验确定了透镜在抛光过程中的气囊抛光头旋转速度、气囊充气压力值、氧化铈抛光液浓度等工艺参数,再使用带有聚氨酯抛光垫的气囊对透镜进行多次抛光,并检测其面形图。最后通过分析对比实验,在实验基础上改用金刚石微粉作为抛光液,对透镜进行最后阶段的面形修正抛光,其表面粗糙度Ra值为9.28nm,PV值为0.6097μm,表面疵病B为Ⅲ级。     

抛光工艺及其设备

回转零件镜面抛光技术是利用电解——机械复合光整加工作用,加工效果高于单一的机械研磨和电解抛光．回转零件镜面抛光工艺及其设备成果包括特殊工艺装备、电解电源和电控系统、电解液循环系统、工具头和一套工艺方案．     

模具复合抛光工艺的研究与应用

研究了电解磨料喷射复合抛光新工艺，认识了其加工规律和特点，并将其应用于生产实际，形成模具复合抛光的系统技术。