EEPROM单元的电荷保持特性

利用理论推导和实验方法对电可擦除可编程只读存储器EEPROM单元在给定电压下的电荷保持特性进行了分析和研究,得出了EEPROM单元电荷保持能力的理论公式,得到了单元保持状态下的电特性曲线,发现在双对数坐标下,阈值电压的退化率与时间成线性关系.在假定电荷流失机制为Fowler-Nordheim隧穿效应的情况下,推出了EEPROM单元在给定外加电压下的电荷保持时间,并通过实验得出了简化的EEPROM单元寿命公式.     

EEPROM失效机理初探

在分析了双层多晶硅FLOTOXEEPROM各种失效模式后，从理论上提出了提高EEPROM可靠性的各种措施。提高隧道氧化层和多晶硅之间氧化层的质量，减小擦／写电压和擦／写时间，减小隧道氧化层的面积，都是提高EEPROM可靠性的有效措施。     

应用于低频无源RFID的低成本2 kbit EEPROM

基于350 nm 2-poly 3-metal EEPROM工艺,设计了一种应用于低频无源RFID的低成本2 kbit EEPROM存储器。在保证存储容量能满足大多数使用场景的情况下,通过优化Dickson电荷泵和读出电路的结构,实现电路版图面积的最小化,从而对整体电路实现低成本设计。优化后的Dickson电荷泵能实现10μs内从3.3 V到16 V的稳定升压,且功耗为334μW;读出电路基于检测NCG器件阈值电压的方式实现存储逻辑值的判别,该方法不需要能提供高精度电流的基准电路和具有高增益的灵敏放大器,有效降低了整体电路的面积。低成本2 kbit EEPROM的工作电压为3.3 V,能实现32位并行输入和1位串行输出,芯片总面积仅为0.14 mm²,有效降低了低频无源RFID设计复杂度和制造成本。     

国外EEPROM器件的可靠性增长与考核技术

分析了提高ＥＥＰＲＯＭ器件耐久性和保持特性的途径,提出了寿命预测的方法和保持特性的考核标准。     

4kb串行I2C接口EEPROM电路设计

EEPROM(电可擦除可编程只读存储器)以其非易失性、数据存储能力强、操作灵活等特点广泛应用于对数据存储安全性及可靠性要求较高的场合,如微控制器、传感器、测量和医疗仪表,非接触式智能卡等领域.I2C(Inter-Integrated Circuit)总线是一种紧凑的而且非常节省连线资源的总线接口,由数据线SDA和时钟线...     

RFID中EEPROM时序及控制电路设计

RFID系统对电子标签中的存储器有着不同于传统存储器的要求。根据这一特点进一步简化了EEPROM的时序控制,提出了一种适用于RFID系统中EEPROM电路的时序,并在此基础上设计了用于电子标签完成读卡器要执行的命令和对处理数据存储的控制电路,使操作变得更加便捷。该电路设计基于0.35μmCMOS工艺,电源电压为3.3V,仿真结果显示,3.3V电源供电时,擦写编程电流为45μA,读数据工作电流为3μA,读数据周期为300ns,具有低功耗、高速度的特性。     

串行EEPROM及其在MCS—96系列单片机中的应用

介绍美国National Semiconductor公司串和EEPROM93C46／56／66的性能特点，引脚功能及指令，并给出93AC56与INTEL公司的80C196的接口及读写程序。     

安森美半导体扩充串行EEPROM产品阵容

安森美半导体（0N Semiconductor）推出新的电可擦除可编程只读存储器（EEPROM）器件，用于汽车，医疗及消费市场。     

LCD或LCD TV的画质和色彩在线软调整方法

LCD或LCD TV中,影响画质和色彩最重要的两个参数就是Gamma Table和不同色温的R,G,BGain值。提出了一种软调整方法,该方法采用在线量测LCD或LCD TV一些特定的画面的光学值,并通过色彩空间转换和插值法获得当前LCD或LCDTV最佳Gamma Table和不同色温的R,G,BGain值,然后再通过DDCCI传输这些参数到LCD或LCDTV。从而保证每台LCD或LCD TV都达到最佳的显示效果,克服了目前每台LCD或LCD TV都采用固定值而不能达到最佳显示效果的问题。     

安森美为DDR3存储器模块应用推出集成EEPROM的温度传感器

安森美半导体推出来自近期收购Catalyst半导体而得的温度传感器新产品线的第二款产品CAT34TS02。这新器件结合了12位（另加标记位）数字输出温度传感器和2干比特fKb）串行存在检测（SPD）电可擦除可编程只读存储器（EEPROM），用于高速个人电脑（PC）和膝上型电脑、显卡、服务器、电信设备和基站、环境控制系统及工业处理控制设备中的第三代双倍数据率（DDR3）应用。     

EEPROM工艺中场开启电压的特殊要求与对策

ＥＥＰＲＯＭ要求场开启电压≥２０Ｖ，Ｐ－Ｎ结击穿电压也要求≥２０Ｖ，前者需提高场区杂质浓度，而后者则需要降低场杂质浓度，通过工艺模拟和实验找到了一种化解这个矛盾的对策，首先根据Ｐ－Ｎ结击穿电压的要求确定场区杂质浓度，继而大幅度调节场氧厚度，从而使二者都能满足要求。     

一种应用于EEPROM的片上电荷泵电路设计

设计了一种应用于EEPROM的片内电荷泵电路系统。该电路基于Dickson电荷泵结构,通过使用稳定的参考电压驱动压控振荡电路,从而产生了占空比小于50%的精确时钟,提高了电荷泵升压速度;通过使用调压电路,限制并稳定了输出电压。HSPICE仿真结果显示:在5 V电源电压下,时钟频率高达2.085 MHz。电荷泵仅需要56.256μs就可以输出15.962 V的高压。电荷泵的电压上升时间快,性能优越。     

双层多晶硅FLOTOX EEPROM特性的模拟和验证

介绍了EEPROM的电学模型,模拟分析了阈值电压变化与写入时间、写入电压、隧道孔面积、浮栅面积的关系.根据模拟结果,采用0 .6μm CMOS工艺,对双层多晶硅FL OTOX EEPROM进行了流片,PCM的测试结果验证了模拟结果在实际工艺中的可行性.模拟得出的工艺参数评价为制造高性能的存储单元打下了坚实的基础     

Multi-Value Voltage-to-Voltage Converter Using a Multi-Stage Symmetrical Charge Pump for On-Chip EEPROM Programming

A fully integrated multi-stage symmetrical structure chargepump and its application to a multi-value voltage-to-voltage converterfor on-chip EEPROM programming are presented. The multi-valuevoltage-to-voltage converter is designed to offer two output voltages,power supply and triple power supply alternatively, which is neededfor a memory array. A dynamic analysis of the multi-stage symmetricalstructure charge pump and an optimization design in terms of circuitarea are also given. The circuit is implemented in a 1.2 CMOSprocess and the measurement results show that a voltage pulse as shortas 5 s with a rise time of 3 s is obtained. For a 5 V powersupply and with a resistive charge of 100 k, the programmingoutput voltage can reach as high as 11 V and output current forprogramming is over 110 A, which are high enough to program thememory cell.     

EEPROM耐久和数据保持试验方法标准分析

介绍了存储器分类,论述非易失性存储器编程机理以及编程/擦除耐久和数据保持试验方法,分析了MIL-STD-883B中的《耐久寿命试验》和JESD22-A117《电可擦除可编程只读存储器(EEPROM)编程/擦除耐久和数据保持应力试验》等试验方法标准.     

一种用于模拟电路修调的EEPROM电路

介绍了一种用在模拟电路中修调的EEPROM电路.该电路采用一种新型的单层多晶EEPROM结构,与传统的双栅EEPROM结构相比,该结构与数字CMOS工艺兼容,成本低、成品率高.使用在一个基准电压电路中时,其基准电压的调节范围达到±4.82%,调节精度达到4mV.EEPROM修调电路可广泛应用于各种高精度需求的电路中.     

一种利用二管EEPROM单元实现四值存储的方法

提出了一种利用常见的二管ＥＥＰＲＯＭ实现四值存储的方法,相对于用四管单元实现四值存储,该方法节省了芯片面积,使ＥＥＰＲＯＭ芯片的存储量增加一倍,由于只是在读写控制电路上加以改进,故适用于几乎所有通常的二管结构的ＥＥＲＰＯＭ单元,且对单元性能影响较小。     

浮栅隧道氧化层EEPROM中浮栅上电荷泄漏研究

本文从研究不同单元尺寸浮栅隧道氧化层EEPROM在不同状态、不同温度保存下阈值电压的变化入手,论述了浮栅隧道氧化层EEPROM中浮栅上电荷的泄漏机理,并提出了改进EEPROM保持特性的措施.