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高压功率VDMOS场效应晶体管在国内尚属开发新产品.本文就高压功率VDMOS场效应晶体管的版图设计考虑作一介绍.实际设计了耐压450伏、电流容量为5安培的VDMOS场效应晶体管版图.试制结果说明设计是可行的. 相似文献
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功率场效应晶体管VDMOS导通电阻的优化 总被引:1,自引:0,他引:1
本文对大功率场效应晶体管VDMOS器件的导通电阻与单元结构的参数进行了研究,重点讨论了栅宽、外延层厚度和浓度与导通电阻的关系,计算出的I-V曲线随单元结构参数的不同有明显的改变,为实际研制工作提供了依据。 相似文献
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栅电荷是用于衡量功率MOSFET开关性能的重要参数,通常采用在栅极输入电流阶跃信号的方法来测量。一种新型的栅电荷测试电路被提出,该测试电路使控制信号从MOSFET的源极输入,从而消除了控制信号对栅极输入电流的影响。因为输入电流太小不能直接测量,测试时采用测量电压阶跃信号的方法来衡量电流阶跃信号的性能。与以往的测试电路对比结果表明,该电路可以使MOSFET栅极输入的电流更接近于理想的电流阶跃信号,该信号上升时间小于100 ns,并且上升后稳定,因此提高了栅电荷测量的准确度。 相似文献
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监管机构与终端客户对DC/DC电源效率的要求越来越高。新的设计要求更低的导通阻抗,同时不能影响非钳位电感性开关(UIS)能力或者不增加开关损耗。屏蔽栅极MOSFET可为30~200V范围的DC/DC电源设计人员提供相关解决方案。现在,通过提高开关性能,导通阻抗Rds(on)已能降低50%及以上,从而提高效率,为更高频率工作创造条件。本文讨论了屏蔽栅极MOSFET在中等电压MOSFET(40~300V)应用中的优势。 相似文献
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Gate current in OFF-state MOSFET 总被引:1,自引:0,他引:1
The source of the gate current in MOSFETs due to an applied drain voltage with the gate grounded is studied. It is found that for 100-Å or thinner oxide, the gate current is due to Fowler-Nordheim (F-N) tunneling electrons from the gate. With increasing oxide thickness, hot-hole injection becomes the dominant contribution to the gate current. This gate current can cause I D walkout, which is a decrease in the gate-induced drain leakage current, and hole trapping, which becomes important for device degradation study. It can also be used to advantage in EPROM (erasable programmable read-only memory) erasure 相似文献