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Ni-Sn合金镀层有较高的熔点,可焊性好,硬度高,耐磨,耐腐蚀,表面均匀,光亮,可用于仪表,仪器装饰镀层,半导体致冷元件钎焊镀层,印制线路表面镀层,印制板插头镀金底层等,美国Wesstern electric specification规定:铜箔上直接镀硬金,其厚要有25μ;以Ni作底层,其金层厚度要有1.2~2.5μ;以Ni-Sn合金作底层,则硬金厚度只需0.125~0.25μ.这说明以Ni-Sn合金做底层,器件表面对镀金的要求大大降低,镀层耐磨性和耐腐蚀性有所提高. Ni-Sn合金可直接镀于Cu,Ni、柯伐和铁件上. 前目,国内外Ni-Sn合金电镀工艺普遍采用 相似文献
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为了寻找镀液稳定、无毒且镀层性能优良的无氰电镀金工艺,提出并研究了以二甲基亚砜为溶剂的无氰电镀金工艺。通过讨论镀液组成及电镀工艺条件对沉积速率、镀层外观质量的影响,确定了最佳无氰电镀金工艺参数。采用扫描电镜(SEM)观察了最优工艺所得镀层表面形貌,采用热震试验测试了镀层的结合力,采用硝酸腐蚀测定了镀层的耐蚀性能。结果表明:较优的二甲基亚砜镀金工艺参数为10 g/L Au(PPh3)Cl,15 g/LNH4Cl,温度60℃,电流密度0.25 A/dm2,电镀时间为0.5~1.0 h(根据需求而定);该工艺获得的镀金层结晶细致,结合力、耐蚀性良好;镀金液无毒、稳定性良好。 相似文献
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采用X射线荧光能谱仪,分别测量基底元素的强度,以求得金薄膜和镀层的厚度。用镀金片检验,当薄膜和镀层厚度t<3.0μm时,测量偏差<0.10μm,方法简便,可方便地用于镀层厚度的控制生产中。 相似文献
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一种新的节金方法——电镀与离子溅射相结合 总被引:1,自引:0,他引:1
可以采用一种由惰性非金属材料组成的耐磨的透明薄膜保护镀金零件的表面·使其不被擦毛和腐蚀。这层保护膜采用离子溅射法沉积在这些零件上。由于采用了这种膜,可允许采用较薄的金镀层,控制膜的厚度可避免色差,采用中间层可以确保膜与金镀层间的良好结合。 相似文献
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马燕青 《理化检验(物理分册)》2014,(9):677-680
波导同轴转换装置采用镍-金双层镀层,部分零件在装配时发现有大量锈蚀。通过扫描电镜观察、镀层厚度测量等方法对锈蚀的原因进行了分析。结果表明:镀金层厚度较薄,镀层上有较多微孔,未能形成有效保护;零件包装盒使用了含氯元素的粘结剂,粘结剂变质分解导致了零件锈蚀。 相似文献
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空心阴极离子镀是国外七十年代发展起来的新型离子镀技术,它具有蒸发速度快、蒸发金属离化效率高、高速中性粒子多、工作真空度较低、设备简单、工作安全、无公害等特点。目前国外已用此技术沉积了Cu、Ag、石英、Cr、CrN、CrC、TiN、TiC等涂层,日本在近几年已有工业生产装置。空心阴极离子镀成功地用于仿金装饰镀,如表壳、表带、餐具、眼睛框以及工艺品等,这种仿金装饰镀膜是在不锈钢外表面镀一层氧化钛,其色泽如金,其硬度、耐磨、耐腐蚀性能程度以及成本低廉优于镀金。又可用于工具、刀具、模具、机械零件等特殊要求的镀层,镀层具有高… 相似文献
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钼铜合金表面金镀层的制备及耐高温与焊接性能 总被引:1,自引:0,他引:1
为提高钼铜合金表面金镀层的耐高温性与焊接性能,采用置换镀及化学粗化及化学镀镍、最后氰化镀金的方式,在钼铜合金表面制备了金镀层。采用扫描电镜能谱仪分析了镀层形貌及成分,采用金锡焊接的方式测试其焊接性能,按GJB 1941-94考察了其耐高温性能。结果表明:置换镀方式实现了钼铜合金基材界面处元素Mo及元素Cu化学性质的均一性,避免了因化学活性不同所导致的沉积晶体内应力过大的问题;化学粗化增大了钼铜合金基材界面处的比表面积,增加了镀层与钼铜合金基材界面处"机械咬合点"数量,提高了镀层与钼铜合金基材的结合强度。钼铜合金基材表面所得金镀层耐高温性能≥350℃,焊接后空洞率≤30%,满足焊接技术指标要求。 相似文献
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多晶硅生产的还原炉壁体热反射率的高低对电能消耗有很大的影响,过去,少有相关的研究报道。使用亚硫酸盐体系对还原炉内壁电镀金,研究了镀金电流密度、镀覆时间等对镀金层光亮度、热反射率的影响;探讨了镀液中配位剂亚硫酸钾浓度对镀层显微硬度、沉积速率及阴极电流效率的影响。结果表明:电流密度为0.4A/dm2,镀覆时间为10 min时镀金层外观质量最好,亚硫酸钾浓度为100 g/L时镀金层的显微硬度、阴极电流效率和沉积速率达到最大值;镀金层的光亮度与电流密度和镀覆时间有很大关系;镀金层的热反射率比不锈钢基体的高,光亮镀层的热反射率比半光亮镀层的高;镀液中亚硫酸钾含量的变化使得镀金层的显微硬度和沉积速率发生了改变。 相似文献
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化学镀镍硼稀土合金镀层工艺与性能的研究 总被引:8,自引:0,他引:8
研究了稀土元素对镍硼镀层工艺及性能的影响。结果表明,稀土元素在化学镀镍硼过程中起重要作用,添加适量稀土元素,可改善镀层的成分与性能,特别是可降低镀层的接触电阻和提高化学稳定性,该镀层材料可代替镀金和镀银,成为良好的弱电接点材料。 相似文献
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