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H.C.Jiang W.L.Zhang J.P.Zhang W.X.Zhang B.Peng S.Q.Yang 《金属学报(英文版)》2004,17(5):677-681
The influences of plating bath solution PH and current density on coercivity of electroplating CoNdNiMnP permanent magnetic film arrays were studied. The experiment results show that both for solution PH and current density there were the best depositing parameters. Too high and too low plating bath solution PH or current density both result in decreasing of the film array coercivity. When solution PH is 3.5 and current density is 5mA/cm^2, the prepared film array coercivity can reach the maximum. 相似文献
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H.C.Jiang W.L.Zhang J.P.Zhang W.X.Zhang B.Peng S.Q.Yang 《金属学报(英文版)》2005,18(2):149-152
In order to improve the performances of electroplating permanent magnetic films, ncodymium is introduced into the electroplating CoNiMnP permanent magnetic films. The influences of the neodymium content are also investigated by varying NdCl3 plating bath concentration. The neodymium-doped films are analyzed by energy dispersive spectrum (EDS), vibrating sample magnetometer (VSM) and magnetic force microscope (MFM). The experimental results show that high magnetic performances of CoNdNiMnP permanent magnetic films with vertical anisotropy could be fabricated with current density 5mA/crne at room temperature. With the increasing of neodymium contents, the magnetic properties of films were improved. However when neodymium contents exceeded 3.5wt%, the magnetic properties of films are not improved any more. The increase of film magnetic properties results from the ferromagnetic-coupling between light rare earth element-neodymium and transition metal element-cobalt. 相似文献
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电流密度对AZ91D镁合金微弧氧化膜性能的影响 总被引:11,自引:0,他引:11
采用不同的氧化电流密度(20 mA/cm^2、50 mA/cm^2、70 mA/cm^2、100 mA/cm^2),在碱性硅酸盐溶液中镁合金AZ91D表面制得了一系列的微弧氧化膜,并且利用体视显微镜方法、X射线衍射方法和电化学阻抗方法对膜层的表面形貌、结构组成以及电化学阻抗等性能进行了比较研究.结果表明,氧化电流密度越高,膜层的生长速度越快,膜层的晶化程度越高,但是膜层的粗糙度和孔隙率升高,阻抗反而下降.膜层的阻抗性能不是由膜层的总厚度决定,而是主要取决于氧化膜的致密程度. 相似文献
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5.
研究快淬Nd13.5Fe81.74B4.76合金的显微组织与磁体性能关系。结果表明最佳磁性能的快淬磁体与其合金的微晶组织有关,快淬Nd13.5Fe81.74B4.76合金的高内禀矫顽力来源于单畴转动机制。 相似文献
6.
通过选择络合剂、缓冲剂及采用方波脉冲电流和优化电镀工艺, 在酸性镀液中实现了Cr-Pd共镀, 并在不锈钢表面制备出均匀致密且与基体结合良好的Cr-Pd合金镀层. 通过改变镀液中铬盐和钯盐的相对含量, 可以大范围改变镀层成分. Cr-Pd合金镀层可显著提高不锈钢在高温还原性腐蚀介质中的耐蚀性, 在沸腾的20%(质量分数)H2SO4溶液中, Cr-Pd合金镀层使316L不锈钢的腐蚀速率降低了4个数量级以上. 镀层中的Cr和Pd对致钝具有协同促进作用, 当镀层中含有2.5%Pd(质量分数)时即具有明显的促进钝化效果, 含33.3%Pd镀层对不锈钢的保护效果与纯Pd镀层相当. 相似文献
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超声波强化电镀过程及改善镀层质量的机理 总被引:4,自引:0,他引:4
在金刚石电镀工具生产过程中,扩散步骤通常是电镀速度控制步骤,浓差极化是比电化学极化更为主要的限制因素。超声波能够强化电镀过程,提高沉积速率,并且改善镀层质量。阴极极化曲线测定结果证明,产生这种效果的机理,从电极过程动力学观点看来,实质上是超声波的机械振动和空化现象在电镀溶液中对扩散层的特殊搅拌引起的强烈的去极化作用。这种作用能够大大减少甚至完全消除浓差极化,因而允许使用大电流密度以提高生产效率,同时能够获得致密平整的良好镀层。 相似文献
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铝合金稀土转化膜碱性成膜工艺T3/T7的研究 总被引:17,自引:1,他引:17
采用正交实验方法得出了最佳成膜工艺T3/T7,利用线性极化、极化曲线测试、中性盐雾实验等对该工艺形成的膜层耐蚀性进行了研究,并对表面膜层的性能进行了一系列测试.结果表明:在NaCl水溶液中的全面腐蚀速度可降低10~20倍,可通过504h的中性盐雾试验;经该工艺处理后铝合金腐蚀的阴阳极过程都受到明显阻滞,且自然腐蚀电位负移,点蚀电位相对于自然腐蚀电位明显正移,T3/T7处理明显的改善了铝合金在氯化物介质中的耐点蚀性能 相似文献
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采用新型超快速变换HPVP-TIG电弧焊接工艺进行2219-T87高强铝合金焊接,研究脉冲电流特征参数对焊接接头组织和力学性能的影响.结果表明,加入超音频脉冲方波电流(UPSWC)作用后,铝合金焊缝区显微组织由粗大柱状晶转变为细小等轴晶,在焊缝区内除了等轴树枝晶外,还存在一种呈带状分布的极细小等轴非枝晶组织,同时焊缝熔合区宽度明显减小,焊接接头抗拉强度和断后伸长率显著提高.在一定范围内增加脉冲电流幅值,提高脉冲频率,减小占空比,可增强组织细化作用,提高接头力学性能.与未加入UPSWC作用相比,脉冲电流幅值100A,脉冲频率40kHz,占空比20%时,接头抗拉强度和断后伸长率分别提高约22%和111%. 相似文献
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Y.M.Wang L.X.Ding Department of material School of Mechanical Engineering Shenyang University Shenyang China 《金属学报(英文版)》1999,12(5):911-916
1.IntroductionThepermanentmagneticalloyofFeCrCosystemisanewtypeofpermanentmagneticmaterialbasingontheSpinodalresolutiontheory.Itiswiththefollowingmentionedcharacteristics:(1)Ithasratherhighpermanentmagneticpropertythatcancomparewiththepermanentmag… 相似文献
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强磁场与交变电流的复合作用对Al-4.5%Cu合金凝固组织的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
研究强磁场(0—10T)与工频(f=50Hz)交变电流(0-10A)的复合作用对Al-4.5mass%Cu合金凝固组织的影响。发现在施加垂直于磁场方向的交变电流时,会使电极间液态金属在电磁压力P作用下产生波动,导致合金凝固时枝晶组织的生长被打碎,出现等轴晶和颗粒状晶。在10T磁感应强度下,交变电流越大,波动越强,越易生成等轴晶和颗粒状晶;在10A交变电流下,磁感应强度增加到4T以后,等轴晶未随磁场的增加而完全转变成颗粒状晶;当P^→相同时,磁感应强度小的,容易出现等轴晶和颗粒状晶。 相似文献
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用化学浸泡、极化曲线、循环极化曲线和电化学阻抗谱等方法研究了不同温度固溶后直接时效状态的15-5PH马氏体沉淀硬化不锈钢的耐点蚀性能,并用金相显微镜、X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析其显微组织和析出相。结果表明,15-5PH不锈钢随着固溶温度的升高,自腐蚀电位减小,自腐蚀电流和腐蚀速率增大,耐点蚀性能下降。不同温度固溶后时效的基体组织均为板条马氏体和少量奥氏体,且均有NbC相析出。在1000℃下固溶后时效组织较均匀,析出相少,耐点蚀性能优异。在1070℃下固溶后时效组织中有Cu析出,进而导致其耐点蚀性能下降。 相似文献
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应用光电化学响应法和:Mott-Schottky曲线法,研究了Ni201在500℃空气中生成的氧化膜和在pH值为8.4的中性缓冲溶液中阳极氧化生成钝化膜的半导体性质,分析了Ni201表面钝化膜的结构和组成.Mott-Schottky曲线表明,Ni20l在该中性溶液中生成钝化膜的平带电位约为0.40 V,其在500℃空气中生成的氧化膜的平带电位约为0.15 V,前者的载流子浓度约是后者的34倍.在中性缓冲溶液中生成钝化膜的光电流谱表明,Ni201的结构由内层NiO和外层Ni(OH)2构成,其带隙宽度分别为2.8和1.6 eV.其中,具有晶体结构的内层NiO的带隙宽度与Ni201在500℃空气中生成的氧化膜的带隙宽度2.4 eV相似.通过光电化学法和Mott-Schottky曲线建立Ni201表面钝化膜的电子能带结构模型,解释了其内层NiO和外层Ni(OH)2同是p型半导体组成的钝化膜的半导体性质. 相似文献