共查询到18条相似文献,搜索用时 62 毫秒
1.
阐述美国《国家半导体技术发展战略》中存储器的发展目标对其关键材料超纯水在水质和耗量降低上的要求。以我国8英寸/0.18微米和12英寸生产线和相关数据与其对照.表明在总有机碳、溶解氧等项水质参数巳可满足该发展要求,而在SiO2、微粒限定、检测技术以及超纯水耗量降低等方面尚有差距和问题,提出相应的解决方案,讨论了超纯水等项水资源消耗的降低途径。重申了水回收的意义,关注“功能水”和高效,省能的GDI(聚合型电去离子)装置将是有益的。 相似文献
2.
3.
8英寸线超纯水技术的若干特点 总被引:2,自引:0,他引:2
应小于等于0.25μm8英寸fab之需,介绍了实际工程的各项优越水质参数和高可靠、易运作等特点。讨论了水的回收技术、总有机碳(TOC)减低技术和安装,配管中的零污染的可能性。 相似文献
4.
随着集成电路技术的不断发展,对生产所需纯水水质要求理镐,本文系统介绍了超大规模集成电路生产中的超纯水质水质指标,典型制备流程,输送管材以及超纯水制备系统的发展。 相似文献
5.
6.
超纯水精处理系统与水质评价 总被引:2,自引:0,他引:2
以应0.5um技术之需而设的一套超纯水精处理系统的实例,介绍了其工艺流程及特点,给出各项水质参数的实测数据,进而评述≤0.25um/8英寸线的水质评价项目及其限定值,分析手段和应具有的在线检测仪表。 相似文献
7.
8.
刘忠立 《太赫兹科学与电子信息学报》2016,14(6):953-960
介绍互补金属氧化物半导体(CMOS)集成电路的发展历程及纳米级CMOS集成电路的关键技术,在此基础上研究了纳米级CMOS集成电路的辐射效应及辐射加固现状。研究结果表明,纳米级FDSOICMOS集成电路无需特殊的加固措施,却比相同技术代的体硅CMOS集成电路有好得多的辐射加固能力,特别适用于空间应用环境。 相似文献
9.
空间应用的集成电路受到辐射效应的影响,会出现瞬态干扰、数据翻转、性能退化、功能失效甚至彻底毁坏等问题.随着器件特征尺寸进入到100nm以下(以下简称纳米级),这些问题的多样性和复杂性进一步增加,单粒子效应成为集成电路在空间可靠性应用的主要问题,给集成电路的辐射效应评估和抗辐射加固带来了诸多挑战.本文以纳米级CMOS集成电路为研究对象,结合近年来国内外的主要技术进展,介绍研究团队在65nm集成电路单粒子效应和加固技术方面的研究成果,包括首次提出的单粒子时域测试和分析方法、单粒子多节点翻转加固方法和单粒子瞬态加固方法等. 相似文献
10.
11.
以应 0 .5 μm技术之需而设的一套超纯水精处理系统为实例 ,介绍了其工艺流程及特点 ,给出各项水质参数的实测数据 ,进而评述≤ 0 .2 5 μm/ 8英寸线的水质评价项目及其限定值、分析手段和应具有的在线检测仪表。 相似文献
12.
IC工艺用超纯水系统的TOC实验研究 总被引:1,自引:0,他引:1
从运行管理角度,以实验方法考察了IC工艺用超纯水制造过程中TOC(总有机碳)的若干问题。通过在线测量一次纯水、二次纯水的TOC含量和相应的数据统计,评估了水平各异的两套超纯水制造系统中各主要装置对TOC的除去效率及其对TOC的影响。 相似文献
13.
本文对公用付费电话的发展及IC卡付费方式的先进性作了简要分析,阐述了IC卡及其技术特点、IC卡公用付费电话系统的话机系统及管理系统的结构和功能,最后介绍了IC卡付费电话系统的发展现状及前景。 相似文献
14.
15.
介绍了一种以MSP430单片机为控制核心的IC卡水表控制器的设计方案。将微控制器和4442卡技术、I^2C总线技术、流量计量技术及低压检测技术等相结合,实现了水表管理的高效率和智能化。详细介绍了该控制器的基本结构及各模块的软硬件设计原理。样机试验表明该智能水表控制器具有功能完善、计量准确及通信可靠等特点。 相似文献
16.
对于集成电路设计、生产过程中的多目标、多约束统计优化问题,本文提出了“合格率足够高”的优化宗旨,并从概率论的基本原理出发,结合集成电路的特点,导出了一种合格率的近似表述方法,提出的变权重Monte Carlo法编程简便,效率高。采用这些优化策略设计的集成电路合格率优化系统取得了比较好的结果。 相似文献
17.