烘焙工艺条件对厚胶光刻面形的影响

采用厚层正性光刻胶AZ P4620进行光刻实验,考察了在前烘和坚膜阶段不同的工艺参数条件下的光刻胶浮雕面形的变化.实验表明,完全显影后光刻胶的浮雕面形受前烘工艺参数的影响很小,但其显影速率有一定差别;当坚膜烘焙后,不同前烘条件下的浮雕面形差别较大;当前烘条件相同时,坚膜参数的变化对光刻胶的浮雕面形影响较大.由此得出,在前烘阶段应采取较高温度、较短时间的烘焙,而在坚膜阶段应采取较低温度、较长时间的烘焙,这样可提高厚胶光刻面形的质量.     

支撑变形对亚纳米级面形检测精度的影响

光刻投影物镜中透物镜的面形精度是影响光学系统成像质量的关键因素之一,而支撑变形是影响面形精度的一个非常重要的因素.为提高大口径透镜的光学检测复现性,设计了一种整体式柔性支撑结构,分析了重力作用下弹片数量和各尺寸参数等对透镜面形精度及复现精度的影响.分析结果表明:增加弹片数量、减小支撑距离透镜中心的距离及增大弹片厚度可使透镜的变形减小;可以通过缩短弹片长度、增加弹片厚度及弹片数量来提高复现精度.根据各影响因素与复现性的关系分析得到的优化参数下的复现精度为0.21 nm rms,能够满足深紫外光刻投影物镜中透镜的高精度面形要求.     

温度变化对胶粘结透镜面形精度的影响

为了保证透镜的面形精度受温度影响较小,透镜采用低应力胶粘结要优于采用机械方式装夹。首先对比了胶粘结透镜在16℃,20℃,26℃时透镜轴向应力大小和面形的变化。实验验证了在不同温度下,胶粘结透镜面形的峰谷(PV)值(0.073λ,0.064λ,0.085λ)要优于机械方式装夹的透镜面形PV值(0.204λ,0.108λ,0.105λ)。最后对不同温度下胶粘结透镜面形变化的理论计算、仿真和实验结果的误差进行了分析。实验结果表明在温度变化时,采用胶粘结透镜的面形精度要优于机械装夹的透镜面形精度,并且能有效控制温度变化对透镜面形精度的影响。     

智能光网络多层生存性技术

分析了现有网络中独立的和层间协调的生存性机制,并且对基于GMPLS的智能光网络的多层生存性进行分析,可以看到智能光网络为多层网络生存性提供了更好的保证.     

均光波导多层存储器的原理和实验

介绍了均光波导多层存储器的基本结构和原理。波导多层存储器通过收集波导侧面信息符发出的散射光来读取数据,而均光波导多层存储器的设计主要是为了解决波导多层存储器侧面散射光强不均匀的问题。有一种方法就是通过改变信息符深度来实现均光。理论推导表明信息层表面的信息符深度沿着传导光传播方向逐渐增加时可以实现波导侧面散射光强的均匀分布,而且波导各个不同位置处信息符的深度值也可以通过拟合和计算得到。为了证明理论的正确性,设计了原理性实验,完成了原理性实验器件的研制。实验对均光波导多层存储器的结构、原理以及均光方法的可行性进行了验证。实验还将均光波导多层存储器的性能与一般的波导多层存储器作了对比,实验效果良好。     

波导多层光卡读出系统的研制

研制了适合于波导多层光卡(WMOC)的数据读出系统.该系统硬件主要包括了光卡器件、寻址部分、光学部分和信号读取与处理部分等多个单元;软件采用Visual Basic(VB)语言编程,设计了简单直观的操作界面,通过界面可以精确改变电控平移台的位置,实现对光卡寻址和显微放大光学单元的实时调节.该系统使用方便、具有很强的可操作性与实际应用价值.     

二氧化硅壳层对CdS:Mn/ZnS量子点的光稳定性影响研究

在量子点表面包覆二氧化硅壳层,能够有效的保护纳米粒子核不受外界环境的影响,使得它在光电子器件和生物标记等领域中有着广泛的应用前景。通过一锅法制备高质量CdS:Mn/ZnS量子点,然后利用反相微乳液方法在量子点的表面继续包覆SiO2层,得到CdS:Mn/ZnS@SiO2多层核壳结构量子点材料。化学性质稳定的ZnS及SiO2材料的包覆使CdS量子点材料的毒副作用降低并有效提高其稳定性,然而CdS:Mn/ZnS量子点的大部分性能在包覆SiO2后都保持不变,因此CdS:Mn/ZnS@SiO2量子点在光学应用中有很大的应用潜力。     

粘结剂形态及尺寸对QFN器件热应力的影响

使用有限元软件MSC.Marc分析了芯片粘结剂的形态、厚度和宽度对典型微电子封装QFN(四方扁平无引脚封装)器件热应力的影响。结果表明:在有限元网格密度相同的条件下,粘结剂形态的不同会对QFN器件的热应力产生较大影响,粘结剂无溢出形态的最大热应力为85.87MPa,而粘结剂有溢出形态的最大热应力为77.84MPa,并且最大热应力出现的位置也不同;粘结剂的厚度和宽度对热应力的影响不明显;由于粘结剂形态的不同界面热应力的分布会有较大差别。     

加窗的PAM-DMT室内白光通信系统研究

将脉冲幅度调制/离散多音频调制(PAM-DMT)应用于白光LED通信系统中,提出了将时域加窗技术与PAM-DMT相结合的思想,并且加入了循环前缀和后缀,做了系统仿真.结果表明,此系统能够有效抑制多径效应对系统性能的影响,提高系统的频谱利用率,降低系统的误比特率.     

Influence of window layer thickness on double layer antireflection coating for triple junction solar cells

The optimization of a SiO₂/TiO₂,SiO₂/ZnS double layer antireflection coating（ARC）on Ga_0.5In_0.5P/In_0.02Ga_0.98As/Ge solar cells for terrestrial application is discussed.The Al_0.5In_0.5P window layer thickness is also taken into consideration.It is shown that the optimal parameters of double layer ARC vary with the thickness of the window layer.     

窗口层对三结电池双层减反膜的影响

窗口层的厚度对高效三层太阳能电池具有重要影响。本文针对太阳能电池的地面应用,优化了三节电池（Ga0.5In0.5P/In0.02Ga0.98As/Ge）的双层反射膜（SiO2/TiO2, SiO2/ZnS）。同时讨论了在双层减反膜优化结构下,变化Al0.5In0.5P窗口层厚度引起反射率的变化。     

衬底表面处理对原子层沉积方式生长铂金薄膜的影响

在这篇文章中,我们利用原子层沉积(ALD)的方式在硅衬底上生长铂金(反应源是(CH₃C₅H₄Pt(CH₃)₃)和氧气)。将经过氢氟酸处理和氧气处理的两种类型硅衬底进行生长对比实验来探究衬底表面处理对原子层沉积方式生长铂金薄膜的影响。相对于经氧化处理的硅衬底来说,在氢氟酸处理的硅衬底上淀积铂金薄膜有较长的滞后时间且生长过程不同。此外,即使在原子层沉积铂金薄膜实验之前利用氢氟酸处理硅衬底以去除天然氧化层,淀积实验完成后在铂金和硅衬底界面处仍有一层中间氧化层。文章解释了导致这种差异性的原因。     

基于编码结构光的大型曲面三维测量

介绍了采用结构光彩色编码技术实现大型曲面测量的一种新方法.将由RGB三原色及其补色组成的彩色条纹进行组合,生成编码图案,并由投影仪投射到被测物体上.通过对摄像机拍摄的图像进行解码,获得物体的三维坐标.利用被测物体上的标志特征点,对物体进行分块测量.结合边缘检测及圆心检测确定分割线,对物体三维坐标进行分割、组合,实现了对大型曲面的三维测量.     

改良电镜固定方法对腹膜表面活性层的保护

有研究提示在腹膜表面有一层液体滞留层,它们粘附于腹膜表面,对腹膜的运转功能有十分重要的作用,尽管对腹膜表面液体层有种种猜测,在形态学方面这一活性层的存在却迟迟未能被证实。本文介绍使用了改良的固定方法,在透射电镜下第一次观察到了该活性层的存在。     

激光散射研究絮凝剂在水中的自然构象

用激光散射技术测量了无机高分子絮凝剂PAC,PAC-V在水中自然状态下的分子量、其颗粒的流体力学半径、回转半径、第2维里系数等参数,并根据流体力学半径和回转半径的比值导出絮凝剂的颗粒形态。从而较全面地了解絮凝剂在水中的自然构象,并证实了絮凝剂的分子量、其颗粒大小及形状不随浓度的改变而变化,但对絮凝效果有较大影响,这为确切探知絮凝机理提供实验数据和理论依据。     

不同吸光涂层对激光微织构加工性能影响研究

为了提高激光微织构加工效率和改善微织构加工质量,采用W-71s型喷枪在GCr15轴承钢表面分别喷涂用黑漆、水玻璃、黄料、磷酸锌和石墨制备的涂层。利用Nd:YAG激光加工机对其进行激光微织构加工,使用3维形貌分析仪对微凹坑的形貌进行了检测。结果表明,与无涂层试样相比,采用水玻璃和黄料涂层试样表面蚀除凹坑体积均增加,凹坑边缘熔渣体积均减少,其中黄料涂层表面蚀除凹坑体积增加了29.4%,水玻璃涂层凹坑边缘熔渣体积减少了64.9%;在一定条件下,复合涂层相比单一涂层具有更好的激光加工性能,其中黄料与水玻璃复合涂层的性能最为显著,与未经涂层的相比,凹坑蚀除体积增加了47.1%,凹坑边缘熔渣体积减少了43.2%。这一结果对提高激光微织构加工效率、改善微织构加工质量具有一定的指导意义。     

Influence of capping layer thickness on the polarization of photoluminescence of CdSe/ZnSe quantum dots grown by metalorganic chemical vapor phase deposition

The polarization of the photoluminescence (PL) of self-assembled CdSe quantum dots (QDs), grown by metalorganic chemical vapor phase deposition, was measured. From the (001) surface, the PL was found preferentially polarized in the direction, while from the cleaved surface in the [001] direction. The polarization of PL depends strongly on the ZnSe capping layer thickness and the PL energy. With an increase in ZnSe coverage, the intensity ratio was found to increase first, then decrease after the coverage is thicker than a critical value. Moreover, such a critical thickness is smaller for larger QDs (lower PL energies). Possible origins of the PL polarization are discussed. We suggest that besides the quantum confinement effects, the strain field in the QDs also plays an essential role in the observed polarization of PL.