Ti6A14V的射频激励等离子体浸没离子注入

本文利用电感耦台的射频激蛐产生的氨等离子体对Ti6A14V进行等离子体浸没离子注入．处理结果发现，随射频功率及氨离子注入剂量增加，Ti6A14V表面显微硬度增加；注入能量及剂量对材料摩擦磨损性能有显著影响，而且注入能量不同，最佳注入剂量电相应变化；射频激励下等离子体浸没离子注入具有注入和氮化双重作用。     

一种等离子体增强非平衡磁控溅射方法

本发明属于材料表面改性技术领域,特别涉及到磁控溅射沉积技术。该技术通过两个相对放置的ECR放电腔磁场线圈产生的磁场和平衡磁控靶磁场在沉积室叠加形成会切场磁场位型,该磁场位型有效地约束ECR放电和平衡磁控靶放电产生的等离子体,在薄膜生长表面形成高密度的离子、激活基团,通过控制基片位置、溅射偏压、沉积偏压等工艺参数,     

射频等离子体球化中钼粉颗粒加热过程的数值模拟

对射频等离子体球化中钼粉颗粒的加热过程进行研究可以为优化等离子体制备球形钼粉的工艺过程提供参考。采用了数值模拟的方法研究了线圈电流频率、粉枪位置及送粉速率等参数对钼粉颗粒在射频等离子体中的运动轨迹及加热过程的影响效应。结果表明:线圈电流频率较低时,等离子体炬轴线附近的温度更高,钼粉颗粒在等离子体中运动时能够达到的温度也更高;改变粉枪位置仅对粒径较小颗粒的运动和加热有较大的影响;降低送粉速率可以提高颗粒从等离子体中获得的能量,从而在一定程度上提升钼粉的球化率。     

冷场致弧光等离子体技术在表面工程中的应用

随着科学技术的发展，国防技术的现代化和人民生活水平的提高，对材料科学提出了更高的要求．各种材料表面改质改性的新技术不断出现。涉及利用等离子体能量的技术更是层出不穷．离子镀、磁控溅射，离子注入，离子束辅助沉积、等离子体喷涂、离子渗氮、离子渗硫、离子渗金属等技术发展很快，并得到了，不同程度的应用．在这些等离子体技术中利用冷场致弧光放电所产生的高密度金属等离子体技术，多弧离子镀，多弧离子渗金属则是属于更新的金属等离子体材料表面改质改性技术。     

活性屏等离子体源渗氮技术原理及应用

活性屏等离子体源渗氮技术是一种先进的渗氮技术,消除了常规直流等离子体渗氮技术的固有缺陷,且可处理聚合物材料及表面附着氧化皮的金属材料.本文介绍了活性屏等离子体源渗氮技术传质机理的研究进展,在改性低合金钢、不锈钢、工具钢、聚合物材料以及抗菌功能材料等方面的最新结果,评述了活性屏等离子体源渗氮技术存在的问题和发展趋势.     

等离子体表面工程新进展

概述了等离子体表面工程的主要内容、适用范围，着重从传统金属工业、聚合物、生物医用材料、制备纳米材料等5个方面说明了等离子体表面工程在该领域的应用，指出大气压下的等离子体技术和功能高分子材料等离子体表面处理技术是今后发展的重要方向。     

等离子体源离子注入表面改性研究及应用

采用等离子体源离子注入技术 (PSII)对W18Cr4V高速钢进行了氮离子注入。用俄歇能谱仪对注入层的成分进行了分析。对注入层的显微硬度和耐磨性进行了测试。用扫描电镜对摩擦磨损表面进行了分析。研究结果表明 :氮在注入层呈高斯分布 ,注入层的硬度和耐磨性均明显提高。对等离子体源离子注入技术在航空液压泵配油盘上的应用进行了研究。应用研究结果表明 :经等离子体源离子注入后的配油盘单位行程内回油量的增加量比未注入前下降约 90 % ,从而明显地增加了配油盘的使用寿命     

激光深熔焊接光致等离子体的控制

激光深熔焊接过程中，光致等离子体对激光能量有显著的屏蔽作用，严重影响了焊接质量，因此，对等离子体的控制技术成为研究的热点。本文在简要介绍等离子体形成、分类的基础上，系统归纳了国内外几种控制等离子体的方法，并对这几种方法进行了比较。其中，详细介绍了真空焊接法。     

活性屏等离子体源渗氮工艺特性及传质机制

为揭示活性屏等离子体源渗氮工艺特性（试样偏压电位和试样距屏高度）对AISI 316奥氏体不锈钢渗氮效果的影响规律,利用最小二乘法线性回归拟合了不同工艺条件下渗氮层厚度数据,绘制了活性屏等离子体源渗氮AISI 316奥氏体不锈钢的工艺特性图,以此确定其最佳工艺参数。并通过对金属网屏上溅射颗粒的化学成分和相结构分析,探讨了活性屏等离子体源渗氮的传质机制。结果表明：渗氮层厚度随试样距屏高度增大而降低,当适当降低渗氮气压或试样施加一定负偏压时,均有助于提高渗氮层的厚度,并且证实了"溅射-再沉积"模型是活性屏等离子体源渗氮重要的传质机制。     

射频感应等离子体反应沉积碳化钨

用射频感应等离子体将钨粉炭化成碳化钨，对炭化过后的粉末在氩气保护下，于l900℃进行烧结处理，并对在感应等离子体中钨粉被甲烷炭化的反应过程和在高温基体上碳与沉积物进一步反应的机理进行了研究。采用扫描电镜和X射线衍射仪分析了原始钨粉、炭化粉末和反应沉积物的显微组织和成分。结果表明，快速炭化反应开始于金属钨粉熔化后，颗粒尺寸为5μm的钨粉在等离子体中被部分炭化，完全炭化要靠反应沉积物在高温基体上与碳的进一步反应来实现，经炭化的钨粉在热处理时存在脱碳现象。     

涂层衬底的生产方法

本发明涉及一种方法,用于生产以材料处理的衬底,依此法：a）至少一个衬底被送入到一个抽空的真空接受器（真空室）中;b）待处理的衬底表面被曝露在一种反应气体下,反应气体被吸附在衬底表面上;C）结束衬底表面在反应气体下曝露;d）被吸附在衬底表面上的反应气体起反应,其特征在于;1）带有被吸附的反应气体的衬底表面被置于一个低能量的等离子体放电下,以其在衬底表面上的离子能量E10为0eV〈E10≤20eV,以其电子能量Eeo为0eV〈Eeo≤100eV;2）被吸附的反应气体至少在由等离子体产生的离子和电子的共同作用下起反应。     

等离子体处理对CFRP筒状件内壁活化效果的影响∗

为解决碳纤维增强树脂基复合材料（CFRP）筒状件内壁表面化学惰性较高导致与金属涂层结合强度差的问题，采用射频辉光放电对其内表面进行活化处理来提高其表面活性。通过接触角测试和红外光谱分析，探究等离子体处理气压、射频电源功率、处理时间和离子种类对活化效果的影响。结果表明，经射频辉光放电等离子体处理后 CFRP 筒状件内壁表面等离子体活化效果明显，表面能显著提高。其他工艺参数相同情况下，活化效果随气压增大先提升后降低，随射频电源功率和处理时间的增大而提高，以氧等离子体活化效果最佳。其中，在处理气压 0.5 Pa、射频电源功率 500 W、处理时间 60 min、氧等离子体条件下效果最为显著，水和二碘甲烷的接触角分别由 71.29°、49.36°降低到 4.93°、5.39°，表面能从 38.85 mJ·m^?2 提升到 74.73 mJ·m^?2 。通过红外光谱分析，经等离子体处理后的 CFRP 中 C-H 和 C≡C 等非活性键被打断，带有 C=O 的醛基和羧基活性基团增多，浸润性大幅提高。活化后的 CFRP 基体与金属薄膜的膜基结合力由不足 0.1 MPa 提升至 0.49 MPa。研究通过射频辉光放电对 CFRP 筒状件内壁表面进行活化处理，为制备高结合强度的金属涂层打下基础。     

ECR微波等离子体源离子渗氮

研究了一种新的低温渗氮方法－－电子回旋共振微波等离子体源离子渗氮。对纯铁、４５负和３５ＣｒＭｏ钢试样在１５０￣３５０℃进行渗氮处理，测定了渗氮层的硬度和晶体结构，结果表明，纯铁在低于２００℃的温度即可获得连续分布的表面氮化物层，３５ＣｒＭｏ钢在低于２５０℃温度处理也可获得离好渗氮层。     

银基体上铜等离子体基离子注入层的成分分布

研究了银基体上铜等离子体基离子注入 (CuPBII)层成分深度分布与试验工艺参数的关系。选择影响注入离子能量的脉冲偏压和注入剂量的不平衡磁控靶放电电流和靶基距作为试验参数 ,用X射线光电子谱 (XPS)进行注入层成分深度分析。结果表明 ,对较高的脉冲偏压 (80kV)、中等的磁控靶电流 (75mA)和近的靶基距 (2 0 0mm) ,容易形成厚的银铜过渡层 (7.6μm) ,且铜离子注入、铜原子的反冲注入与铜的沉积很好地匹配。与气体等离子体基离子注入不同 ,铜的沉积速率成为影响银铜过渡层的又一决定因素。     

等离子体源氮离子注入层的组织与性能

采用等离子体源离子注入技术，对Ｃｒ１２ＭｏＶ钢进行了氮离子注入，用俄歇谱仪和透射电镜对注入层的成分和组织进行了分析了，分析结果表明，注入层的氮浓度分布具有类高斯分布特征；注放入层中的马氏体组织被细化并有非晶态组织形成。显微硬度和摩擦性能测试结果表明，注入层的显微硬度和摩擦性能得到了明显的提高和改善。     

钨涂层及氧化镧合金面对等离子体材料研究

介绍了等离子体喷涂钨涂层和粉末冶金钨氧化镧合金面对等离子体材料的制备,并对其进行了性能分析,主要包括微观结构、杂质含量、气孔大小及气孔率分布、结合强度、热导率以及热负荷疲劳性能和承受能力。结果表明:真空等离子体喷涂钨涂层性能比大气喷涂钨涂层性能优越,是更为合适的钨涂层制备技术。真空喷涂钨涂层具有较低的气孔率、较高的热导率、较低的杂质含量和较优异的热负荷性能,能够承受10 MW/m²、100周次疲劳测试。氧化镧弥散掺杂相具有钉扎作用,能够抑制钨烧结过程中的长大,有效提高钨材料强度,改善热负荷性能,W-1%La₂O₃(质量分数)材料能够承受6MW/m²的热负荷。     

非阀金属的等离子体电解氧化研究进展

等离子体电解氧化技术通常用于Al、Mg、Ti等阀金属表面形成高性能陶瓷层,较少涉及非阀金属。主要介绍了碳钢、铜、锌及其合金等“非阀金属”的等离子体电解氧化技术的最新进展。列举了碳钢在不同的电解液成分、电参数、氧化时间等工艺参数条件下制备所得涂层的相关性能,阐述了碳钢在等离子体电解氧化过程中绝缘膜击穿优于气膜击穿的成膜理论。分析了铜及其合金在硅酸盐、铝酸盐、磷酸盐及其混合电解液中的等离子体电解氧化行为,并探究了涂层的耐腐蚀和耐摩擦性能及形成机理。阐述了在不同的工艺参数下锌及其合金在耐腐蚀、耐摩擦、气敏传感和生物降解性的研究,并且论述了阀金属与非阀金属成膜的差异所在。最后,对非阀金属等离子体电解氧化技术后续的发展进行了展望。     

低压等离子体弧源离子渗氮

利用低压等离子体弧源离子渗氮技术,在约４００ ℃、４ ×１０ － １ Ｐａ 真空度条件下对奥氏体不锈钢、纯铁进行了低温渗氮表面强化处理。奥氏体不锈钢表面形成的渗氮层由氮在奥氏体中的过饱和单相固溶体组成,具有很高的硬度和良好的耐蚀性。纯铁渗氮层则由化合物层和扩散层组成。这种渗氮方法完全避免了工件表面产生弧光放电     

等离子体源氮离子注入层的组织与性能

采用等离子体源离子注入技术，对Ｃｒ１２Ｍｏｖ钢进行了氮离子注入。用俄歇谱仪和透射电镜对注入层的成分和组织进行了分析，分析结果表明：注入层的氮浓度分布具有类高斯分布特征；注入层中的马氏体组织被细化并有非晶态组织形成。显微硬度和摩擦性能测试结果表明，注入层的显微硬度和摩擦性能得到了明显的提高和改善。     

直流电弧等离子体法制备纳米锌粉及机理

采用自行研制的高真空三枪直流电弧等离子体蒸发金属纳米粉体连续制备设备,制备出平均粒径在30～45 nm的纳米锌粉.利用XRD、XRF、TEM以及Simple PCI软件等测试手段对样品的晶体结构、成分、形貌和粒径分布进行表征,并从产率和粒径方面对纳米锌粉的制备机理进行了探讨.结果表明,氢气的加入提高了熔体温度,增加了实际蒸发面积;等离子体产生的过冷度,以及由于循环风量的增加而加剧锌蒸气分子的碰撞形成的过冷度,保证了锌蒸气细小晶核的形成.