高亮度绿色OLED的制备与光电性能研究

利用高精度膜厚控制仪,实现有机薄膜功能材料真空热蒸镀,制备了一种多层结构ITO/CuPc(20nm)/α-NPD(60nm)/Alq3(40nm):C545T(2%)/Alq3(20nm/LiF(1nm)/Al(100nm),获得了发射峰位于525nm稳定的绿色有机电致发光二极管(OLED),其起亮电压为2.5V,驱动电压在20V时亮度为10,500cd·m-2,色坐标(CIE)x=0.331、y=0.625,最大流明效率为3.921m·W-1。     

发光层掺杂蓝色OLED的光电性能研究

采用真空热蒸镀技术,在不同的掺杂浓度下,制备了4种双异质型结构的蓝色有机电致发光器件(OLED),其结构为ITO/CuPc(30 nm)/NPB(40 nm)/TPBi(30 nm):GDI691(x%)/Alq3(20 nm)/LiF(1 nm)/Al(50 nm),其中x%为发光层掺杂浓度,分别取1、2、3和4 %.从实验结果分析可知:蓝色OLED的电流-电压(I-V)特性曲线、亮度-电压(L-V)曲线、亮度-电流(L-I)曲线及效率等光电性能随着发光层掺杂浓度的变化而改变.当驱动电压为15 V、掺杂浓度为3%时,器件可获得最大亮度6100 cd·m-2,色坐标CIE为x=0.147、y=0.215,最大流明效率为1.221 m·W-1,电致发光(EL)发光光谱的峰值为468 nm.     

印刷法制作防热拱起荫罩

在ＣＲＴ生产中，预防荫罩热拱起的传统方法是采用喷涂电子反射涂层法。一种网板印刷法已研制出来，作为替代在６４ｃｍ、７４ｃｍＣＲＴ中制作阴罩涂层时所用的喷涂法，与喷涂法相比较，网板印刷法具有成本低、显示质量高和制造余度大的优点。     

压电印刷OLED优化及其应用

有机电致发光显示器(OLED)因具备低功耗、自发光、高柔性、色彩丰富和响应速度快等优势,被认为是未来显示的发展方向.随着压电喷墨打印的无接触、液滴精准定位和大面积快速印制等技术的引入,使得大尺寸OLED的量产应用成为可能.印刷喷射过程中的液滴均匀性对高质量OLED功能层的形成起着至关重要的作用,为此,本文综述了压电印刷...     

真空蒸镀金属包装材料的技术进展

金属包装材料用途广泛,但制造工艺较为复杂,以往生产成本高,浪费大,而今世界一些发达国家采用连续生产线生产,使真空蒸镀金属薄膜技术有了新的进展。     

以TPBi为发光主体的蓝光OLED器件研究

采用真空热蒸镀技术,以TPBi为蓝光主体材料制备了一类多层结构的蓝色有机发光二极管(OLED),其结构为:ITO / CuPc(30 nm)/NPB(40 nm)/TPBi(30 nm)∶GDI691(x%)/Alq3(20 nm)/LiF(1 nm)/Al(50 nm),其中x%为发光层掺杂浓度,实验中分别取1%,2%,3%和4%.从测试结果分析可知:蓝色OLED器件的电流-电压特性曲线,亮度-电压曲线,亮度-电流曲线及效率等光电性能随着掺杂浓度的变化而改变.当掺杂浓度为3%,驱动电压为15 V时,可获得稳定的蓝光器件,其最大亮度为6 827 cd·m-2,色坐标CIE为x=0.147,y=0.215 ,最大流明效率为6.77 lm·W-1,电致发光光谱的峰值为468 nm.     

OLED中的激光技术

Sony公司研发了用于有源OLED的μc-Si TFT技术,采用二极管激光热退火(Diodelaser Themlal Anneal,DLTA)方法制备了μc-Si TFT阵列,在大显示面积上获得了均匀而稳定的发光像素驱动电流.另外,Sony公司还研发了激光导致的像素图形升华沉积技术(LaserInduced Pattem-wise Sublimation,LIPS),以玻璃基板为施主衬底,将OLED发光材料精确转移到了显示基板上.采用LIPS技术制作的RGB像素图形具有非常高的精度.基于DLTA和LIPS两项激光技术,Sony公司制作了27.3 in的OLED电视,为OLED电视的批量化生产提供了一个可行的技术方案.     

相加法制作双面印刷电路板新技术

相加法制作双面印刷电路板新技术长春光机学院张南哲苏春辉许素莲（１３００２２）一汽延边汽车厂张学哲（１３３０００）本文在单面印刷电路板制作新工艺的基础上研究了双面印刷电路板的制作新工艺。１双面印刷电路板的制作新工艺用导电糊制作双面印刷电路板的主要工艺流...     

OLED用蒸镀速度精密控制蒸发源阀式裂化设备元件技术

有机材料的蒸镀与金属半导体等无机物存在不同的技术课题。这些有机物具有以下的特征。     

方兴未艾的OLED

OLED的相关技术 OLED器件的结构通常如图1所示,在每个像素的阴阳电极之间包括有五层薄膜：HIL、HTL、EML、ETL和EIL,这五层薄膜的总厚度只有100～200nm左右。整个镀膜制程是在高真空环境下完成的;像素与像素之间用绝缘材料隔开,以防止加电时的相互串扰;由于有机材料和金属阴极对水气和氧气特别敏感,因此在封装制程中使用了水蒸气和氧气渗透率极低的密封胶和封盖,并在器件内部加了干燥剂用于吸收内部极少量的水蒸气和氧气成分,同时为了保证能充分将其隔离,封装制程必须在纯度高达99．999％的氮气环境下完成。     

功能层界面制备方法对OLED性能的影响

在功能层界面处采用各功能材料共蒸的方法,制备了典型的绿光有机发光器件(OLED)。器件的结构为ITO/NPB(37nm)/(NPB:Alq3)(3nm)/Alq3(27nm):C545T(3%)/Alq3(20nm)/LiF(1nm)/Al(100nm),并与传统的制备方法进行了比较。结果发现,起亮电压从4.5V降低到2.5V,最高耐压从16V提高到21V,最大亮度从13 940cd/m2提高到24 630cd/m2,发光效率由7.0cd/A提高到11.4cd/A。结果表明,本文方法有利于载流子传输,可以有效提高激子形成概率,提高了OLED发光效率。     

OLED Mg/Ag阴极的真空蒸镀及成膜特性

探讨了Mg阴极和Ag阴极的真空蒸镀工艺,Mg蒸镀电流在85A左右时压强开始迅速上升,但Mg原子并未被蒸镀到基底上.随着压强值迅速下降至约上升前的压强值2.6×10-3Pa时,Mg原子开始被蒸镀到玻璃基底上,这与Ag等其他金属阴极材料的蒸镀过程有很大不同.研究还发现热处理可以使Mg薄膜更加致密,表面粗糙度降低,附着力增加.     

用于便携产品的OLED显示器

RiTdisplay公司从1998年开始从事OLED技术的开发,总部位于中国台湾,目前有两个面板加工厂。RiTdisplay的OLED产品涵盖单色双色和全彩色方案,屏幕大小从1.0英寸到2.2英寸不等。OLED显示器主要面向便携产品的显示应用,目前以手机和MP3的应用最多。目前手机中应用的主要是全彩色OLED显示器,摩托罗拉、飞利浦、泛泰、NEC等多款手机均采用了RiTdisploy的全彩色OLED显示器。而双色OLED显示器主要用在MP3播放器,人们比较熟悉的爱国者MP3播放器,用的也是RiTdisplay的双色OLED显示器。     

OLED重点公司美国专利分析

本文通过研究与OLED产业密切相关的四家公司(索尼、三星、铼宝、维信诺)在美国的专利布局情况发现:索尼和维信诺近年OLED领域美国专利申请量有增加态势,三星2006～2008年出现下降,但2009年有小幅回升,预计未来呈增加趋势,而铼宝呈下降态势,并分析了原因;索尼OLED美国专利技术主要集中在控制装置和电路等,三星和维信诺主要集中在电极等零部件,而铼宝主要集中在有机固态器件等。本文为我国相关企业了解竞争对手,突破专利壁垒等提供参考。     

应用材料公司推出全新技术成就下一世代LOD和OLED显示

日前,应用材料公司宣布推出全新的PVD和PECVD技术,用于制造下一世代的超高分辨率（UHD）电视以及移动设备的高像素密度屏幕。实现这一重大变革的关键在于这两项技术使用了全新的金属氧化物和低温多晶硅材料,从而生产出更快、更小的薄膜晶体管（TFT）,用于LCD和OLED技术。     

索尼XEL-1 OLED电视

能形容这玩意儿的形容词只有一个：“薄“，或者再加上一个“超薄”、“非常薄”、“薄极了”之类的惊叹词。毕竟3毫米的厚度可不是盖的啊!显然，索尼很希望你在看到它不可思议的薄度、1000000：1的对比度和壮观的画面后能忘记它只有11英寸大，分辨率也只有960×540像素。     

空穴注入层2T-NATA对OLED器件性能的影响

为了提高有机电致发光器件OLED的发光效率,引入2T-NATA作为空穴注入层,制备了结构为ITO/2T-NATA(Xnm)/NPB(25nm)/Alq3:C545T(20nm:质量分数4.5%)/Alq3(30nm)/LiF(1nm)/Al(100nm)的绿光器件,其中X为空穴注入层2T-NATA厚度。分析了2T-NATA的蒸镀厚度分别0,5,10,15,20,25,30,35nm时器件的发光性能。结果表明,2T-NATA的HOMO能级较好的与ITO功函数匹配,降低了空穴注入势垒,引入空穴注入层2T-NATA提高了器件的发光亮度和效率。当2T-NATA厚度为15nm时,器件的效果最好,起亮电压只需2.87V,亮度最高达到18000cd/m2,是不引入空穴注入层亮度的5倍多,在12V时发光效率可达11.4cd/A。