Ni-ZrO2复合电镀工艺的研究

研究了Ni-ZrO2复合镀液体系中微粒与镀液间的相互作用.镀液中的电解质NiSO4和NiCl2对ZrO2纳米微粒在复合镀液中的悬浮稳定性有很大影响.阴极极化曲线表明纳米微粒的加入改变了基质金属电沉积的过程.以高分子聚电解质作为分散剂,利用其在微粒之间形成的空间位阻效应,减弱镀液中离子对微粒的聚沉作用,得到了均匀分散的ZrO2纳米微粒的复合镀镍溶液,并对各种镀层的形貌和硬度进行了分析.     

Ni-ZrO2纳米微粒复合镀层性能研究

采用正交试验对Ni-ZrO2纳米微粒复合电镀中影响镀层硬度和耐蚀性等性能的电流密度、镀液温度、极间距、ZrO2纳米微粒质量浓度等因素进行了实验研究,并测定了镀层的形貌、结构、硬度、耐蚀性和结合强度.结果表明Ni基纳米微粒ZrO2复合电镀可以改变镀层的硬度及耐蚀性,且有较好的结合强度.实验研究条件下最优工艺条件为:θ为4...     

纳米Ni-ZrO_2复合电镀研究

采用纳米Ni-ZrO2复合镀液共电沉积Ni-ZrO2复合镀层;结果表明,以咪唑啉作为分散剂,能得到均匀分散的ZrO2纳米粉体的复合镀镍溶液;pH为3.0-4.0、电流密度为1.4A/dm2和慢速搅拌条件下,可以获得较好Ni-ZrO2复合镀层。对镀层进行了腐蚀、扫描电镜、X-射线衍射测试。     

纳米复合镀层的制备及性能研究

以铁片作为基材,采用电镀工艺制备Ni-ZrO2纳米复合镀层。研究了温度、pH值、时间及ZrO2的质量浓度对复合镀层性能的影响。通过实验得出最佳的工艺参数为:ZrO21.5g/L,pH值4～5,50℃,60min。采用扫描电子显微镜观察复合镀层的微观形貌,并通过XRD分析其相组织成分。结果表明:复合镀层表面光亮,微粒均匀、细小;其相组织成分主要为Ni,ZrO2和Ni-ZrO2。     

Ni-ZrO2纳米复合电铸层耐蚀性的研究

用静态浸泡实验法研究了镍镀层和Ni-ZrO2纳米复合电铸层在质量分数分别为10% HCl溶液和10% H2SO4溶液中的耐蚀性.用SEM观察了各种样品腐蚀后的表面形貌,分析了纳米ZrO2微粒复合量对复合电铸层耐蚀性的影响,同时对纳米复合电铸层的腐蚀机理进行了初步探讨.结果表明,脉冲纳米复合电铸层的耐蚀性明显优于相同条件下制备的镍镀层,镀液中纳米ZrO2悬浮量对提高纳米复合电铸层耐蚀性有一定程度的影响.     

工艺参数对Ni-ZrO_2纳米微粒复合镀层性能的影响

采用脉冲电源,在铜表面制备了复合镀层,研究了占空比、镀液中ZrO2纳米微粒添加量和脉冲频率对复合镀层的硬度、沉积速率和耐蚀性的影响。结果表明,随脉冲占空比的增加,镀层硬度、沉积速率和耐蚀性能均呈现先增大后减小的趋势;ZrO2纳米微粒的增加使镀层硬度增加,而沉积速率和耐蚀性能为先增大后减小;随脉冲频率的增加,镀层硬度、沉积速率及耐蚀性能均增加。最佳工艺参数应控制占空比为50%、ZrO2纳米微粒质量浓度9g/L、脉冲频率2000Hz。     

脉冲电沉积Ni-ZrO2复合镀层形貌的研究

着眼于优选电沉积工艺条件,以期制备出良好形貌的复合镀层,系统考察了峰值电流密度、占空比和微粒的质量浓度对脉冲电沉积Ni-ZrO2复合镀层形貌的影响。结果表明:Ni-ZrO2复合镀层的形貌质量随峰值电流密度的增加和微粒质量浓度的升高呈现出先改善后恶化的趋势,但随占空比的增大逐渐变差。在峰值电流密度7A/dm2,占空比20%,微粒的质量浓度20g/L的条件下,所得Ni-ZrO2复合镀层的形貌质量最优。     

SiO2质量浓度对Au-SiO2复合镀层结构与性能的影响

采用复合电镀技术制备了A u-S iO2纳米微粒复合镀层,研究了镀液中S iO2纳米粉体的浓度对A u-S iO2纳米微粒复合镀层结构与性能的影响,并用扫描电子显微镜(SEM)及能谱仪(EDX)对复合镀层进行了表面形貌和能谱分析,使用X-射线衍射仪(XRD)测试分析了粉体对金镀层组织结构的影响。结果表明,随着镀液中S iO2浓度的增加,镀层中S iO2含量与镀层硬度随之增加,在镀液中S iO2质量浓度为15 g/L时,两者出现最大值;另外S iO2粉体的加入细化了复合镀层的结晶结构。     

复合镀铜溶液中微粒与镀液间的相互作用

研究了复合镀铜溶液中SiO2、La2O3、BN以及SiC微粒与镀液间的相互作用。通过测定镀液的pH以及微粒表面的Zeta电位,研究了微粒对镀液中氢离子以及铜离子的吸附。结果表明,加入复合镀铜溶液中的SiO2、La2O3、BN以及SiC微粒不仅吸附了镀液中的氢离子,同时还吸附了镀液中的铜离子,致使镀液的pH上升,微粒表面荷正电。纳米粒子对镀液中荷电粒子的吸附能力较微米粒子更强。     

SiO_2微粒对化学镀Ni-P-SiO_2复合镀层性能的影响

采用化学复合镀技术制备了化学镀Ni-P-SiO_2复合镀层,并研究了SiO_2微粒的质量浓度对化学镀Ni-P-SiO_2复合镀层性能的影响。结果表明:SiO_2微粒嵌入镀层内部或附着在镀层表面,但当SiO_2微粒的质量浓度过高时SiO_2微粒出现团聚现象;无论是镀态还是热处理后,化学镀NiP-SiO_2复合镀层的显微硬度均随SiO_2微粒的质量浓度的增加而增大;当SiO_2微粒的质量浓度为12 g/L时,化学镀Ni-P-SiO_2复合镀层的耐蚀性最好;SiO_2微粒只是机械地掺杂在镀层中,并没有改变镀层的晶体结构。     

Ni—ZrO2复合镀层的形成及其高温氧化性能

试验结果表明在Ni-ZrO_2复合镀层的形成过程中,当电流密度<2A/dm~2时,ZrO_2共沉积量将随着电流密度的增大而增加;而当电流密度>2A/dm~2时,ZrO_2共沉积量将随着电流密度的增大而减小,?这个趋势较不明显.前者的律速步骤是第二吸附步骤——强吸附;而后者是由第一吸附步骤——弱吸附控制.含有ZrO_2的复合镀层的氧化速度明显低于纯Ni镀层,并且随着复合镀层中ZrO_2含量的增加,它的氧化速度也相应随之降低.含有5.6%ZrO_2复合镀层和纯Ni镀层相比较,它的高温抗氧化能力可以提高约1～3倍.     

发光化学镍复合镀层(英文)

在90℃下,采用含有25 g/L硫酸镍,20 g/L次磷酸钠、35 g/L柠檬酸钠、0～6 g/t,卤磷酸钙和15 g/t.硫酸铵的镀液(pH 5.5),制备了基于卤磷酸钙的发光化学镍复合镀层.研究了镀液pH对复合镀层的沉积速率及卤磷酸钙含量的影响.采用硬度测量、磨损测试、腐蚀试验、紫外光谱,扫描电镜和X射线衍射对复合镀层进行了表征.在最佳卤磷酸钙质量浓度(4 g/L)下所得的复合镀层含77.59%(质量分数)镍、7.58%(质量分数)磷和14.83%(质量分数)卤磷酸钙.由于卤磷酸钙是硬质粒子,随着其嵌入量的增多,复合镀层的硬度增大.在存在卤磷酸钙的条件下,化学镍复合镀层的耐磨和耐蚀性能均显著提高.     

中温酸性纳米化学复合镀Ni-P-ZrO2的研究

研究了中温酸性环境下影响化学复合镀Ni-P-ZrO2工艺的主要因素,通过实验探索了ZrO2纳米颗粒的用量、搅拌速率、pH和温度对镀液及镀层性能的影响.获得了最佳工艺如下:ZrO2粒子用量30 mg/L,pH=5,搅拌速率500 r/min.在此工艺下所得镀层的显微硬度为650 HV,与Ni-P合金镀层的相对耐磨性为4.6,耐硝酸点蚀时间大于150 s,镀层磷含量为6.80%,ZrO2含量为17.6%.     

镍-纳米二氧化钛复合镀层的制备及性能

以多孔泡沫镍为基体,通过在瓦特镀镍液中复合电沉积,得到Ni-TiO2复合镀层.研究了阴极电流密度、pH、时间、镀液中纳米TiO2质量浓度及分散剂种类对Ni-TiO2复合镀层的TiO2含量、表面形貌及光催化性能的影响.通过正交试验得到最佳工艺条件为:TiO2质量浓度10g/L,pH=4.0,阴极电流密度30 mA/cm2...     

连续电镀锌镍合金的研究

提出了一种高氯化铵弱酸型镀液体系连续电镀锌镍合金工艺，研究了m(Ni^2 )/[m(Ni^2 ) m(Zn^2 )]、氯化铵浓度，电流密度、温度、PH值对镀层镍含量的影响，推导出连续镀的镀速计算公式，采用此工艺可获得外观良好、镍含量在13％－15％的锌镍合金镀层。     

Ni-ZrO2纳米复合电铸层抗高温氧化性能的研究

通过间歇式抗高温氧化实验,建立了纯镍电铸层和N i-ZrO2纳米复合电铸层高温氧化动力学模型,分析了电铸层表面和横截面的形貌,测定了电铸层的组织结构。结果表明,N i-ZrO2纳米复合电铸层抗高温氧化性能明显优于纯镍铸层,复合电铸层表面生成的氧化膜晶粒细小且致密,并且该氧化膜较薄,产生的内应力较小,与复合电铸层的黏附性较好。     

Fe-Al2O3耐磨性复合镀层

以二氯化铁无刻蚀电镀工艺为基础,在氯化亚铁单盐(ρ=300~400g/L)中加入Al2O3惰性粒子,制备了Fe–Al2O3复合镀层。讨论了镀液中颗粒含量及电流密度对镀层中颗粒含量的影响,结果表明:镀层中Al2O3的含量随镀液中Al2O3的含量增加而增加,当镀液中Al2O3的含量继续增加到50g/L时,惰性粒子在复合镀层中的含量达到最大值;当电流密度达到25A/dm2时Al2O3在镀层中的共沉积量出现高峰。测试结果表明,该复合镀层耐磨性、耐腐蚀性都较好。     

次磷酸钠化学镀铜镍合金的研究

研究了以次磷酸钠为还原剂的化学镀铜过程。分析了温度、pH、硫酸镍含量对化学镀铜沉积速率的影响及镀层的表面形貌和结构。结果表明,沉积速率随着镀液温度、pH和N i离子浓度的提高而增大。镀层组分含量和XRD实验结果表明镀层为铜镍合金,呈面心立方结构,晶面间距d与晶胞参数a与标准Cu-N i的相比略大。SEM实验表明,镀层表面形貌为团粒状,颗粒大小较不均匀。     

三维电极法去除配位电镀废水中的镍离子和铜离子

将颗粒状活性炭作为三维电极的粒子,采用三维电极法去除配位电镀废水中的镍离子和铜离子。考察了pH值、电流、极板间距、炭水比(粒子电极活性炭与处理水量的体积比)对镍离子和铜离子去除率的影响。在设定的范围内,镍离子和铜离子的去除率随pH值的升高呈现先升后降的变化趋势,随电流和炭水比的增大而升高,随极板间距的增大而降低。当废水中镍离子和铜离子的初始质量浓度分别为82.309 3mg/L和52.761 5mg/L、活性炭的体积为1 000mL、处理时间为2.0h时,最佳的处理工艺条件为:pH值4、电流0.6A,极板间距20cm,炭水比10∶9。此时,镍离子和铜离子的去除率分别为83.40%和86.20%。出水经过混凝沉淀后,镍离子和铜离子的去除率分别达到99.87%和99.68%,在出水中的质量浓度分别为0.107 2mg/L和0.169 3mg/L,出水水质达到《电镀污染物排放标准》(GB 21900—2008)中表2的排放限值。     

指甲花萃取物对镍从瓦特镀液中电沉积的影响(英文)

采用赫尔槽试验、分散能力测定法、扫描电镜、X射线衍射、能谱分析、硬度测量及交流阻抗谱,研究指甲花萃取物(主要成分为2-羟基-1,4-萘醌)对镍从瓦特镀液中电沉积(以低碳钢为基体)的影响。在温度40~50°C和pH4.5~5.0的条件下,从含60mL/L指甲花萃取物的瓦特镀镍液中得到的镀层具有良好的耐蚀性和硬度。指甲花萃取物作为瓦特镀镍液的添加剂,极大地提高了镀液的分散能力和电流效率。在最佳指甲花萃取物浓度下所得的镀镍层为晶态,结晶细致。