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一、前言反应性离子沉积是一种物理气相沉积技术。根据其工艺过程和装置的不同可分为离子镀(I.P)、反应性离子镀(R.I.P)和活性反应蒸镀(A.R.E)等多种方法。中空热阴极离子镀(H.C.D)属于反应性离子镀。它是以空心阴极性等离子电子束作为蒸发源的离子镀设备。离子镀有如下优点: 1.离子轰击对工件表面有清洗作 相似文献
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对硬质合金刀具进行磁控溅射离子镀TiN 处理,并将其与未镀层硬质合金刀具试样在相同的条件下进行滑动摩擦实验,比较其摩擦磨损性能并分析了磨损机制.结果表明,磁控溅射离子镀TiN涂层能使刀具获得高硬度层,有效降低刀具表面的摩擦因数,明显提高硬质合金刀具的耐磨性能. 相似文献
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<正> 四、高真空电弧放电型离子镀高真空电弧放电型离子镀是在ARE法的基础上发展起来的。它如图13那样在E型枪蒸发源附近装备了电离电极和热电子发射电极。当电子束使蒸发材料蒸发后,由于电离电极的存在,在蒸发材料本身的蒸汽压及高温蒸发源发射的热电子作用下,产生弧光放电。因为它不需使用任何放电气体(如常 相似文献
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大多数机械零件往往是由于磨损、腐蚀、疲劳等与表面有关的原因而导致失效。为了提高零件的使用寿命,除了正确地选择材料,合理地确定冷热加工工艺之外,改进零件表面性能,已成为重要的研究课题之一。用蒸镀方法在零件表面上,沉积一层与基体材料的物理化学性能不同的薄膜称之为,蒸镀薄膜技术。蒸镀薄膜的工艺,主要有化学气相沉积(CVD),溅射(Sputting)和各种离子镀(如离子镀Mattox法、射频离子镀RF.I.P、空心阴极型离子镀HCD.I.P、感应加热离子镀(I.Gum.I.P)、低压等离子 相似文献
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黄锡森 《中国制造业信息化》1990,(3)
四、高真空电弧放电型离子镀高真空电弧放电型离子镀是在ARE法的基础上发展起来的。它如图13那样在E型枪蒸发源附近装备了电离电极和热电子发射电极。当电子束使蒸发材料蒸发后,由于电离电极的存在,在蒸发材料本身的蒸汽压及高温蒸发源发射的热电子作用下,产生弧光放电。因为它不需使用任何放电气体(如常用的氩),所以这种放电可以在高真空下实现。同时当蒸发材料迁移时,在靠近蒸发源处便即电离,所以蒸发材料的离子化率非常 相似文献
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溅射沉积和离子镀是当前最先进的镀膜枝术。一离子镀1963年,D.M.Mattox开发了离子镀技术,它是在蒸镀的基础上发展起来的。蒸镀是在10~(-5)~10~(-6)托的真空容器中用加热的方法使镀膜材料蒸发出原子或分子,飞向工件表面而凝聚成一片薄膜(图1)。如果让蒸发粒子通过由氩气或其它气体辉光放电所形成的等离子气体区域,或由炽热的钨丝放射并经电场加速的电子云区域,则部分蒸发粒子变成离子。用高压直流电场把离子加速。高速离子与中性蒸发粒子相碰 相似文献
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《机械工人(热加工)》2004,(11):6-6
中英合资昆山古特先进涂层有限公司是一家专业化生产先进涂层产品的高技术企业。公司从英国Teer涂层公司引进先进的“封闭场非平衡磁控溅射离子镀(CFUBMSIP)”专利技术和UDP系统涂层设备。可制备各种具有多元、多层复合、微纳米结构特性的超硬耐磨涂层、固体润滑减摩涂层,以及最新的 相似文献