TL全光亮化学镀镍磷合金工艺研究

研究全光亮化学镀镍层的主要技术条件，光亮剂的选择，被镀件表面状态对镀层光亮度的影响，合理施镀工艺条件。结果表明：该工艺可获得全光亮镀层，孔隙率低，耐蚀性能好，同时，对镀液的沉积速度、稳定性，装载量、pH值及施镀温度对镀层光亮度的影响均进行了试验。完成TL-013、TL-014两种全光亮化学镀镍磷合金浓缩液配方和完善的施镀工艺。     

SR-1酸性镀亮锡工艺实践

硫酸盐镀锡电流效率高，沉积速度快，可以在室温下施镀，外观光亮细致，深度能力好，近年来发展很快，国内外开发了不少新工艺。采用SR——1酸性镀亮锡工艺，对铜铁件、钢、锌、铝及其合金基本金属进行施镀，其装饰性可焊性都满足设计要求，本作对SR-1酸性镀亮锡工艺及其优异特点作了阐述。     

中温酸性化学镀镍工艺研究

研究了酸性化学镀镍体系镀液的主要成分、pH值和施镀温度对镀层沉积速度的影响，获得了优选的中温酸性化学镀镍工艺配方，并测定了镀层的结合力、硬度和耐蚀性。该工艺具有较好的工业应用价值。     

脉冲静镀工艺的探讨

本文介绍了应用脉冲静镀工艺对加工超差的批量花键抽键槽侧面进行施镀，并取得了成功。指出脉冲静镀是一种能获得良好镀层、提高工作效率的工艺方法，值得推广。     

滚镀光亮镍工艺探讨与实践

滚镀光亮镍存在的一些问题,需要在生产过程中才能发现并得以解决。本文总结了维护滚镀光亮镍镀液的经验,分析了镀液性能以及一些工艺参数对生产成本的影响。提高镀液的导电性,采用较低的电压并增加阳极面积,在较低温度和较高 pH 值条件下施镀,可以降低光亮剂的消耗量,提高镀液的稳定性。     

电刷镀Monel合金

蒙乃尔(Monel)合金是一种机械性能和加工性能好、耐腐蚀性强的Ni—Cu合金。Ni—Cu晶态合金镀层有良好的耐腐蚀性、耐磨性和较高的硬度，并具有良好的导电性和可焊性，其综合性能较Ni—P合金优越得多。采用电刷镀技术，利用X光衍射仪等测试手段，对Ni—Cu合金刷镀溶液的配方组成、施镀工艺、镀层组织结构及成份进行了分析研究，从而确定了Ni—Cu镀液的组成及刷镀工艺。     

非晶态镍磷合金电刷镀研究

采用电刷镀技术，利用扫描电镜，能谱分析仪，Ｘ光衍射仪等测式手段，对非晶态镍磷合金镀层组织结构，成份进行了分析和研究，从试验中确定非晶态镍磷合金刷镀液合理组成及添加剂的种类和数量；选择了合理的施镀及热处理工艺。成功地刷镀出含磷在７％－１３％并可含有合金元素的多种非晶态镍磷合金镀层。     

无氰镀镉在我厂的应用

叙述了应用氨三乙酸无氰镀镉的镀液成分，工艺条件和故障分析，实验证明这是一种理想的无氰镀镉工艺，适用于水兵兵器及航空航天产品的防护。     

滚镀工艺中的几个技术问题

滚镀加工具备大批量，高速度的加工能力，能弥补挂镀工艺中质量上难以克服的某些弊端，为进一步提高滚镀技术的工艺水平，重点介绍了滚镀需要注意的操作要点，提出了改进产品质量的建议，对滚镀溶液的维护与故障排除方法，生产工艺中的节能措施，阳极配置要求，设备的改进等有详细的论述。     

低磷镍合金电刷镀的研究

采用扫描电子显微镜，能谱分析仪，Ｘ光衍射等对低磷（１－２％）镍合金镀层组织结构，成份进行了研究分析，从而确定了低磷镍合金镀液的组成及添加剂数量，形成了多种低磷合金电刷镀液及合理施镀工艺，研究结果表明，所取得的镀层具有较高的硬度（ＨＶ可达６１０～８５０）。通过摩擦磨损性能试验证明，镀层具有良好的耐磨性能，且与基体结构良好该镀层虽不是非晶态合金，但镀层性能优良，是电刷镀液中的新品种。     

镍钨(D)合金刷镀工艺的优化

就镍钨（Ｄ）合金刷镀中电极运动速度,施镀电压两个参数对结合力及硬度的影响进行了试验,从而得到镍钨（Ｄ）合金镀液的优化工艺参数,通过优化试验,提出了获得最高硬度及最佳结合力镀层的施镀工艺。     

一种非晶态化学镀金属材料新工艺

一种非晶态化学镀金属材料处理新工艺日前在河北深州市净水设备器材厂研制成功，并取得了国家技术专利。该工艺是通过化学催化反应在金属表面沉积一层非晶态物质，施镀过程中不需要电流，镀件不同形状的部位沉积层均匀。应用此工艺可以用普通碳钢代替不锈钢和合金钢，甚至替代钛合金。     

光亮铁合金刷镀液

用二价铁盐配制刷镀液，加入稳定剂及抗氧化剂，使之能长期使用和存放，不产生沉淀，不变质。镀液ＰＨ值较高，施镀时采用较低电流密度即可获得高沉积速度。镀层具有较高硬度和耐磨性。     

实用镀黑铬工艺

介绍了一种镀黑铬工艺。阐述了镀液中各成分的作用及镀液的维护，分析了常见故障的原因并提出了解决方法。     

锌酸盐镀锌液中锌测定的改进

1问题提出无氰锌酸镀锌工艺的特点是组份简单，消除了氰化物污染，镀液分散能力、深镀能力较好，镀层质量较优，成本低，不腐蚀钢铁设备，适宜于自动线生产。特别是近几年来国内外电镀工作者对该工艺的添加剂方面及槽液维护方面做了许多工作，使该工艺日趋完善。在对该镀液中Zn的分析测定过程中，我们发现采用传统的分析方法颜色变化反复，终点不明显，造成滴定结果波动较大。为此，我们对原方法做了必要改进，改进后的方法终点明显，颜色不反复。下面本文就笔者在锌酸盐镀锌中Zn的分析测定做简单介绍，供同行参考。为便于说明问题，摘抄有…     

杂环硅烷自组装膜改性的聚丙烯表面镀铜研究

通过在电晕放电处理的聚丙烯(PP)表面自组装6-(3-三乙氧基硅基丙基氨)-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇单钠盐(TES)纳米膜后,进行了化学镀铜研究。考察了施镀温度、镀液pH值对镀速的影响,施镀时间对镀层厚度的影响,确定了最优工艺参数。在优化的工艺条件下制备镀层,用扫描电镜对镀层的形貌进行分析,并做了粘接性能测试。结果表明:最佳工艺为施镀温度为50℃,pH为13,施镀时间为50 min。采用此优化工艺条件制备的镀层,表观光亮,均匀致密,与基体结合力良好。     

化学镀Ni-P工艺在制药设备上的应用

在制药设备上使用了化学镀N i-P工艺。给出了2种工艺流程并确定了镀液配方。研究了温度、前处理对施镀的影响。结果表明,最佳施镀温度为[(85~90)±2]℃,镀件冲击镀镍及镀液磁化均可取得良好的效果。该方法得到的镀层结构致密、孔隙率低、耐蚀性强、结合力好、硬度高。     

"电光火石"定天下--溅镀机工作原理

在各种格式光盘复制过程中,溅镀工艺对最终产品的品质都具有十分重要的地位,特别是在具有多层结构的光盘格式,如CD-RW、DVD的各种格式中,溅镀工艺的对产品质量的影响几乎要超越注塑工艺对最终品质的影响作用。 在传统的溅镀工艺中,一般针对不同的材料采用不同的溅镀方法:对于导体材料,一般采用DC Sputtering原理的溅镀工艺;而对于所有的固体材料,则采用RF Sputtering原理的溅镀工艺。一、DC Sputtering原理:(适合导体材料的溅镀) 在真空溅镀舱中,打入Ar,电极加数KV的直流电,因而产生辉光放电。     

柠檬酸盐全光亮镀锡铅合金溶液分析

柠檬酸盐全光亮镀锡铝合金工艺是国内外一顶新颖的工艺、其溶液含有氯化亚锡、碱式碳酸铅、柠檬酸及其盐、乙二胺四乙酸二钠等主要成份以及电镀过程中产生的四价锡、下面兹介绍这些成份的分析方法. 碱式碳酸铅的测定一方法摘要锡铅合金镀液中锡、铅等金属离子以二价金属离子的络合物形式存在于镀液中,加入硫酸,则铅呈硫酸铅沉淀从铅的络合物形式中析出.因而可用重量法或硫酸铅沉淀-EDTA络合滴定法,求得     

酸性低温脉冲化学镀镍磷合金的性能

介绍了低温脉冲化学镀镍的研究工作。结果表明：由于电脉冲的催化作用，使得酸性化学镀镍的施镀温度降低至５０℃时，仍具有１１μｍ／ｈ的沉积速度，镀层磷含量达１０．４８ｗｔ％，结构组织仍为非晶态。其镀层的性能与８０℃施镀的化学镀镀层性能相当。