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1.真空在冶金及机械工业中的应用龚求初.196 4 (1) :1………2 .超纯合金的真空去气和感应熔炼翁国屏.196 5 (2 ) :2 7……3.日本真空设备综述196 5 (3) :1………………………………4 .日本真空感应炉情况知水.196 5 (4 ) :1……………………5 .日本真空自耗炉考察报告知水.196 5 (4 ) :5………………6 .超纯多晶和单晶制备汤心慎.196 5 (4 ) :2 3…………………7.日本真空脱气情况知水.196 5 (4 ) :2 6………………………8.对日本10个研究单位考察总结韩耀文.196 5 (4 ) :36………9.电子束熔炼、焊接、加工、蒸镀与区域熔炼等装置韩耀文.196… 相似文献
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我国为了要广泛了解真空技术在工业上 的应用,除对冶金、冷凉干燥、单晶制备、 真空泵等制造使用工厂外,也参观了真空蒸 馏,真空蒸镀等应用真空技术工业装置和使 用工厂。现在简略汇报如下: (一)真空蒸镀 日本制造真空蒸镀装置的工厂很多,凡 是制造真空设备工厂都生产蒸镀设备,大都 为小型种罩式,真空度为10-6~10-8,蒸发源 加热方式大都用电阻加熟,也有用感应加热, 电子束加热方式,也生产半连续式工件转动 特种型式蒸镀设备。真空蒸镀应用在光学镜 头镀膜,树脂薄膜,人造革纸金属化、玩 具、装饰品、反光镜蒸镀金属涂料薄膜,微 型电子器件制… 相似文献
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美国Interox America公司在其得克萨斯州迪尔帕克联合工厂内,建成一套生产超纯电子级过氧化氢的新装置。超纯过氧化氢在半导体器件生产的各工序中用于清洗硅片。需测定的40种金属杂质在新产品中的总含量低于0.1ppm,而在以往的电子级过氧化氢中的含量为1ppm。新工艺是采用硼硅玻璃装置进行第二步纯化蒸馏,全部管道、设备、连接件都是用1,1-二氟乙烯聚合物制造的。最终产品贮存在高密度聚乙烯容器中,使产品自始至终不 相似文献
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在自制的单晶高温度梯度定向凝固炉中,用带引晶器的单晶模壳制备出CuAlNiBe四元形状记忆合金系的单晶,并对其性能特性作了系统研究。结果表明,CuAlBNiBe四元形状记忆合金系的单晶比多晶具有更好的力学性能和优异的形状记忆性能。组织的有序化以及合金元素Ni、Be的加入是其性能改善的原因。 相似文献
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ZnSe多晶料的合成方法及其工艺研究 总被引:1,自引:1,他引:1
简述了单晶生长用ZnSe多晶料的制备方法.分别以颗粒状和粉末状的高纯单质Zn和Se为原料,采用元素直接合成法合成了ZnSe多晶料,分析了直接合成的困难所在.理论分析和实验研究均表明:前期H2-O2焰下高温灼烧(~1500℃)使Zn和Se充分反应,是合成工艺的关键;延长后期恒温时间(不少于2周),使扩散反应进行完全,有利于获得更接近化学计量比的ZnSe多晶料. 相似文献
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1999年 1 2月 1 2日 ,保定市华宇新型电子材料有限公司邀请有关专家组织召开了该公司研制的硅烷混合气的鉴定会 ,鉴定委员会认真听取了厂方所作的《研制工作报告》、《技术报告》、《经济效益分析报告》、《用户使用报告》等 ,参观了生产现场 ,并对厂方提供的技术文件及工厂生产条件进行了审查 ,经过讨论 ,一致认为 :1 .技术文件齐全、正确、统一、清晰 ,符合国家有关标准要求 ,可以指导生产。2 .硅烷混合气从钢瓶处理、管道清洗到用分压法配制混合气采用多项先进技术。提高了配气精度和速度 ,具有创新性 ,处于国内领先水平 ,整体技术居国内… 相似文献
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主要研究了马氏体相变温度Ms高于居里温度Tc的Ni54Mn25Ga21合金的相变及其单晶的形状记忆效应.采用真空电弧炉熔炼,然后用磁悬浮区熔晶体生长炉进行Ni54Mn25Ga21合金的单晶生长,成功制备了Ni54Mn25Ga21单晶.对多晶粉末样品进行了原位X射线衍射变温分析,结果表明Ni54Mn25Ga21合金具有可恢复的热弹性马氏体相变性能.对Ni54Mn25Ga21单晶进行的形状记忆效应实验结果表明,当总预应变不超过6%时,压缩变形后残留的应变可在随后的加热过程中完全回复. 相似文献
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硅纳米管在晶体管等纳米电子器件、传感器、场发射显示器件、纳米磁性器件及光电器件、储氢及电化学等领域有着广阔的应用前景.综述了近年来硅纳米管在储氢能力、热稳定性、量子限制行为及力学性能等理论方面的研究成果,以及采用水热法、模板法、电化学溶液沉积过程、化学气相沉积法、热蒸发、电弧法及激光烧蚀等方法制备单晶、多晶及非晶硅纳米管的最新研究进展,并提出了硅纳米管可能的研究方向. 相似文献
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《功能材料》1982,(2)
902148关于一种新单晶带生长方法的理论研究 -一(H .Rodot等),《J .Eleetroni。Ma· terials》,1981,10,沁3,481一500(英文) 文中提出一种新方法来从原材料中得到单晶带材。从一个旋转的多晶材料圆柱体上的生产线L形成的狭窄熔区中,垂直于生产线方向可以连续拉出狭窄带材。作者用此法已生产硅带。并研究了热流和温度分度图,指出了熔区结构、电源功率和旋转速度之间的关系。在研究了熔区流体静力学平衡结构和它们对带材生长特性和稳定性的影响的基础上改进了以前的结果。并讨论了此法用于生产硅太阳电池和在空间冶金领域中应用的优点.〔铣… 相似文献
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一、前言目前,工业及科学技术上所使用的人工单晶材料近200种,其中80%是由熔体生长的;直拉法(亦称提拉法,引上法,立拉法等)则是熔体生长中使用最为广泛的一种方法。比如,英国皇家雷达研究中心实验室用直拉法制备的材料就有100多种。从熔体中用直拉法生长晶体是波兰人Czochralski于1918年提出的。因此又通称为CZ法,Czochralski用这个方法制备了Sn、Pb等低熔点金属单晶。1950年Teal和Littele用这个方法制备成功Ge、Si单晶。目前,重要的电子材料Si单晶有75%是用CZ法生长的。近20年来随着电子工业,激 相似文献