光学薄膜的研究

本文概述了当前薄膜光学领域里的一些研究工作,并就具体的研究方向,如:光学薄膜的离子束辅助淀积和离子束溅射、低能离子镀技术,光学薄膜的成核、生长和微结构的模型,薄膜特性的检测和微结构分析等作了论述。     

多媒体背投系统中的光学薄膜

背投技术是当今显示领域内的新秀 ,主要介绍了用于多媒体投影系统所需要的各类光学薄膜的作用、参数和光学性能 ,同时针对该领域内国内外最新研究状况进行了调研 ,给出了现在所面临的关键技术难题并对其发展前景做了预测。     

磁控溅射技术进展及应用(上)

近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射、中频及脉冲溅射等各种新技术及特点,阐述磁控溅射技术在电子、光学、表面功能薄膜、薄膜发光材料等许多方面的应用。     

磁控溅射技术进展及应用(下)

近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射、中频及脉冲溅射等各种新技术及特点,阐述磁控溅射技术在电子、光学、表面功能薄膜、薄膜发光材料等许多方面的应用。     

广东省光学薄膜产业与技术的发展概况

８０ 年代以来,广东省的光学薄膜领域在生产规模,产品品种,工艺技术,研究开发以及市场发育,经济效益等各个方面都取得了巨大的进步,特别是已形成了庞大的光学薄膜产业群。     

无温漂滤光片的制备方法

随着光学薄膜技术的不断发展,光学薄膜器件应用的日益广泛,光学薄膜器件的温度稳定性也被提取了极重要的地位。针对这一问题进行了研究,并给出了相应的解决办法。     

无温漂滤光片的制备方法

随着光学薄膜技术的不断发展,光学薄膜器件应用的日益广泛,光学薄膜器件的温度稳定性研究也被提到了极重要的地位。针对这一问题进行了研究,并给出了相应的解决办法。     

光学薄膜技术标准发展综述

为了说明光学薄膜行业相关标准的发展概况,对光学薄膜技术领域相关国家标准和行业标准进行了总结,主要归纳为5个主题方向:膜层功能、面形偏差、表面疵病、环境适应性及产品应用等。介绍了各个主题方向包含的主要标准及发展历程,重点介绍了膜层功能主题方向的标准从1977年以来的4个阶段性发展历程。针对各个主题方向,分析了各个主题方向的国家标准及行业标准的适用性,并提出了光学薄膜领域国家标准及行业标准发展的5项建议:更新相关标准,系列化归纳标准,统一规范标准引用,对复杂标准增加解释说明,根据产业发展需求制定相关新标准。     

光学薄膜在照明领域的应用

重点阐述了光学薄膜在照明领域的成功应用。在卤钨灯射灯产品上采用冷光膜、彩色膜(分色膜)、反红外透可见膜等技术手段,取得良好的效果。并成功地进行高效率、低成本的产业生产,照明薄膜产品已成为我国光学薄膜产业化的一个亮点。     

应用磁控溅射技术的大功率海上风力发电机线圈

介绍了磁控溅射的原理,进行了磁控溅射镀膜试验。在此基础上,将磁控溅射技术应用于大功率海上风力发电机线圈,实现防腐蚀保护。同时对大功率海上风力发电机线圈的绝缘技术进行了分析。     

Optical coating and nano-structuring on plastics

1Introduction Injectionmouldedorhot embossedpolymer opticswillreplaceglassopticsaslongasim provedpropertiesorlowercostscanbeachieved withtheplasticparts.Highlytransparentther moplasticpolymersoffersignificantweightre duction,costsavingandmanufacturingadvanta gesforopticalcomponents.Coatingsplayanim portantroleinthisdevelopment.Opticalinter ferencecoatingsarerequiredtoprovideaspecific opticalfunctionwithinadesiredspectralrange.Themostcommonapplicationsareantireflection(AR)coatingstoincreaseth…     

光学镀膜近红外膜厚监控的信号压噪

在光学真空镀膜膜厚监控过程中,近红外波段信号弱、外界干扰大、信噪比低,难于检测监控。运用相干检测、锁相放大原理,在光学真空镀膜机可见光波段监控系统的基础上,自行研制锁相放大器和改装近红外探头,成功地实现了近红外信号的压噪、放大、滤波和检测监控。     

在线Low-E玻璃光学特性机理及其功能层光学常数的确定

从D rude色散理论和薄膜光学的基本方法出发,用理论公式对在线Low-E玻璃的透射谱线进行拟合,得到了Low-E玻璃功能层的光学常数。利用Burstein-M oss理论,计算得到了功能层的自由载流子浓度;理论计算与实验结果的一致性表明,D rude理论不仅能很好地定量解释在线Low-E玻璃的光学特性,而且为在线Low-E玻璃光学常数的理论计算提供了一种切实可行的方法。     

2m大口径RB-SiC反射镜的磁控溅射改性

为了消除RB-SiC反射镜直接抛光后表面存在的微观缺陷,降低抛光后表面的粗糙度,提高表面质量,针对大口径SiC的特性,选择Si作为改性材料,利用磁控溅射技术对2m量级RB-SiC基底进行了表面改性。在自主研发的Φ3.2m的磁控溅射镀膜机上进行基底镀膜,利用计算机控制光学成型法对SiC基底进行了抛光改性。实验结果表明,改性层厚度达到15μm;在直径2.04m范围内,膜层厚度均匀性优于±2.5%;表面粗糙度由直接抛光的5.64nm(RMS)降低到0.78nm。由此说明磁控溅射技术能够用于大口径RB-SiC基底的表面改性,并且改性后大口径RB-SiC的性能可以满足高质量光学系统的要求。     

光学薄膜元件在舞台灯光中的应用

舞台灯光灯具采用传统光学系统,光学系统主要实现灯光的视觉效果如光强、颜色及其他一些特殊效果。而光学系统中的各种光学元件都需要光学镀膜。现主要介绍舞台灯光中常用的光学薄膜元件类型、设计膜系和光谱曲线,探讨光学镀膜材料和工艺,以及光学薄膜元件的应用场合。     

中波红外连续变焦光学系统

针对制冷式320×240凝视焦平面阵列探测器,设计了一个中波红外连续变焦光学系统。该系统由变焦物镜系统和二次成像系统构成,包括7片透镜,引入一个非球面,并采用两个反射镜折叠光路。利用变焦系统原理和光学设计软件给出了系统的光学参数和外形结构图,并对其像质和冷反射进行了系统分析。该系统可以实现50~500 mm的连续变焦,工作波段为3.7~4.8 μm,满足100％冷光阑效率。结构紧凑,像质较好,变焦行程短,变焦轨迹平滑。     

中波红外两档变焦光学系统

报道了一种用于320×240制冷型探测器的中波红外两档变焦光学系统。该系统采用二次成像、前组透镜轴向移动变焦的光学结构形式。根据探测器类型和实际的使用要求给出了系统的光学参数,并利用光学设计软件对系统的像质进行了的分析。结果表明,该系统可以实现焦距为180/60两档变焦,工作波段为3～5μm,F数为1.96,满足100％冷光阑效率,截止频率16lp/mm处的MTF值大于0.6,结构简单,使用方便,像质好。     

基于光强实时反馈控制和同步校准的波长调谐移相干涉系统

波长调谐移相干涉技术是通过改变光波长来计算相位的。为了减少可调谐激光器在变波长进行移相时光功率的随机变化对相位计算产生的误差,本文提出了一套光强实时反馈控制系统和同步校准方案。首先分析了光强在某一范围内的随机变化产生测量误差,并选用合适的光电检测设备搭建了一套光强控制系统。该系统能够将光信号转化为电信号,并通过PID来实现对光强的控制。实验结果表明,本系统能够将光强的变化范围控制在±0.002 mW以内,其响应速度达到600 kHz,已远远超过干涉仪CCD的取图速度。最后,对口径为50 mm的光学元件进行表面形貌检测,加入本控制系统后,面形精度的测量指标PV值和RMS值分别提高了1.53×10^-2λ和2.43×10^-3λ,表明本系统在高精度的光学元件检测领域具有重要的实用价值。     

高功率LD高效、均匀泵浦耦合技术研究

提出了一种利用衍射光学元件实现高功率激光二极管(LD)的高效、均匀泵浦耦合板条激光结构介质的方法,并采用G-S改进算法进行了理论计算。计算结果显示,理论上可获得85%以上的传输效率(考虑光学表面未镀膜具有5%的反射率),85%左右的均匀性;在焦深为10mm的范围内,光斑的均匀性大于83%,且光斑大小仅为6mm。     

大尺寸光学元件在位动态干涉拼接测量系统

为了满足车间条件下大口径光学元件的高精度在位、在线检测的迫切需求,本文构建了一个适于一般环境下应用的动态干涉拼接测量实验系统。该系统由动态干涉仪、二维移动平台、控制系统及拼接软件等部分构成。应用该系统对200mm×300mm×20mm的光学元件在一般应用环境下进行了拼接测量实验,采用误差均化拼接算法进行拼接,并对拼接后的结果进行分析处理,比较拼接测量与全口径测量结果,PV值的相对误差为3.1%,RMS值的相对误差为1.6%,Power值的相对误差为2.1%。该系统为在车间环境下建立大口径光学元件在位检测建立了基础。