望远镜红膜物镜色度设计与检验初探

在红膜的设计与镀制过程中，由于影响薄膜的因素较多，因而实际镀制的红膜其反射颜色是不一致的，造成了红膜标准的多样性。为此本文将从色度计量方面给出设计的具体要求，即从光谱特性曲线计算红膜物镜的透射色度和反射色度；ＸＹＺ表色系统的色度座标值（Ｘ、Ｙ、Ｚ）及其取值范围，色饱和度的大小，检验时的光路、光源等。     

用脉冲多弧离子源研制镍铬铁合金膜

介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术,研究了采用这一新技术镀制镍络铁合金膜的镀制工艺,对采用这一新技术氙镀制的镍络铁合金膜进行了性能测试。结果表明：选用合适的工艺参数,采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀,牢固度好,膜层尬发与脉冲多弧离子源阴析靶材成分含量误差小±３％,符合实际应用要求。     

红外高能激光分色镜的初步研究

本文主要介绍了利用PVD方法研究制透可见及近红外(1.064μm)、反10.6μm的分色镜的初步研究。采用金属-介质组合膜方案设计分色镜的膜系,对金属及介质材料进行优选,设计并采用可行的镀制工艺和镀后处理工艺。所制得的分色镜在光学性能,激光阈值,机械强度及化学稳定性等方面获得了比较理想的效果。     

用脉冲多弧离子源研制镍铬铁合金膜

介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术,研究了采用这一新技术镀制镍铬铁合金膜的镀制工艺,对采用这一新技术所镀制的镍铬铁合金膜进行了性能测试。结果表明：选用合适的工艺参数,采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀,牢固度好,膜层成分与脉冲多弧离子源阴极靶材成分含量误差小于±３％ ,符合实际应用要求     

自聚焦透镜分光膜的研制

为了不断改善和开发自聚焦透镜的性能,实现光学仪器中自聚焦透镜分光的要求,以Ta2O5和SiO2为介质材料,运用TFCalc膜系设计软件,采用解析法设计了一个初始膜系,再结合变尺度优化法对初始膜系进行优化设计,设计出具有较好光谱性能的1 470～1 610nm波段95∶5自聚焦透镜分光膜。分析了设计膜系在自聚焦透镜端面沿径向折射率呈梯度减少时的拟合反射率曲线。通过大量实验选择合适的镀制工艺,并采用德国莱宝APS1104型镀膜机对所设计的膜系进行实际镀制,获得了性能优良的自聚焦透镜分光膜。     

技术转让信息

DLD 系列多弧离子镀膜设备该镀膜机包括 DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料     

TX系列多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备

该设备可在金属或非金属的表面镀制硬质增寿膜、装饰膜、合金膜或多层膜,可广泛用于刀刃、模具、钟表、首饰、灯具、建筑五金及装饰用彩色钢板、眼镜架、电子产品、医疗器械、仪器仪表等领域。该设备在真空条件下采用物理气相沉积技术,在基片上镀制氮化钛及其他薄膜。它将多弧离子镀技术、柱形靶及磁控溅射离子镀技术有机结合在一起,     

技术转让信息

DLD系列多弧离子镀膜设备 该镀膜机包括DLD-450、700、1000等各种型号是可一机多用的新型镀膜设备。该设备采用不同的工艺,可镀制金黄色、黑色和银灰色等多种装饰膜层及硬质膜层,不仅可用于产品的表面装饰,而且还可镀制各种材料(包括高速钢、工具钢及硬质合金等)的刀具。刀具经镀膜后,使     

最小二乘法在光学薄膜自动设计中的运用

本文介绍了一种编制光学薄膜自动设计程序的方法，并在实际镀制中，以此程序设计的数据对红膜进行实验，取得了较好的效果。     

硫化锌基底上减反膜的镀制

硫化锌是红外波段重要的光学材料,在许多光电系统应用中,要求镀制适当的减反膜增加其透过率.介绍了硫化锌基底上的减反膜,该设计是用薄的氧化钇层作为与硫化锌的结合层,用一氧化硅和锗分别作为低、高折射率膜料的膜堆组成的.这种五层膜满足环境稳定性标准,在3μm～5μm波段的某应用范围内平均透过率即可达96%,并在4.2μm处有超过98%的峰值透过率.     

硫化锌基底上减反膜的镀制

硫化锌是红外波段重要的光学材料,在许多光电系统应用中,要求镀制适当的减反膜增加其透过率.介绍了硫化锌基底上的减反膜,该设计是用薄的氧化钇层作为与硫化锌的结合层,用一氧化硅和锗分别作为低、高折射率膜料的膜堆组成的.这种五层膜满足环境稳定性标准,在3μm～5μm波段的某应用范围内平均透过率即可达96%,并在4.2μm处有超过98%的峰值透过率.     

光纤端面半反膜晶控镀制实践

叙述了一个利用石英晶体膜厚控制系统在光同镀制半反射膜的工艺探索过程,包括膜系设计、工艺参数的修正。简要介绍了光控与晶控的特点,以实例证明了特殊情况下低温镀膜的可行性。     

激光硬膜反射镜的研制

镀制ＴｉＯ２和ＺｒＯ２的混合料－ＳｉＯ２硬膜激光高反射膜的设计和工艺。     

层间扩散对多层膜镜单色器性能的影响

结合新近发展的多层膜极化超镜涂层材料CoFe／TiZr,采用中子反射实验测量数据,以矩阵方法为基础,对有无考虑层间扩散、表层氧化两种情况进行了进行了理论计算。采用超镜实际结构设计方法（Real Structure Design,RSD）,运用双势函数处理模型,考虑表层氧化,获得了新型超镜涂层材料CoFe／TiZr镀制多层膜镜单色器的工艺要求以及有效中子损失情况。计算结果可为采用CoFe／TiZr作为涂层材料镀制多层膜镜单色器或者多层膜镜单色器的制备及理论设计优化工作提供有价值的参考。     

宽带减反膜的制备与试验研究

随着真空镀膜技术的发展和推广,高科技镀膜产品越来越多的应用于国民经济各个领域。本文结合本厂产品微光夜视瞄准仪中光学件的镀膜要求,对镀制450nm-900nm波段范围内的宽带减反膜进行简单介绍。宽带减反膜的设计没有简单可行的方法,只能依靠数值优化技     

极紫外多层膜基底表面粗糙度综合表征技术

研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜(AFM)直接测量硅片表面粗糙度;然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制M o/S i多层膜,使用X射线衍射仪(XRD)对多层膜二级衍射峰进行摇摆曲线扫描;最后,利用同步辐射测量多层膜的反射率,间接表征基底的粗糙度。结果表明,超声清洗后镀制的多层膜反射率最高,结论与AFM,XRD等表征方法一致。     

DM-450A真空镀膜机

北京仪器厂生产的DM-450A型真空镀膜机,在1994年,被机械部评为优等品。该产品是在真空中蒸发金属或其它物质,使零件表面获得所需要的膜层的设备。该设备主要用来蒸镀光学镜片的反射膜、透射膜及各种滤光膜,也可用来镀制无线电半导体所需的各种电学膜和轻     

LDH─1200多弧离子镀设备

ＬＤＨ─１２００多弧离子镀设备北京仪器厂真空技术研究所刘桂敏，张守忠真空离子镀技术，是在特定的真空条件下在基体表面镀制金属膜、化合物膜，膜层致密与基体结合极好。可镀制各种色彩的装饰膜和超硬耐磨、耐蚀工艺膜，节能节原料，无污染，生产成本低，效益高，用途...     

光纤端面半反膜晶控镀制实践

叙述了一个利用石英晶体膜厚控制系统在光纤端面镀制半反射膜的工艺探索过程,包括膜系设计、工艺参数的修正。简要介绍了光控与晶控的特点,以实例证明了特殊情况下低温镀膜的可行性。     

DM-450C真空镀膜机

北京仪器厂生产的DM-450C型真空镀膜机,在1994年,被机械部评定为一等品。该产品是在DM-450A的基础上改进而成,该镀膜机主要用来蒸镀光学镜片的反射膜,透射膜及各种滤光膜,也可用来镀制无线电半导体所需的各种电学膜和轻工业品的装饰性薄膜。 DM-450C镀膜机的蒸发功率比DM-450A