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1.
为解决制备Ni-B合金镀层时难以获得高非晶化结构的问题,采用控制变量法探索镀液成分对Ni-B合金镀层非晶化过程的影响规律,电沉积法制备出高B非晶态Ni-B复合镀层.采用X射线衍射技术(XRD)表征沉积层的相结构,利用场发射扫描电镜(FESEM)和能谱分析(EDS)考察沉积层的微观形貌和元素分布组成.结果表明:通过控制溶液组分,沉积层发生从晶态到非晶态的转变.所得沉积层非晶化程度较高,此体系可电沉积获得表面完整、紧密细致、几乎没有金属晶体衍射峰的非晶态Ni-B合金沉积层,沉积层中B含量可提高至10.21%(质量分数). 相似文献
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电沉积Ni-Cr合金工艺研究 总被引:2,自引:2,他引:2
含有一定量Cr的Ni-Cr镀层具有良好的耐磨、耐腐蚀性能.选取柠檬酸钠作为配位剂,用动电位扫描法研究了电沉积Ni-Cr合金时的阴极行为,同时对镀层的耐腐蚀性进行了试验.试验结果表明:镀液中加入配位剂柠檬酸钠可以提高阴极极化;pH值、阴极电流密度、配位剂对镀层中铬含量影响较大,在一定范围内增大pH值,增加配位剂的用量,提高电流密度,有利于提高镀层中铬的含量,最佳工艺条件为pH值为2.5,阴极电流密度为25A/dm2,镀液中柠檬酸钠的含量为35g/L,镀层中铬质量分数为20%左右时,Ni-Cr合金镀层的耐腐蚀性能最好. 相似文献
3.
为了提高铝黄铜的耐蚀性能,采用次亚磷酸盐体系电镀Ni-P合金,从镀层沉积速度和外观角度,研究了镀液组成、pH值、电流密度、温度对镀层的影响,得出了最佳的工艺条件:40~60 g/L硫酸镍,8~10g/L氯化镍,8~12 g/L次亚磷酸钠,10~14 g/L柠檬酸,25~35g/L硼酸,pH值2.5~3.0,电流密度45~55 mA/cm2,温度58~70℃.采用本工艺得到的镀层均匀、光亮,耐蚀性优于铝黄铜. 相似文献
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Zn-Ni-La合金电沉积工艺研究 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了在氯化物体系中电镀Zn-Ni-La合金,在Zn-Ni合金镀层中引入La,以达到节约金属镍的目的.发现镀液中加入稀土,能使Zn-Ni-La合金的阴极极化增大近0.2 V,使镀层变得更为致密光亮,并提高镀层的综合性能.同时研究了配位剂浓度对Zn-Ni-La合金镀层中稀土含量的影响,发现配位剂的添加使镀层中稀土的含量先增大后降低,分别在20 g/L和30 g/L时出现最大值.最后,研究了Zn-Ni-La合金的耐蚀性.结果表明:镀层中通过引入稀土元素作为合金元素之一,明显降低了镀层中镍的含量,使镀层中镍含量仅为2%左右的情况下即与Zn-Ni(13%)合金耐蚀性相当. 相似文献
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氯化物电沉积Zn—Fe合金工艺 总被引:2,自引:2,他引:2
在氯化钾镀锌的基础上,通过添加铁盐,可得到Zn-Fe合金镀层。研究了镀液组成及工艺条件对镀含铁量的影响,控制它们在最佳值,可得到含铁量为0.4-0.7%的Zn-Fe合金镀层。确定了Zn-Fe合金镀层的黑色钝化处理工艺,并对镀液、镀层性能进行了测试。 相似文献
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乙醇溶液电沉积La-Ni合金工艺研究 总被引:2,自引:0,他引:2
以氯化镍、氯化镧为主盐,以柠檬酸铵为络合剂的乙醇镀液中可以实现电沉积La-Ni合金镀层。研究表明,镀液中[La^3 ]/[Ni^2 ]比值增加,升高镀液温度,提高电流密度均可使镀层La含量提高。最佳镀液组成及工艺条件下,镀层La含量为15%左右,镀层光亮、结晶细致,镀液分散能力、覆盖能力良好,阴极电流效率可达70%,SEM、XRD分析表明镀层为非晶态,XPS分析表明,镀层中镍、镧的化学状态为Ni、LaH2和少量的La、La2O3。通过对镀液的循环伏安曲线测量,初步探讨了La与Ni共沉积的机理,其共沉积特性符合诱导共沉积规律。 相似文献
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利用电沉积法在铜箔上制备了锂电池负极材料Sn-Cu合金,研究了镀液组成对镀层铜含量的影响规律;采用X射线衍射分析,研究了不同组成Sn-Cu合金镀层热处理前后的结构.结果表明:镀液中焦磷酸铜与焦磷酸钾浓度对镀层中铜含量影响显著,改变二者组成,铜含量可由20.18%(质量分数,下同)提高到58.05%;铜含量为20.18%,31.01%和58.05%的Sn-Cu合金镀层,镀态结构相同,均为Cu,Sn和η-Cu6Sn5;经过300℃以上热处理1h,Sn-Cu合金镀层发生相变,相对于镀态,析出电子化合物中铜含量增加;温度升高对铜含量为20.18%和58.05%的镀层结构影响较小,而对铜含量为31.01%的合金镀层,其组织结构向着铜含量降低的物相结构转变. 相似文献
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电沉积Fe-Co-Ni三元合金的工艺研究 总被引:1,自引:0,他引:1
Fe-Co-Ni合金镀层的硬度、耐蚀性和表面光亮度接近硬铬镀层,一定程度上可代替铬镀层以减少环境污染.用恒电位法电沉积Fe-Co-Ni三元合金,并运用X射线衍射能谱、扫描电镜等方法观察镀层的形貌,同时对镀层的失重率、显微硬度也进行了测定,分析了有机添加剂、温度、pH值和阴极控制电位等工艺因素对电沉积的影响.结果表明:在一定量的有机添加剂下,若镀液温度为50~60℃,pH值为3.0~4.5,阴极电位控制在-1.2 V(vs SCE)时,即能得到光亮、耐腐蚀性好、显微硬度高的Fe-Co-Ni三元合金镀层,其综合性能接近硬铬镀层. 相似文献
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脉冲电沉积Ni-W-P合金工艺的研究 总被引:8,自引:0,他引:8
为了研究Ni-W-P合金脉冲电沉积中脉冲参数对镀速和镀层中钨、磷含量的影响以及对镀层耐蚀性和硬度的影响,采用称重法、硫酸浸泡法、日本岛津EPMA-1600型电子探针以及HX-1型显微硬度计对Ni-W-P合金工艺进行了研究.结果表明,镀层的沉积速率、镀层成分及镀层的性能都随脉冲频率和占空比的变化而变化;Ni-W-P镀层的脉冲电沉积速率比直流电沉积大,脉冲镀层的耐蚀性和硬度都优于直流镀层,其耐蚀性还优于1Cr18Ni9Ti不锈钢.本工艺操作方便,镀层性能稳定. 相似文献
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非晶合金纳米粒子具有许多特殊功能,但摩擦领域尚未见其应用报道.采用液相还原法制备了Ni-B非晶合金纳米微粒,利用四球摩擦磨损试验机考察了Ni-B非晶合金纳米微粒作为润滑脂添加剂的摩擦学行为,并用扫描电子显微镜(SEM)和能量散射谱(EDS)等对钢球摩擦表面进行了分析.结果表明:所制备的Ni-B非晶合金纳米微粒平均粒径约30 nm,表面被氧化;作为润滑油添加剂能够明显提高基础油的减摩抗磨能力,尤其当浓度为1.0%时,磨斑直径从0.54 mm降至0.38 mm.其抗磨减摩机理为:Ni-B非晶态合金纳米微粒在摩擦过程中沉积并发生摩擦化学反应,生成由氧化镍、氧化硼、铁氧化合物及有机吸附物组成的具有良好摩擦学性能的润滑防护膜,从而改善了基础脂的摩擦学性能. 相似文献
13.
为改善Ni-B合金镀层的耐腐蚀性,采用化学镀技术制备了Eu-Ni-B合金镀层,并研究了在镀液中添加稀土Eu对Ni-B合金的影响。通过扫描电子显微镜、能谱仪、X射线衍射仪对镀层形貌、成分和结构进行表征;采用极化曲线技术对镀层在3.5%HCl中的耐腐蚀性进行研究,并且通过塔菲尔曲线外推法得到了相应的电化学腐蚀参数。研究结果表明:成功制备了Eu-Ni-B合金镀层,稀土Eu的添加使镀速明显上升,当稀土Eu的添加量为3.4 g/L时,镀速达到了最大值0.029 mg/(cm2·min)。Eu-Ni-B合金镀层的腐蚀电位比Ni-B合金镀层的腐蚀电位正移20 m V,表明稀土Eu的加入,使得镀层的耐腐蚀性明显提升。 相似文献
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为了减少环境污染,降低生产成本并提高镀层质量,采用甲基磺酸体系电镀铅锡合金.介绍了对甲基磺酸盐体系电镀锡铅合金的工艺研究,对体系镀液成分与镀层成分变化的关系、共沉积特征及甲基磺酸体系电镀锡铅合金工艺中各因素对镀层质量的影响进行了研究,测定了镀液的分散能力、覆盖能力及镀层的结合力.结果表明,镀液中加入氯苯甲醛,可增加电流过程阴极极化并改善镀层性能.甲基磺酸体系镀液成分简单、性能稳定、无毒无害,具有广泛的应用前景. 相似文献
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化学镀镍磷合金镀层的耐蚀性已很难满足现代工业日益提高的防腐蚀要求,为提高其综合性能,拓宽应用范围,在化学镀镍磷合金液中加入硫酸铜和氯化铬制备镍铜铬磷四元合金镀层,优选出最佳工艺条件为:15 g/L硫酸镍,40 g/L次磷酸钠,0.2 g/L硫酸铜,0.5 g/L钼酸钠,0.5 mg/L稳定剂(由含氮有机化合物或含碘化合物配制而成),40 g/L配位剂(以一种多羟基羧酸作主配位剂,一种多元羧酸作辅助配位剂),20 g/L乙酸钠,10 g/L三氯化铬,表面活性剂(聚乙二醇和含氟表面活性剂) 适量,pH值4.0~5.0,温度80~90 ℃,时间20 min.研究了镀液中主要成分和工艺条件对合金镀层外观、沉积速度、耐蚀性的影响.检测了化学镀Ni-Cu-Cr-P合金镀层的性能,镀层中含8%~9%Cr,2%~3%Cu,78%~85%Ni.结果表明,所得的镍铜铬磷四元合金镀层结晶细致,达镜面光亮,其耐蚀性、孔隙率和硬度等性能均优于化学镀镍磷合金层. 相似文献
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电镀Zn-Ni-P合金工艺的优化 总被引:2,自引:1,他引:2
通过正交试验和电镀实践,优化了电镀耐蚀性Zn-Ni-P合金的镀液组成和工艺参数。优化实验验证表明,该工艺稳定,得到光亮、致密、外观平整的Zn-Ni-P合金镀层,镀层中Ni含量为15.5%,P含量为8.1%。盐雾腐蚀试验结果表明,Zn-Ni-P合金较Zn-Ni合金耐蚀性大大提高。 相似文献
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Hung-Yu Wang 《Thin solid films》2010,518(24):7505-7508
The electroless deposition of boron-containing Ni (EN-B) film from a supercritical carbon dioxide (sc-CO2) bath was introduced. The deposition rate in sc-CO2 bath was one order of magnitude lower than that at ambient pressure without the presence of sc-CO2. A more uniform chemical composition of the EN-B film could be obtained if it was deposited in the sc-CO2 bath. X-ray diffraction analyses revealed that the as-deposited film was amorphous in nature, despite of the deposition condition. Deposition defects such as cracks and voids could be avoided if the deposition was conducted in the sc-CO2 bath. Crystallization and boride precipitation were found after heat treatment at 400 °C for 1 h. The EN-B film deposited from the sc-CO2 bath had a higher hardness as compared with that of the normal EN-B coating. A substantial increase in hardness was obtained due to boride precipitation. 相似文献