钛的磷酸阳极氧化工艺

在H3PO4体系中加入不同的钠盐对TA2进行阳极氧化处理.研究表明:电解液组分、pH值、电压、氧化时间等对阳极氧化膜的颜色都有一定的影响,其中电压为影响氧化膜颜色和厚度的主要因素.磷酸盐影响膜的均匀性和连续性,电解液中其他成分主要影响成膜速率,对氧化膜的性能也有一定的影响.     

氧化电压对多孔阳极氧化铝膜结构及形成的影响

以草酸为电解液研究了氧化电压对多孔阳极氧化铝膜的影响,采用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)对多孔阳极氧化铝膜的表面形貌进行表征.结果表明:氧化电压决定多孔阳极氧化铝膜纳米孔的大小;在一定电压范围内,氧化膜厚度随氧化电压的升高而增加.电流密度与氧化时间的关系曲线表明:在不同电压下多孔阳极氧化铝膜的形成历程基本相同,但形成多孔氧化铝膜时的电流密度随氧化电压的升高而增加.XRD分析结果证实:多孔氧化铝膜由非晶态的Al2O3组成,其组成不随阳极氧化电压而变化.     

电流密度对AZ31B镁合金阳极氧化及膜层性能的影响

采用KOH-Na2SiO3-Na2B4O7-Na2CO3环保型电解液体系,研究了电流密度对AZ 31B铁合金阳极氧化过程、氧化膜微观形貌、膜层厚度、氧化膜耐蚀性等的影响.结果表明:在恒电流阳极氧化过程中,根据电压-时间曲线,阳极氧化过程可分为电压快速升高阶段、电压缓慢升高阶段、电压相对稳定阶段.随着电流密度的增大,电压-时间曲线的斜率增大,电压明显增大,点火时间缩短,但对击穿电压影响不大;随着电流密度的增加,膜层致密性、厚度、耐蚀性都呈先增大后减小的趋势.当电流密度为1.5 A/dm2时,阳极氧化膜的致密性和耐蚀性最好.     

装饰用铝铜合金宽温阳极氧化及氧化膜性能研究

针对常规阳极氧化工艺存在允许温度范围窄、能耗较高等问题,选用三乙醇胺、硫酸铈作为添加剂加到常规硫酸电解液中。以装饰用铝铜合金作为基体进行阳极氧化实验,研究了三乙醇胺、硫酸铈单独使用或复配使用对阳极氧化温度上限和阳极氧化膜的微观形貌、成分、厚度、物相结构以及耐腐蚀性能的影响。结果表明：三乙醇胺、硫酸铈单独使用能将阳极氧化温度上限分别提高到30℃、35℃,并且都能改善阳极氧化膜的致密性,使厚度增加且耐腐蚀性能提高,但对阳极氧化膜的物相结构无影响。三乙醇胺与硫酸铈复配使用将阳极氧化温度上限提高到40℃,并且在电解液温度较高情况下仍然可以制备完全覆盖铝铜合金基体、形貌质量和耐腐蚀性能较理想的阳极氧化膜,实现节能和降低工艺成本。     

铝合金柠檬酸-硫酸阳极氧化及性能研究

以2024铝合金做基体进行柠檬酸-硫酸阳极氧化,研究了电压对柠檬酸阳极氧化膜的微观形貌、成分、厚度、显微硬度和耐腐蚀性的影响,并分析了柠檬酸在阳极氧化中的作用机理.结果表明:添加柠檬酸使电解液对阳极氧化膜的腐蚀溶解作用减弱,提高了成膜效率并且有利于阳极氧化膜较均匀溶解,从而提高致密度和性能.随着电压升高(8～22 V)...     

阳极氧化工艺对氧化铝纳米孔膜形成过程及结构的影响

采用高纯度的铝片为阳极，以铂网为阴极，在3％～5％草酸溶液中，电压在30～70V，温度控制在17～25℃范围内进行恒压阳极氧化制备氧化铝膜，并采用环境扫描电镜观察纳米孔形貌，金相显微镜测量氧化膜厚度。研究了电解电压、电解液浓度、温度等条件对氧化铝多孔膜结构的影响。结果表明：氧化膜形成速度、纳米孔孔径、胞径、孔壁厚度、氧化膜厚度受电解电压影响显著，随着电解液浓度和温度的增大，氧化膜生长速度加快，纳米孔孔径、孔壁厚度等都随之增大，在相同时间内生成的氧化膜厚度增大。     

Ti-6Al-4V合金黄色阳极氧化工艺研究及应用

前言我厂在研制、生产某型号发动机紧固件的过程中,设计要求Ti-6Al-4V合金材料的表面处理为黄色阳极氧化,而且要求氧化膜的厚度为2～5μm。据有关资料介绍,钛合金着色阳极氧化通常是采用恒电流方式进行,即:根据零件的表面积给定电流密度,随着电压的上升,在不同的电压时段得到不同的颜色,所制得的氧化膜厚度通常在0.3μm以下,因而该工艺也称为着色阳极氧化。很显然,采用传统的阳极氧化工艺是难以达到设计规定的膜层厚度     

电压和氟化钠浓度对钛合金阳极氧化膜性能的影响

在3 g/LNaOH溶液中加入NaF添加剂作为电解液,研究了电压和添加剂浓度对钛合金板表面氧化膜的颜色、硬度和耐腐蚀性的影响,分析了氧化膜的扫描电镜图和X射线衍射图.结果表明:电压是影响阳极氧化膜性能的主要参数,电压和NaF浓度的变化都能引起氧化膜颜色、硬度、耐腐蚀性以及表面形貌等的改变.     

铝合金雕塑阳极氧化工艺的研究

对金属雕塑用的2024铝合金进行阳极氧化处理,并研究了电压对铝合金氧化膜的厚度、硬度、耐蚀性及表面形貌等的影响。结果表明:电压较低时,氧化膜较薄,耐蚀性不佳。适当升高电压,有利于提高氧化膜的厚度和硬度。但电压高于20V时,氧化膜的溶解速率增大,使得氧化膜的厚度和硬度下降。20V下得到的氧化膜具有最佳的耐蚀性。     

表面活性剂十二烷基磺酸钠对镁合金阳极氧化的影响

在含柠檬酸钠的碱性硅硼体系中对AZ91D镁合金进行电化学阳极氧化成膜处理,通过记录阳极氧化电压随时间的变化以及扫描电镜、能谱仪和电化学测试等方法考察了阴离子型表面活性剂十二烷基磺酸钠(SDS)对镁合金阳极氧化过程和氧化膜性能的影响。结果表明,在阳极氧化过程中,十二烷基磺酸根离子被吸附到镁合金电极表面,增加了表面膜层电阻,提高了阳极氧化电压,使得阳极氧化膜层更致密、厚度分布更均匀,减少了表面微气孔。当SDS含量为0.2~0.4 g/L时,所得阳极氧化膜具有最大的电荷传递电阻和膜电阻,对镁合金具有最好的腐蚀防护性能。     

各参数对AZ91D镁合金微弧氧化膜层质量影响的研究

使用自行研制的微弧氧化电源,研究分析了电解液成分、电参数及氧化时间等因素对AZ91D镁合金氧化膜层质量的影响.研究表明:电解液成分决定着膜层的成分与性能,铝酸盐体系电解液中形成的氧化膜层耐蚀性、耐磨性和硬度明显不如硅酸盐体系电解液;带放电回路的脉冲电源要明显地优于其它电源;电压、电流密度、脉冲宽度、氧化时间、频率和占空...     

氧化工艺对纳米氧化铝阵列模板的影响

采用正交实验研究了阳极氧化时温度、时间、电压对氧化铝膜厚度、孔径和孔有序度的影响。首次用数学方法定量分析了氧化工艺对孔有序度的影响。通过SEM扫描电镜观察了氧化膜的表面形貌。结果表明,对膜厚影响的主次因素依次为氧化时间、温度和电压,对膜孔径和有序度影响的主次因素依次为电压、温度和时间。     

Morphologies of nanostructured TiO2 doped with F on Ti–6Al–4V alloy

The formation of nanotubes in sulphuric/hydrofluoric acid electrolyte at controlled voltage is investigated on Ti–6Al–4V alloy used for load-bearing prosthetic applications. The effects of anodizing time and voltage on film morphology, composition and microstructure are studied by scanning and transmission electron microscopy, Rutherford backscattering spectroscopy (RBS), and Raman spectroscopy. Fluorine content in the films was of a particular interest for enhancement of antibacterial properties of the surface. The efficiencies of film formation are determined as about 40% and 80% for anodizing at 20 V and 60 V respectively for shorter anodizing time and as about 1 and 5% for longer anodizing time. For 5 min of anodizing, higher voltage conditions results in a thicker barrier layer. At extended anodizing time a further disruption of the nanotubular morphology and formation of approximately 1.5 μm-thick nanoporous film is promoted. The films grown at 20 V contain from 4 at.% to 6 at.% of fluorine. RBS detects about 13 at.% of fluorine incorporated in the film formed at 60 V for 60 min, possibly associated with a greater film thickness. The oxide film material consists of amorphous titania matrix doped with V₂O₅ and Al₂O₃.     

铝合金在不同电解液体系中微弧氧化过程的研究

为比较不同电解液体系下各种工艺参数对铝合金微弧氧化膜性能及耐腐蚀能力的影响,通过微弧氧化法在NaOH、Na2S iO3、NaH2PO4、Na2CO3四种电解液体系分别制备了铝合金氧化膜。通过点滴腐蚀实验比较了四种电解液体系所得氧化膜的耐腐蚀能力,利用扫描电子显微镜(SEM)观察分析了氧化膜的表面形貌。实验表明,在这四种电解液体系中起弧电压均随浓度的降低及电极间距离的增加而逐步升高,而膜厚与氧化电压、时间的增加成正比,但成膜速率随时间的延长而逐渐减缓,在各体系中这些变化的具体情况仍有所区别。其中以NaOH体系所得氧化膜的膜层较致密,微孔分布均匀,相同条件下耐蚀性能要优于其他三种电解液体系所制氧化膜。     

阳极氧化制备氧化钛薄膜机理探讨

在钛合金表面采用阳极氧化工艺制备出氧化钛薄膜。通过实验验证了阳极氧化原理,得出在不同的氧化电压下可生成不同厚度的氧化钛薄膜,薄膜越薄呈色越鲜艳;并分析了阳极氧化电解液对形成薄膜的影响;最后模拟分析了氧化薄膜的生长过程。     

Cyclic oxidation processes during anodizing of Al-Cu alloys

The influence of copper on the morphologies of porous anodic alumina has been investigated under current and voltage control using a sputtering-deposited Al-2.7 at.% Cu alloy and a commercial AA 2024-T3 aluminium alloy anodized in either sulphuric acid electrolyte or the same electrolyte but with addition of tartaric acid. The findings indicate that film development involves repeated formation of embryo cells of anodic alumina at the metal/film interface. During the initial stages of anodizing at constant voltage, cell formation is accompanied by current peaks in the current-time response. The porosity of the resultant films has a lateral aspect due to the layering of embryo cells. The thickness of individual layers is proportional to the formation voltage, with a ratio of the order 1 nm V⁻¹. The cell formation is accompanied by enrichment of copper in the alloy, incorporation of copper species into the anodic film, in low amounts relative to the alloy, and evolution of oxygen. These processes disrupt the formation of the classical pore morphology, characteristic of high purity aluminium, due to continuous formation of fresh embryo cells and re-direction of pores. The main effect of the tartaric acid addition to the sulphuric acid was to reduce the rate of anodizing of the alloys at constant voltage by about 10-20%.     

2A12铝合金硬质阳极氧化工艺研究

采用正交试验分析了2A12铝合金硬质阳极氧化的工艺参数,研究了电流密度、硬质阳极氧化时间及硫酸浓度对膜层显微硬度及厚度的影响规律。结果表明,电流密度对硬质阳极氧化膜厚度影响相对较大,硫酸质量浓度对硬质阳极氧化膜的显微硬度的影响显著。最佳的氧化工艺参数为:电流密度3.0 A/dm~2,氧化时间t为70 min,硫酸质量浓度240 g/L。该工艺参数下得到的硬质氧化膜平均硬度可达352 HV,膜层厚度δ可达60μm,膜层致密,厚度均匀,综合性能优异。