碳含量对碳氮化硅薄膜化学结构和力学性能的影响

利用微波电子回旋共振（MW-ECR）等离子体增强非平衡磁控溅射法制备了碳氮化硅（SiCN）薄膜。研究结果表明，碳含量对薄膜化学结构、力学性能有很大影响。傅里叶变换红外光谱（FT-IR）和X射线光电子能谱（XPS）表征显示，随着碳靶溅射偏压由-450V提高到-650V，薄膜中碳含量由19．0％增加到27．1％，sp^3C-N键含量增多，薄膜生长速率由3．83nm／min提高到5．83nm／min，硬度在-600V时达到最大值25．36GPa。上述结果表明，提高碳靶溅射偏压，可以提高薄膜含碳量，得到性能较好的SiCN薄膜。     

金属-有机骨架在烷烃／烯烃分离中节约能源

塑料行业需要大量的纯的乙烯和丙烯来生产聚（乙烯）和聚（丙烯）。但这些化合物必须从原油在500—600℃派生出来的烃类混合物中分离。烷烃／烯烃混合物（如丙烷／丙烯）的分离是通过将混合物冷却至-100℃，随后进行低温精馏实现的，此过程需要巨大的能量输入。为了有效节省能源，     

日本塑料材料新品种

日本塑料材料新品种邹盛欧（上海石油化工股份有限公司塑料厂）１．环状烯烃共聚物聚乙烯（ＰＥ）、聚丙烯（ＰＰ）等聚烯烃是塑料的主要品种，广泛用作容器、薄膜、汽车部件、家电部件、一般工业材料等。而利用最新的分子设计技术、催化剂技术，已出现了面目全新的环状烯...     

环氧树脂部分（20051058～20051067）

20051058 具有最小环境影响的阻燃环氧树脂组成并将其用于密封半导体片（东芝化学品公司） 该组成中无含溴或锑的阻燃剂，其中包括环氧树脂、N含量10％的酚醛树脂，Ph3P和占总组分80％～95％的100nmSiO2粉，环氧树脂可以是o-甲酚线型酚醛环氧树脂，4，4′-二环氧丙氧基联苯及／或含环氧丙氧基的聚苯。如，一组成中含。     

丙烷脱氢装置成套建造技术

<正>一、成果研究背景丙烯是重要的石油化工产品及聚丙烯主要原料，近年来全球丙烯需求快速增长，我国丙烯消费占全球15%以上且以每年超过4%的速率递增。相比于深度催化裂化、甲醇制丙烯、高碳烯烃裂解等技术路线，丙烷脱氢制取丙烯在技术成熟度、资源和综合生产成本等方面具有领先优势，目前应用较为成熟的工艺为美国鲁姆斯公司（LUMMUS）的Catofin工艺和霍尼韦尔（Honeywell）公司的UOP工艺，     

Fe3+对钛酸锶稀薄燃烧氧敏薄膜电阻的影响

利用溶胶-凝胶的方法制备钛酸锶氧敏薄膜，掺杂不同含量的铁离子，并测试了不同氧分压、温度下薄膜的电阻。发现铁离子的含量在20mol％～25mol％之间时，掺杂对钛酸锶电阻的降低有明显的影响，含铁在20％和25％的钛酸锶在600～800℃之间电阻的变化趋近为零，铁的含量大于25％或小于20％薄膜没有出现这种现象。     

毛竹保健功能成分的GC／MS分析

采用混合溶剂萃取法从新鲜毛竹片中提取成分，浓缩后，利用GC／MS联机分析技术，用色谱峰面积归一化法计算各组分的相对含量。共分离出66个峰，结合文献调研，鉴定出52个化合物，占总峰面积的99．36％。主要成分为维生素E（13．18％）、十六酸（8．95％）、（z，z）-9，12-十八碳二烯酸（8、15％）、十二烷（6．19％）、十三烷（5．44％）、2，6，10-甲基-十四烷（4．86％）、1H-吲哚（4．49％）、羽扇豆醇（3．84％）、驱蚊叮（3．83％）、氧代-12-烯-24-羧酸，3-氧络-甲酯（＋）-（3、67％）、（3á）-豆甾-5-烯-3-醇（3．06％）、十一烷（2．96％）、二十七烷（2．92％）、十九烷（2．51％）、十四烷（2．45％）、十五烷（2．08％）、十六烷（2．19％）、（z）-9-十八碳烯酸（2．12％）、亚油酸乙酯（1．95％）、1,2-邻苯二甲酸二异辛酯（1．75％）、二十五烷（1．63％）、二十一烷（1．18％）、1,2-苯二甲酸双（2-甲丙基）酯（1．02％）等．以上成分中，大部分具有天然保健功效，且含量较高，由此可见，毛竹中富含保健功能的天然成分．     

2，2-双（3-烯丙基-4-羟基苯基）六氟丙烷的合成

研究了2，2-双（3-烯丙基-4-羟基苯基）六氟丙烷的合成工艺．以六氟双酚A、溴丙烯和无水碳酸钾为原料，N，N-二甲基甲酰胺为溶剂，在100℃下反应12h，得到六氟双酚A二烯丙基醚（Ⅰ）。经提纯后，使其在200℃回流8h，经碱洗、萃取、分液、酸化得到目标产物2，2-双（3-烯丙基-4-羟基苯基）六氟丙烷（Ⅱ），总收率58．2％．用红外光谱和核磁共振氢谱对产物的结构进行了表征．     

磁控共溅射制备氮化钛铝薄膜及其机械性能的研究

使用磁控共聚焦溅射技术并改变溅射过程中Al的功率来制备了一系列Al含量不同的氮化钛铝（TiAlN）薄膜。在溅射过程,薄膜沉积速率和Al含量随Al的溅射功率增加而增大,而薄膜的粗糙度减小。Al含量较低时（约21％）,TiAlN薄膜的硬度和弹性模量都高于TiN薄膜。而Al含量较高时（〉26％）,薄膜的硬度和弹性模量也随含量增加减小。     

制备致密热解炭层的新工艺研究

致密热解炭在工业各个技术部门正在得到广泛的应用。本文介绍采用丙烯（Ｃ３Ｈ６）和乙炔（Ｃ２Ｈ２）的混合气体制备致密热解炭层的新工艺，以消除只用丙烯作为反应气体时产生的热效应问题，讨论了沉积温度、反应气体浓度对致密热解炭层性能的影响。     

离子辅助蒸发(1-x)TiO2-(x)Ta2O5薄膜及其光学性能研究

采用离子辅助蒸发的方法，以不同配比的Ta2O5和TiO2混合物为初始膜料在K9玻璃上制备了TiO2-Ta2O5混合薄膜，并对其透射性能和光学常数进行研究。实验结果表明，薄膜在可见光范围内的平均透射率在82％以上，并随着Ta2O5含量的增加而增加；薄膜的折射率在1．80～2．07范围内变化（550nm）。对同-Ta2O5含量的薄膜来说，退火后TiO2薄膜和80TiO2—20Ta2O5薄膜的折射率较退火前提高，而90TiO2-10Ta2O5薄膜的折射率较退火前降低。     

高氢稀释硅烷加乙烯法制备纳米硅碳薄膜

在等离子体化学气相沉积系统（PECVD）中，使用高氢稀释硅烷（SiH_4）加乙烯（C_2H_4）为反应气氛制备了纳米硅碳（nc-SiC_x：H）薄膜。随着（C_2H_4＋SiH_4）／H_2（X_g）从2％增加到5％时，由于H蚀刻效应的减弱，薄膜的晶态率从48％下降到8％，平均晶粒尺寸在3．5～10nm。当X_g≥6％时，生成薄膜为非晶硅碳（a-SiC_x：H）薄膜。nc－SiC~x：H薄膜的电学性质具有与薄膜的晶态率紧密相关的逾渗行为。本文将对nc－SiC_x：H薄膜的生长机制和晶化机制进行较详细讨论。     

锡基氧化物薄膜的制备及结构表征

采用直流反应溅射并结合热处理工艺制备锡基氧化物薄膜（SnOx，1≤x≤2），利用扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDX）、x射线衍射仪（XRD）考察退火温度对薄膜表面形貌、组成和结构的影响，并通过恒流充放电初步考察薄膜的电化学性能。研究结果表明，在400-600℃退火温度下制备的SnOx薄膜表面光滑、结构致密；随着退火温度的升高，薄膜中SnO的含量逐渐减少，SnO2的含量逐渐增加，薄膜的晶粒尺寸增大，大小为30-50nm；600℃退火2h获得的SnOx薄膜具有良好的电化学循环稳定性，有望成为高性能的全固态薄膜锂电池阳极材料。     

Fe-Ni-N薄膜的结构及磁性

用双离子束溅射法在玻璃基片上制得了Fe-Ni-N薄膜，研究了Ni含,源气氛及退火温度对Fe-Ni-N薄膜的结构，磁性及热稳定性的影响。选择合适的工艺条件，可制得在（100）面方向有100％晶粒取向度的单一γ′（Fe,Ni)4N相，Ni含量为6．7％（摩尔分数）的Fe-Ni-N薄膜具有较的软磁性能，其饱和磁化强度Ms为2．04T，矫顽力Hc为0.68kA/m。但是随着Ni含量的提高，Fe-Ni-N薄膜的热稳定下降，在主源气压比PN2／PAr较低时，有利于氮含量较低的γ′相的形成，在较高的PN2／PAr条件下，则形成氮含量较高的ε-（Fe,Ni)2-3N相和ξ－（Fe,Ni)2N相。     

可溶性聚吡咯甲烯衍生物的制备与表征

采用逐步分子设计思想,制备了一种溶解性、成膜性优良的聚{（3-丙酰基）吡咯-[2,5-二（对十四烷氧基苯甲烯）]}（PPPDTBE）,并对PPPDTBE的分子结构和性能进行表征与分析。热失重曲线显示,PPPDTBE的热分解过程分为两个阶段,分别对应丙酰基和对十四烷氧基苯基的分解。紫外-可见吸收光谱表明,PPPDTBE氯...     

国际要闻

根据北欧化工公司（BOREAIIS）驻京办事处介绍，北欧化工公司在奥地利年产20万吨聚丙烯装置正式破土动工，予计2000年建成投产。该装置采用北欧化工公司的北星（BORSTAR）双峰技术生产双峰聚丙烯生产线，这是目前世界上第一条双峰聚丙烯生产线。树脂的分子量分布曲线上一般只有一个峰值，而双峰聚烯烃产品有两个。双峰聚烯烃产品与单峰产品相比，在技术上和经济上都有较大的优势。通过北欧双峰技术，可以设计生产符合用户要求的分子量分布和共聚体的含量及分布，改善产品的强度、韧性等物理性能和加工性能，从而在加工和应用方面弥补…     

1996年日本氟树脂工业一瞥

１９９６年日本氟树脂工业一瞥在日本的氟树脂应用中，作为密封材料广泛使用的聚四氟乙烯（ＰＴＦＥ）约占７０％，其它的有可热熔融成型的可熔性聚四氟乙烯（ＰＦＡ）、聚全氟乙丙烯（ＦＥＰ）、高机械强度的聚偏氟乙烯（ＰＶＤＦ）和乙烯一四氟乙烯共聚物（ＥＴＦＥ）等...     

Mn或Cu掺杂非晶AlN薄膜的光致发光特性

研究了Mn或Cu掺杂的非晶AlN薄膜在室温下的发光性质。Cu或Mn掺杂的非晶AlN薄膜是在玻璃衬底上采用中频反应磁控溅射制备的。X射线衍射（XRO）结果表明薄膜为非晶。由X射线能谱（EDX）检测分析结果得到薄膜中Cu和Al含量比例为1：10，Mn和Al含量比例为1：15。光致发光光谱表明Cu掺杂的AlN薄膜能发出强烈的蓝光（～430m）而Mn掺杂则表现为红光（～650nm）。     

Cr在多弧离子镀（Ti，Cr）N复合膜中的作用

利用AlP—01多弧离子镀膜机，通过改变铬靶电流，在高速钢基体上沉积出不同Cr含量的（Ti，Cr）N复合膜涂层，用扫描电子显微镜、微纳米力学测试仪和X射线对薄膜的表面颗粒、硬度及内应力进行了分析。结果表明：薄膜中添加Cr能减小表面颗粒尺寸，提高硬度，当Cr的含量达到31％（wt）时，薄膜硬度达到最高值，此时薄膜的内应力也最大。     

Cr-Si-Ni-N电阻薄膜的晶化与氧化特性

在PN2／PAr2分压比分别为0％，2．5％，5％，10％的溅射气氧化中制备了不同氮含量的Cr-Si-Ni-N薄膜，并研究了薄膜在热处理过程中的晶化，氧化行为以及电性能变化。结果表明，非晶Cr-Si-Ni-N薄膜在加热过程中，将析出晶化相CrSi2，随薄膜中氮含量增加，晶化相的形核与长大减缓，然而，薄膜的抗氧化能力得到提高。与低氮含量Cr-Si-Ni-N薄膜相比，高氮含量Cr-Si-Ni-N薄膜的电阻值在热处理过程中变化较小，欲获得较小电阻温度系数（TCR）需要更高的退火温度。