常温下高氯酸—冰醋酸混合液制取渗金属薄膜样品

使用０．４６ｍｏｌ／ＬＨＣｌＯ４－１６．７ｍｏｌ／ＬＨＡｃ电解抛光溶液进行实验，确定了常温下制取渗金属薄膜样品的电解抛光参数，为Ｂｏｌｌｍａｎｎ法制取电镜用薄膜样品提供了电解参数选择方法。     

常温电解抛光液研制及参数选择研究

在上海交通大学ＭＴＰ－１电解双喷制样仪上，通过对高氯酸与冰醋酸所组成的电解液、高氯酸与甲醇所组成的电解液以及有机溶液组成的电解抛光液的实验，对工艺参数（温度、浓度、电流、电压等）对制取透射电镜薄膜样品抛光效果以及不同电解液的性能进行了综合比较研究，得出了以高氯酸、冰醋酸等的电解抛光液的组成，并提出在ＭＴＰ－１抛光仪上制作透射电镜薄膜样品过程中的最佳抛光工艺条件。     

常温电解抛光液研制及参数选择研究

在上海交通大学ＭＴＰ－１电解双喷制样仪上，通过对高氯酸与冰醋酸所组成的电解液、高氯酸与甲醇所组成的电解液以及有同溶液组成的电解抛光液的实验，对工艺参数（温度、浓度、电流、电压等）对制取透射电镜薄膜样品抛光效果以及不同电解液的性能进行了综合比较研究，得出了以高氯酸、冰醋酸等的电解抛光液的组成，并提出在ＭＴＰ－１抛光仪上制作透射电镜薄膜样品过程中的最佳抛光工艺条件。     

直柄麻花钻电解抛光表面处理新工艺

电解抛光的应用较早,而在直柄麻花钻方面的应用却较少。1989年我厂根据市场需求进行了电解抛光直柄麻花钻的工艺试验,现将试验成功的两种电解抛光工艺简介如下,以供同行参考。 1.电解抛光机理 电解抛光时,以直柄麻花钻为阳极、不锈钢为阴极,产生阳极溶解,使阳极附近金属盐浓度不断增加,产生一种粘性薄膜,这种薄膜导电性不良,引起     

直柄麻花钻表面的电解抛光

<正> 电解抛光的应用较早,但在直柄麻花钻方面的应用目前国内尚未见报道。1989年我厂根据市场需求;进行了电解抛光直柄麻花钻的工艺试验,现将试验成功的两种电解抛光工艺简介如下,以供同行参考。一、电解抛光机理电解抛光时,以直柄麻花钻为阳极,不锈钢为阴极。通电后产生电极溶解,使阳极附近金属盐浓度不断增加,生成一种粘性薄膜,这种薄膜导电性不良,引起阳极极化作用,使阳极电位升高;而在工件凸凹不平表面上薄膜厚度分布是不均匀的,凸起部位的薄膜厚度较小,因而电阻较小、电力线集中,电流密度较低凹部位大,所以凸起部位金属溶解速度大于低凹部位溶解速     

电解抛光在不锈钢表面处理中的工程应用

结合电解抛光的机理及特点,介绍了电解抛光在不锈钢表面处理中的应用。内容包括电解抛光装置的组成、电解抛光化学剂的选择、工艺流程及工艺参数的调整以及电解抛光生产过程中的注意事项。实践表明,电解抛光在不锈钢表面光亮处理中的效果显著。     

巴氏合金模具的机械电解复合抛光研究

针对具有复杂曲面的巴氏合金模具的难抛光，低效率等问题，在数控机床上将电解加工和机械抛光相复合，对模具型腔进行高效抛光，获得了良好的表面质量，由于采用CAD／CAM技术，保证了加工精度，提高了加工效率，文中探讨了数控机床机械电解复抛光的机理，并分析了抛光结果。     

模具钢电解机械复合抛光工艺研究

介绍了电解机械复合抛光实验装置、工作原理及工艺特点，应用电解机械复合抛光工艺对几种模具钢材进行抛光实验，分析了各加工工艺参数对表面粗糙度的影响关系，找出了加工电压、工具转速、废料粒度等对电解机械复合抛光的影响规律。实验表明，只要选配适当的工艺参数，采用此法可以获得及Ra＜0．1μm的表面粗糙度，同时该技术能提高模具制造质量，降低工人劳动强度，缩短模具制造周期。     

合金表面强化层电镜薄膜样品的制备

本文介绍利用PTFE夹具圆片抛光法,以5％高氯酸+95％无水乙醇为电解抛光液,来研制以W、Mo为主要合金元素的堆焊材料表面强化层的透射电镜薄膜样品的制备方法。     

苄叉丙酮的线性扫描极谱法测定

本文报导了一种新的、灵敏的苄叉丙酮测定法－二阶导数线性扫描极谱分析法。在０１ｍｏｌ／Ｌ的氨基乙酸－盐酸介质中（ｐＨ＝２），苄叉丙酮有一还原峰，其峰电位是－０７４Ｖ（ＶＳＳＣＥ），峰电流与被测物浓度在２０×１０－４－４０×１０－５ｍｏｌ／Ｌ之间存在线性关系（ｒ－０９９９５），检测限为１０×１０－７ｍｏｌ／Ｌ，将该法应用于苄叉丙酮含量的测定，结果令人满意。实验表明，其还原波为不可逆波。     

电解磨料喷射复合抛光工艺的研究与应用

研究了电解磨料喷射复合抛光新工艺及抛光特点，并应用于模具抛光。     

筛篮电解抛光工装的设计

设计了一种筛篮电解抛光工装,由铜排梁、内筒、外筒、铜圈及铜片等组成。该工装具有结构简单、操作方便、抛光效果好、适用性广等特点。实践表明：应用该工装可有效提高筛篮质量,提升筛选效果。该结构不仅可用于压力筛筛篮的电解抛光,也可实施和推广至纺织、矿山、食品、环保、化工等相似筛选过滤设备的电解抛光。     

电解机械复合抛光试验及其过程分析

通过研究工艺试验中的表面粗糙度和去除量随时间变化的关系,以及切屑微粒的形貌的提取分析,证明电解机械复合抛光的效率高于纯机械抛光和纯电解抛光,而且在其他工艺条件相同时可以获得更低的极限表面粗糙度值,但是在获得同样表面粗糙度时,复合加工单位面积去除的材料更多。切屑和加工后表面形态显示电解作用主要在工件表面的凸起棱边上,这正是复合加工较机械加工的优势所在。     

Electrolytic Plasma Surface Polishing of Complex Components Produced by Selective Laser Melting

The applicability of electrolytic plasma surface polishing to complex components produced by selective laser melting (SLM) is analyzed. By electrolytic plasma polishing by electrolyte spraying, the surface quality of components produced by SLM may be improved. This technology is found to decrease the surface roughness from R_a = 5.6 μm to 1.4 μm. The optimal pressure of the electrolyte jet is 0.02–0.05 MPa. At high pressures, the process becomes unstable. By electrolytic plasma polishing on the basis of electrolyte jets, uniform external and internal surface roughness of components produced by SLM may be ensured.     

Prediction of the Interface Temperature Rise in Tribochemical Polishing of CVD Diamond

Tribochemcial polishing is one of the most efficient methods for polishing CVD (Chemical Vapor Deposition) diamond film due to the use of catalytic metal. However the difficulty to control the interface temperature during polishing process often results in low material removal because of the unstable contact process. So this research investigates the contact process in the tribochemical polishing of CVD diamond film and proposes a dynamic contact model for predicting the actual contact area, the actual contact pressure, and the interface temperature in the polishing process. This model has been verified by characterizing surface metrology of the CVD diamond with Talysurf CLI2000 3D Surface Topography and measuring the polishing temperature. The theoretical and experimental results shows that the height distribution of asperities on diamond film surface in the polishing process is well evaluated by combining the height distribution of original and polished asperities. The modeled surface asperity height distribution of diamond film agrees with the actual surface metrology in polishing process. The actual contact pressure is very large due to the small actual contact area. The predicted interface temperature can reach the catalytic reaction temperature between diamond and polishing plate when the lowest rotation speed and load are 10 000 r/min and 50 N, respectively, and diamond material is significantly removed. The model may provide effective process theory for tribochemcial polishing.     

环保型缓蚀剂壳寡糖对304不锈钢化学机械抛光的影响

为研究环保型缓蚀剂壳寡糖对304不锈钢化学机械抛光过程和抛光效果的影响,探讨其在抛光过程中与金属表面的作用方式及吸附机制,采用化学机械抛光试验、接触角测量、扫描电子显微镜(SEM)和X-射线色散能谱仪(EDS)分析等方法,研究壳寡糖有机分子对304不锈钢化学机械抛光的影响,采用量子化学计算研究壳寡糖分子的全局反应参数,分析计算反应活性位点,采用分子动力学模拟有机分子在金属表面的吸附并分析活性原子的径向分布。结果表明：CMP抛光过程中添加壳寡糖能够通过吸附作用在304不锈钢表面形成一层疏水性的薄膜,抑制氧化剂对不锈钢表面的刻蚀,提高抛光后的表面质量;在壳寡糖质量浓度为400 mg/L时得到表面粗糙度为1.65 nm的最佳表面质量。量子化学研究表明,壳寡糖的活性反应位点主要为O原子,能够在金属表面形成多中心吸附。分子动力学模拟表明,壳寡糖有机分子能够平行吸附在金属表面,有机分子中的O原子能够与铁原子形成配位键,在吸附中占据主导地位。     

不锈钢表面加工的现状与发展趋势

分析常见不锈钢材料的特点和用途,归纳当前生产中常用的加工方法。在对机械抛光、电解抛光、磁流变研抛等各种加工方法的特点和适用场合进行分析的基础上,指出目前加工方法存在的问题,并对未来的发展趋势提出展望。     

电解-机械-磁力便携式抛光机的研制

针对具有高硬度、高韧性、高强度和低导热性的大型平面或曲面的难加工材料的工件,应用电解—机械—磁力复合抛光工艺原理,研制了便携式抛光机。试验证明,将与工件母材机械性能无关的电解作用和柔性抛光片的机械作用,以及磁场磁力作用的相结合,提高了抛光的效率和质量,解决了不便搬运的大型难加工材料工件的就地抛光问题。     

高效液相色谱法检测红酒中的苯甲酸和山梨酸

建立了高效液相色谱-紫外检测器法对红酒中的苯甲酸和山梨酸进行测定的方法。该方法采用Agilent Eclipse XDB-C18液相色谱柱,0.02mol／L乙酸铵：甲醇（95：5）流动相,在250nm波长下经紫外（VWD）检测器在12分钟内即可完成检测。试验结果表明,该方法样品加标回收率为90％“106％,相对标准偏差为0．65％（苯甲酸）和0．33％（山梨酸）;苯甲酸的栓出限为0．057mg／L,山梨酸的检出限为0．049mg／L。本方法操作简单、准确、快速、灵敏度高,适用于红酒中的苯甲酸和山梨酸的测定。     

InSb薄膜磨抛工艺技术的研究

】在ＩｎＳｂ薄膜制备过程中,用机械磨抛的方法,探索了Ｉｎ２Ｏ３氧化膜的去除和ＩｎＳｂ敏感膜层的减薄、抛光等技术问题,从而提出一种新型磨抛工艺。文章介绍了该工艺的基本原理及不同工艺规范的磨抛结果。