影响同轴磁控溅射镀膜性能的几个问题

7近几年来，镀膜玻璃在建筑行业以及装饰行业已经得到了广泛的应用。而磁控溅射镀膜因其具有高速、低温、低损伤等优点，已经成为真空镀膜技术的主要方式。适用于建筑玻璃镀膜的磁控溅射靶，就其形式有两种：平面靶和同轴圆柱形靶。本文就影响同轴圆柱型磁控溅射靶的溅射性能方面做以下探讨。1磁控溅射原理图1说明如下：电子在电场作用下，加速飞向基片的过程中与氢原子发生碰撞，电离出Ar“并产生电子。电子飞向基片，Ar“在电场作用下加速飞向阴极（溅射靶）并以高能量轰击靶面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子（或分子）沉…     

氩气压对磁控溅射制备CdZnTe薄膜形貌、结构和电学特性的影响

正引言碲锌镉(CdZnTe,CZT)是一种性能优异的Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料,具有高原子序数、高电阻率、优良的载流子输运特性等优点[1-3]。相对于体晶体,CZT薄膜可进行大面积制备,在太阳能电池、工业和医疗用X射线成像等领域具有重要应用前景[4-5].真空蒸镀、磁控溅射、近空间升华等方法均曾被应用于CZT薄膜的制备[1,6]。其中磁控溅射法的优点是薄膜均匀性好、成分可控,可低温制备等[7-7].人们曾经研究过溅射功率、衬底温度、衬底偏压和膜     

磁控溅射源及其在电子工业中的应用

磁控溅射镀膜是近年来迅速发展的新技术，它不仅具有一般溅射镀膜的膜层均匀、致密、纯度高、附着牢、靶材广等优点，还以其沉积速率高、基片温升低这两个显著优点而受到人们的普遍重视。 磁控溅射镀膜沉积速率高、基片温升低的两个显著优点，主要是由于溅射过程中正交电磁场作用的结果，因此讨论正交电磁场在磁控溅射镀膜中的作用，进而正确确定磁控溅射源的各种参数是十分重要的。本文将在理论分析的基础上，对磁控溅射源的诸参数确定予以探讨。     

磁控溅射镀膜技术的发展

磁控溅射由于其显著的优点应用日趋广泛,成为工业镀膜生产中最主要的技术之一,相应的溅射技术与也取得了进一步的发展.非平衡磁控溅射改善了沉积室内等离子体的分布,提高了膜层质量;中频和脉冲磁控溅射可有效避免反应溅射时的迟滞现象,消除靶中毒和打弧问题,提高制备化合物薄膜的稳定性和沉积速率;改进的磁控溅射靶的设计可获得较高的靶材利用率;高速溅射和自溅射为溅射镀膜技术开辟了新的应用领域.     

磁控溅射镀膜织物的抗菌性能研究进展

磁控溅射作为一种低温高速溅射技术,是新型的织物表面改性方法。通过对磁控溅射基本原理和纳米银(Ag)、纳米二氧化钛(TiO_2)、纳米氧化镁(MgO)和纳米氧化锌(ZnO)抗菌机理研究成果的介绍,对应用磁控溅射技术制备抗菌织物的方法、性能评价以及安全性问题进行了分析,探讨了镀膜厚度、预处理以及光照时间等因素对抗菌性能的影响。最后对磁控溅射技术用于制备抗菌织物存在的问题和发展趋势进行了总结。     

低温直流磁控溅射制备ITO薄膜工艺研究

采用低温直流磁控溅射法针对附有有机聚合物玻璃磁控镀制ITO薄膜,通过四探针、紫外可见分光亮度计对样品进行表征,研究了基底温度、溅射功率对ITO薄膜光电性能影响,试验表明:在附有有机聚合物的玻璃上低温直流磁控溅射法制备ITO薄膜,随着基底温度的增加方块电阻先下降后增加,透过率先增加后略微减少;随着溅射功率的增加,薄膜方块电阻减少,透过率降低。     

面向干式电抗器的氟碳纳米结构薄膜性能调控方法研究

氟碳薄膜具有低介电常数和摩擦系数、高热稳定性和化学惰性、强紫外吸收等优点,作为表面修饰材料,有望提升干式电抗器运行时的环境耐候性和绝缘稳定性。以磁控溅射技术制备氟碳薄膜具有杂质粒子污染少、沉积面积大、反应物成本低、无环境污染等优点。溅射过程中等离子体状态是影响薄膜质量的关键因素,本文讨论了真空室温度和基底温度协同作用对氟碳薄膜化学组分、微结构、沉积速率和微观形貌的影响。结果表明：温度直接作用于溅射组分的产生、输运和沉积过程;温度升高使薄膜表面呈现颗粒-团簇-三维网状结构的形貌演化规律;随溅射温度增加,沉积速率、粗糙度、氟碳比和sp3杂化碳占比增大,薄膜朝类聚四氟乙烯（PTFE-like）的方向发展,有望获得更优异的理化特性。     

溅射靶材的应用及发展前景

<正>溅射靶材是指通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、玻璃、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等众多领域,不同领域需要的靶     

磁控溅射低温制备高电导高透明氢掺杂薄膜

通过分析直流磁控溅射技术低温制备高电导和高透明的氢掺杂AZO薄膜实验,明确了溅射技术对于低温制备AZO薄膜的重要作用。由此可以证明,引入适量氢气,有利于提升AZO薄膜的电阻率。     

磁控溅射制备聚四氟乙烯低温超疏水薄膜

针对输电线路工程中绝缘子的低温防结冰要求,采用磁控溅射技术在玻璃基底上制备聚四氟乙烯低温超疏水薄膜,研究了溅射制备工艺参数对薄膜超疏水性能的影响,并探究了薄膜的低温超疏水性能。利用水接触角测量仪,扫描电子显微镜以及表面轮廓仪分别对薄膜表面的润湿性能、表面形貌、膜厚以及粗糙度进行表征。结果表明,用磁控溅射工艺制备的聚四氟乙烯薄膜具有优异的疏水性能,其表面的最大静态水接触角可达170°±3°,并在低温下能够保持其超疏水的性能。     

功率密度对中频磁控溅射制备的氧化锌镓薄膜性能的影响

利用中频磁控溅射方法,溅射Ga2O3含量为6.7wt%的氧化锌镓陶瓷靶材,在低温下(约40℃)制备了ZGO薄膜.考察了溅射功率密度对ZGO薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响.结果表明:溅射功率密度对薄膜的结构、红外反射以及导电性能有较大影响.当溅射功率密度为3.58W/cm2,氩气压力为0.8Pa时,薄膜的电阻率低达1.5×10-3Ω·cm,方块电阻为23Ω时,可见光(λ＝400nm～800nm)平均透过率高于90%.     

溅射镀及其应用

溅射镀技术在最近几年获得了显著进展和广泛应用,本文介绍它的发展、原理、设备类型及其在工业上的应用。尤其是低温高速溅射镀特别引人注目。     

溅射沉积技术的发展及其现状

论述了溅射沉积薄膜技术的发展历程及其目前的研究应用状况.二极溅射应用于薄膜制备,揭开了溅射沉积技术的序幕,磁控溅射促使溅射沉积技术进入实质的工业化应用,并通过控制磁控靶磁场的分布方式和增加磁控靶数量,进一步发展为非平衡磁控溅射、多靶闭合式非平衡磁控溅射等,拓宽了应用范围.射频、脉冲电源尤其是脉冲电源在溅射技术中的使用极大地延伸了溅射沉积技术的应用范围.     

铝基板磁控溅射离子镀铜的研究

磁控溅射是七十年代发展起来的一种新型溅射技术。由于沉积速度快、镀覆面积大、镀膜均匀,以及镀膜的附着性较好等优点,磁控溅射成了一种应用愈来愈广泛的涂覆技术,被用来在各种材料(金属、陶瓷、玻璃、塑料、涤纶薄膜和纸张等)表面上沉积各种用途的外接膜。关于磁控溅射镀膜技术已有相当多的论述,但是把磁控溅射技术做为金属材料表面合金化的一种手     

高靶材利用率的新型磁控溅射器

在现代大型薄膜连续生产线中 ,其生产效率主要受以下两因数的影响 :溅射器的沉积速率和靶材的使用周期。本实验研制了一种圆筒形靶材绕溅射器中心轴线匀速旋转 ,并且与溅射器之间用螺丝固定连接的新型磁控溅射器。论述了新型溅射器的结构与组成 ,并给出实验结果与结论。其具有靶材利用率高、使用周期长、换靶时间短等优点。同时在反应溅射时避免在靶面上的形成介质层 ,提高了溅射过程的稳定性。     

利用脉冲直流磁控溅射制备ZnO:Al薄膜的研究

利用中频脉冲直流磁控溅射法制备了平面ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜,研究了沉积压力、衬底温度和溅射功率对AZO薄膜光电性能、薄膜稳定性的影响.结果表明:在较低沉积压力、衬底温度及溅射功率下,可获得具有低电阻率、高透过率、高稳定性的AZO薄膜.     

S-枪偏压溅射及其应用

一、引言磁控溅射是七十年代发展起来的一项新技术,在溅射镀膜方面是一次飞跃。其特点是溅射速率大,材料适应性广,膜层致密,与基片结合牢固,尤其可在低温下淀积。目     

高靶材利用率的新型磁控溅射器

在现代大型薄膜连续生产线中,其生产效率主要受以下两因数的影响;溅射器的速率和靶材的使用周期,本实验研制了一种圆筒形靶材绕溅射器中心轴线匀速旋转,并且与溅射器之间用螺丝固定连接的新磁控溅射器。论述了新型溅射器的结构与组成,并给实验结果与结论。其具有靶材利用率高,使用周期长,换靶时间短等优点。同时在反应溅射时避免在靶面上的形成介质层,提高了溅射过程的稳定性。     

ZrOxNy薄膜的制备与低温电输运特性研究

针对于测温应用中对低温温度计的性能需求,为了获得灵敏度高和测温区间宽的氮氧化锆(ZrOxNy)电阻温度传感薄膜,系统研究了溅射气氛中O2流量对ZrOxNy薄膜结构和低温电输运行为的影响.采用射频反应磁控溅射工艺,通过精细调整溅射沉积过程中的O2流量在Al2O3基片上生长了系列ZrOxNy薄膜,测定了薄膜的晶体结构、形貌...     

基于神经网络的AZO薄膜制备工艺参数的正交优化设计

采用磁控溅射法制备AZO薄膜,研究和讨论了溅射功率、溅射时间和溅射气压3个工艺参数对AZO薄膜光学和电学性能的影响。采用正交优化设计,对3个工艺参数进行优化,测量了透射率和电阻率,以此作为薄膜光电性能的评价指标,通过极差值分析确定了制备薄膜的最佳工艺参数。影响薄膜透射率的最主要因素为溅射气压;影响电阻率的最主要因素为溅射时间。获得制备高透射率低电阻率的AZO薄膜的最佳工艺组合方案为溅射功率为400W、溅射时间为1000s、溅射气压为1.0Pa。将反馈型(BP)神经网络应用于磁控溅射AZO薄膜光学性能(可见光区的平均透射率)和电学性能(电阻率)的研究。输入样品数据对神经网络进行训练,建立AZO薄膜光电性能随溅射参数变化的预测模型。