模拟浮法在线工艺制备多功能TiN镀膜玻璃

本文模拟浮法玻璃在线CVD镀膜工艺,利用常压化学气相沉积小型镀膜机,以TiCl_4和NH_3作为反应物前驱体,成功地在玻璃表面镀制一层TiN薄膜,获得了具有高阻隔紫外及反射红外的多功能镀膜玻璃。对其性能进行分析显示:随着反应物NH3流量的增加,TiN薄膜阻隔紫外线的性能逐渐提高,在近红外区的Drude型反射区域有所缩小,但其在高频近红外波段的反射率有所提高。当NH_3达到300sccm时,能够完全阻隔低于380nm的紫外线波段,反射红外线效果良好。随着基板移动速率的增大,在一定程度内可以提高薄膜对近红外线的反射能力,但阻隔紫外线的性能逐渐降低。     

常压化学气相沉积硅镀膜玻璃结构、表面形貌与光学性能比较研究

本文通过高分辨电镜(HREM)、原子力显微镜(AFM)分析,反射率、透射率测试以及薄膜厚度的测试,研究了常压化学气相沉积法硅镀膜玻璃硅薄膜的结构、表面形貌(颗粒数量、大小和分布)对镀膜玻璃反射率、透射率的影响.研究发现不同的制备工艺(沉积温度和基板走速)对薄膜的平均反射率和平均透过率有很大的影响,通过控制合适的工艺参数可以制得具有纳米颗粒镶嵌结构的复合薄膜.具有此种形貌结构的薄膜能在基本部增大透过率的情况下有效减少薄膜镜面反射,减少光污染.     

TiN镀膜玻璃的常压化学气相沉积法制备及其光电性能研究

本研究以TiCl4和NH3为反应气体,N2为保护气氛,用常压化学气相沉积法(APCVD)在玻璃基板上沉积制备得到了一系列不同反应温度和原料浓度的TiN薄膜.利用X射线衍射(XRD)和方块电阻仪研究了反应温度和原料浓度对薄膜结晶性能和电性能的影响规律.研究结果表明随着基板温度升高、TiCl4浓度的增加,薄膜结晶性能提高,同时电阻率降低.在反应温度为600 ℃时得到了结晶性能较好的TiN薄膜,其方块电阻为186.7 Ω,红外光反射率为0.2526.     

低辐射隔热复合镀膜玻璃的制备

采用溶胶-凝胶法成功制备了SnO2∶F/SiO2气凝胶复合镀膜玻璃,并采用扫描电子显微镜(SEM)、导热系数仪、红外光谱仪,紫外-可见光谱仪等对镀膜玻璃的微观结构、热导率、辐射率、透光率等进行了表征。结果表明,镀膜玻璃的透过率最高在75%左右;辐射率为0.53,复合镀膜玻璃与FTO玻璃相比,其热导率从3.615W/(m·K)降低到3.368W/(m·K),所得复合镀膜玻璃兼具低热导性和低辐射性。     

掺氮纳米金刚石膜的制备和性能

以Ar、CH4和CO2为反应气源,以三聚氰胺的甲醇饱和溶液为掺杂源,用微波等离子体化学气相沉积法在单晶硅基体上制备了掺氮的金刚石薄膜;用原子力显微镜,拉曼光谱以及霍尔效应测试仪等手段表征了膜的组成结构和半导体特性.结果表明:掺氮的金刚石薄膜晶粒平均尺寸约为20 nm,表面粗糙度约为8.935 nm,其拉曼光谱为典型的纳...     

热丝化学气相沉积(H FCVD)在铜箔上制备双层石墨烯薄膜的研究

双层石墨烯独特的物理性能和特性使其在电子领域拥有广阔的应用前景,引起了学者的广泛关注。采用热丝化学气相沉积方法(HFCVD)在1 cm×2 cm的铜箔上制备石墨烯薄膜,并通过探究腔内气压、基体温度、沉积时间、碳源浓度对石墨烯层数和质量的影响,开发出制备低缺陷双层石墨烯的工艺。采用拉曼光谱仪、扫描电子显微镜和原子力显微镜对石墨烯涂层的结构特征、表面形貌和层数进行了表征。实验结果表明,在铜箔上制备出了均匀致密的低缺陷双层石墨烯,厚度为1.5 nm。此外研究结果还表明,降低腔内气压可减少缺陷和层数,增加基体温度可减少层数,沉积时间4 min或碳源浓度高于1%则无石墨烯生成。因此通过控制腔内气压、基体温度、沉积时间和碳源浓度可实现石墨烯可控生长。     

CNx薄膜的制备和光电性能

以单晶硅片(100)和镀Pt硅片为衬底,用电化学沉积方法在阴极制备出CNx薄膜(x接近于1),薄膜的表面平滑,颗粒均匀.热处理后得到了β-C3N4和α-C3N4多晶结构薄膜.热处理温度的提高使薄膜中的C≡N键逐渐减少而消失,氮元素的流失使薄膜中非晶碳的成分增多,但是薄膜中碳氮逐渐以sp3C-N为主.薄膜的能带在1.1～1.8 eV之间,氮含量对能带大小影响较大.热处理使薄膜的电阻率(高于108Ω@cm)变化不大.氮含量影响PL谱中3.0和3.5 eV处发射峰的峰强,不影响峰位.     

锡催化生长氧化硅纳米线的制备和表征

使用高纯SnO2粉和石墨粉混合物作为锡催化剂的来源,硅片作为硅的来源和产物生长的基底,用化学气相沉积法在硅片上准备了有序排列的氧化硅纳米线组成的微米结构,用扫描电子显微镜(SEM)、X-射线能谱仪(EDX)、透射电子显微镜(TEM)和选区电子衍射谱图(SAED)对其进行了表征.结果表明:直径为5-15 μm,长度达到5...     

改变基底合成不同形貌碳纳米管宏观结构

采用化学气相沉积法,选用不同基底和表面涂层合成了碳纳米管垂直阵列薄膜、管束和条带三种碳纳米管宏观结构,并用扫描电镜（SEM）和透射电镜（TEM）进行了表征。结果表明：在石英涂层上合成的定向碳纳米管薄膜厚度达毫米级;在表面有Al2O3涂层的不锈钢基底上可合成碳纳米管垂直阵列薄膜和不同尺寸宏观管束结构;在表面有SiO2涂层...     

热阴极辉光放电对金刚石膜沉积的影响

研究了在热阴极辉光放电等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中，热阴极辉光放电特性与金刚石膜沉积工艺的关系．结果表明，适当的阴极温度是保证大电流、高气压辉光放电的必要条件．阴极的温度影响辉光放电阴极位降区的放电性质．金刚石膜的沉积速率随着气体压力(16～20kPa)的升高而上升，在18.6kPa左右出现最高值，而阳极位降区电场强度的降低使膜品质下降．放电电流(8～12A)对沉积速率的影响与气体压力的影响具有相似的规律．     

化学共沉淀法制备MnZn铁氧体前驱物微粉及其性能

首先对Me(Me=Fe2+、Mn2+、Zn2+)在Me-NaOH-H2O体系中的沉淀行为进行了必要的热力学分析,在此基础上,通过化学共沉淀法制备了尖晶石型的MnZn铁氧体前驱物微粉。利用XRD、SEM对前驱物粉料的粒度分布、物相以及表面形貌进行了表征与测试,并结合TG-DSC(热重与差热扫描分析)对前驱物微粉的煅烧温度进行了分析。前驱物微粉的磁性能由振动样品磁强计(VSM)来表征。实验表明Me在Me-NaOH-H2O体系中共沉范围为10.0～10.7。在此pH范围内,配以一定的盐溶液流速及搅拌速度下,可直接制备出具有尖晶石结构的前驱物微粉,并有效地解决了共沉淀制粉中的洗涤困难的问题。前驱物粉的磁性能测试表明,比饱和磁化强度σs≈64.09A.m2/kg,比剩余磁化强度σr≈3.08A.m2/kg,矫顽力Hc≈0.51A/m。     

用于微机电系统的类金刚石膜制备及表征

采用等离子体源离子注入和电子回旋共振-微波等离子体辅助化学气相沉积技术相结合的方法在Si衬底上制备出了性能良好的类金刚石膜.通过共聚焦Raman光谱验证了薄膜的类金刚石特性,用原子力显微镜、微摩擦计和扫描电镜等对薄膜的表面形貌、摩擦系数和耐磨损性能进行了表征和测量.结果表明,用离子注入法制备过渡层大大提高了DLC膜与衬底的结合强度,薄膜的表面比较光滑,粗糙度大约为0.198 nm,具有较低的摩擦系数(0.1～0.15),具有较好的耐磨损性能.     

Nanostructure analysis of graded oxidation coated glass prepared by APCVD on-line

A solar-control coated glass was prepared using chemical vapor deposition in the A0 zone of an annealing furnace of a float glass manufacturing line. The surface morphology and microstructure of the coated composite film were analyzed by scanning electron microscopy (SEM) and secondary-ion mass spectrometry (SIMS). This shows that the surface of amorphous silicon is smooth, the size of the nodules is about 100-200 nm, the surface roughness is 9.66 nm and the thickness of the layer is 70-78 nm. An oxidization gradient along the thickness of the silicon layer was observed.     

含碳纳米管的新型抗静电纤维的制备和性能

将多壁碳纳米管分散在自制的抗静电载体PR-86中制备出新型、高效和耐久的抗静电母粒．抗静电母粒的添加量仅为0．5％就可以制备出性能优良的“基体-微纤”型抗静电PP纤维．该纤维的抗静电机理为异极性大分子放电机理．多壁碳纳米管的存在增强了微纤相的极化程度和抗静电母粒的抗静电效果．抗静电纤维的抗静电性具有耐久性．抗静电母粒对纤维的性能基本上没有影响．     

化学气相沉积法制备无机分离膜

介绍化学气相沉积（ＣＶＤ）法在无机分离膜备方面的应用，以及近期此研究领域的一些进展。     

FHA涂层的制备及生物活性

采用沉淀法制备了F掺杂HA的FHA(Ca_(10)(PO_4)_6(OH)F)粉末,并通过电泳沉积在钛合金(Ti6Al4V)表面制备了FHA涂层。通过X射线衍射(XRD),扫描电镜(SEM),能谱仪(EDS)研究了基体预处理方式对涂层形貌和结合力的影响,并且研究了涂层的生物活性。结果表明:酸处理后涂层表面有微裂纹存在,酸处理+碱处理后的涂层表面无裂纹并具有更高的结合强度;FHA涂层浸泡后表面形成缺钙类骨磷灰石,成花瓣状生长,长度为几百纳米,具有优良的生物活性。     

真空镀膜玻璃的色差分析与测定方法探讨

影响真空镀膜玻璃外观的关键质量指标是其颜色的均匀性,本文根据实际情况,较详细地论述和探讨了真空镀膜玻璃的色差分析和测定,提出了一种镀膜玻璃色差指标的表征方法。