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8.0nm附近Mo/B4C软X射线多层膜初步研究 总被引:2,自引:0,他引:2
介绍研制8.0nm波长附近正入射Mo/B4C软X射线多层膜的初步研究结果。讨论了包括镀膜材料的选择、多层膜结构设计及多层膜性能模拟计算和用磁控溅射法制备以膜的镀膜工艺等在内的多层膜制备过程,并对制备的软X射线多层膜进行了结构测试。制备出的Mo/B4C软X射线多层膜将主要用于X射线激泖打靶实验中。这是目前国内首次开展的10.0nm波长以下实用软X射线多层膜镜的研究工作。 相似文献
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用磁控溅射法制备软X射线多层膜 总被引:3,自引:0,他引:3
本文介绍用直流-射频平面磁控溅射法制备软x射线多层膜的初步实验结果。在一定工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,严格按照设计周期制备了多层膜样品,并给出了X射线衍射仪小角衍射的检测结果。 相似文献
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在λ=28.5nm波长处,我们选择了一种新的多层膜材料对C/AI。正入射A/AI多层膜在15.0nm附近有很低的二级衍射峰。磁控溅射法制备的C/AI多层膜样品,用X射线小角衍射法对其结构进行了测试,并测得C/AI软X射红多层膜的正入以射率22%±4%。 相似文献
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分析了同步辐射软X射线多层膜反射率计;介绍了单色器系统、反射率计系统、真空系统以及双重二倍角机构的设计要点。 相似文献
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软X射线多层膜是当前应用光学和工程光学的研究热点之一,反射率是其性能和膜层质量最直观的参数,它的测量对了解多层膜性能和改进多层膜制备工艺具有重要意义。本文介绍采用带有前置光学系统的大面积透射光栅光谱仪分光,让软X射线多层膜反射+1级或-1级软X射线,用国产的SIOFM型X射线胶片接受软X射线,通过测量可定性地判断多层膜制备质量,为改进多层膜制备工艺提供重要的参考依据。 相似文献
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介绍我们为北京正负电子对撞机(Beijing Electron Position Collide,BEPC)同步辐射实验室建造的软X射线光刻光束线的总体设计思想,并说明其中的束线物理设计、反射镜扫描、调整机构、激光模拟光源、真空系统和电子学、微机控制等系统中的关键技术。此外,对束线中的关键器件之一的超薄铍窗(18μm厚)的耐压强度给出了与理论计算趋势相一致的实验结果。 相似文献