柔性基片上In2O3：Sn和ZnO：Al薄膜的制备及其电学和光学特性

利用直流磁控反应溅射铟锡合金靶和锌合金钯,在软基片上低温沉积了Ｉｎ２Ｏ３：Ｓｎ（ＩＴＯ）和ＺｎＯ：Ａｌ（ＺＡＯ）透明电薄膜。结果表明,ＩＴＯ和ＺＡＯ薄膜均出现晶格畸变;柔性基片上低温沉积薄膜的电阻率对氧分压的依赖性远低于硅和玻璃衬底;尺度效应对薄膜电阻率有重要的影响。     

ITO薄膜的光学性能研究

采用溶胶-凝胶法制备了ITO薄膜，并对溶胶-凝胶法中Sn掺杂量、后续热处理温度以及热处理时间3种工艺参数对ITO薄膜可见光区透射率的影响进行了分析和研究。研究结果表明：w(Sn)掺杂量小于10％时，ITO薄膜的透射率下降缓慢，掺杂量大于10％后，薄膜的透射率急剧下降；随着热处理时间的延长，ITO薄膜的透射率直线型下降；热处理温度与ITO薄膜透射率呈曲线关系，热处理温度为500℃时，ITO薄膜的透射率出现最大值。     

磁控溅射制备In2O3-SnO2薄膜与分析

选择In2LO3与SnO2质量比11的靶材为溅射源,采用磁控溅射法沉积了ITO薄膜,讨论了溅射氩气压强、氧流量、基体温度对薄膜透射率和方阻的影响,深入分析了其机理.研究结果表明溅射时采用低Ar压强更有利于降低ITO薄膜的电阻率,并确定最佳氩气压强为0.2 Pa,厚度为120 nm的ITO薄膜在可见光区的透过率可达到90%;氧流量能明显改变薄膜的性能,随着氧流量从0增加10 L/min(标准状态下,下同),载流子浓度(N)则由3.2×1020降低到1.2×1019/cm3,N值的变化与ITO薄膜光学禁带宽度(Eg)的变化密切相关.振子模型与实验结果吻合,并确定了ITO薄膜的等离子波长(λp=1 510 nm).薄膜随方阻减小表现出明显的"B-M"效应.通过线性外推,建立了直接跃迁的(αE)2模型,并确定了薄膜的Eg值(3.5～3.86 eV).     

SiO2缓冲层对柔性ITO薄膜特性的影响

利用离子辅助蒸发技术在PET塑料衬底上制备柔性ITO薄膜,重点分析了柔性ITO薄膜在增加SiO2缓冲层前后的性能变化.采用X射线衍射、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测量仪、NT100光学轮廓仪等测试手段对薄膜样品进行表征.实验结果表明:增加缓冲层后,柔性ITO薄膜的X射线衍射特征峰的强度增加;薄膜电阻率减小为1.21×10-3Ω·cm;可见光峰值透过率为85%左右;表面相对光滑;薄膜电阻在一定的弯曲状态保持一定的稳定性.     

ITO薄膜性能、应用及其磁控溅射制备技术的研究

研究了ITO薄膜的性能、应用以及磁控溅射制备技术,并对相关技术的发展趋势进行了探讨.     

纳米V2O5薄膜的制备与特性

采用溶胶.凝胶法在Si和普通玻璃基底上制备V2O5纳米薄膜.在空气中对样品进行不同温度的退火处理.利用X射线衍射、扫描电子显微镜和分光光度计对制备的V2O5薄膜的结构、形貌和光学特性进行研究.XRD和SEM研究结果表明:可以通过升高退火温度来提高薄膜的结晶程度、颗粒尺寸及其均匀程度,并增强V2O5的择优取向性.透射谱和吸收谱的研究结果表明:随着退火温度的升高,V2O5薄膜的吸收边缘发生红移,光学带隙逐渐变窄.     

柔性衬底ITO透明导电薄膜的光电性能研究

利用直流磁控溅射方法在柔性聚酯薄膜衬底上制备了氧化铟锡（ITO）透明导电薄膜，采用X射线衍射、紫外．可见分光光度计、四探针电阻测量仪等测试手段对薄膜样品进行表征，研究了氧含量、薄膜厚度、村底负偏压对ITO薄膜的晶体结构和光电性能的影响，优化了柔性衬底ITO薄膜的制备工艺条件。制得样品的最佳可见光平均透过率为85．6％，方块电阻为6Ω／口。     

玻璃衬底温度对溅射制备SnO2-Al2O3双金属元素薄膜电学及光学特性的影响研究

采用射频(RF)磁控溅射法在玻璃衬底上制备了SnO₂-Al₂O₃ (SAO) 双金属元素薄膜. 通过扫描电镜(SEM)图像,X射线衍射(XRD)图谱,四探针测量,UV-IR及光致发光(PL)谱研究了衬底温度对薄膜表面形貌,晶体微结构,电学及光学特性的影响. 当衬底温度增加时,SAO薄膜的晶粒尺寸增大. SEM图像及XRD图谱所显示的均质表面结构及大晶粒尺寸表明薄膜具有良好的表面形貌和结晶度. 在400-800nm的可见光范围,薄膜的透射率可达~80%-90%, 计算得到薄膜的带隙约4.11-4.14eV, 表面电阻约7.0 -9.4 . 通过合理选择溅射温度, 薄膜的带隙可得到增宽, 表面电阻可被降低. 测量还发现所制备SAO薄膜的PL谱在UV及红光带发光. 这种多晶SAO薄膜可用于透明导电氧化物(TCO)薄膜, 太阳能电池窗, 传感器及光发射器.     

高透明低发射率ITO薄膜的制备及其光电性能研究

目的研究磁控溅射工艺对ITO薄膜光电性能的影响,为制备高性能ITO薄膜提供数据和理论支撑。方法采用磁控溅射在PET基材上制备ITO薄膜,利用扫描电镜、X射线衍射仪、分光光度计、四探针、红外发射率测仪、Hall效应测试系统等,分析工艺参数对ITO薄膜光电性能的影响。结果随着氧气流量的增加,ITO薄膜在可见光区的透过率先增加,然后变缓,薄膜方块电阻先降低后升高;随着工作气压的增加,ITO薄膜的可见光透过率增加,薄膜方块电阻先下降后上升,电阻率先变小再增大,载流子浓度先增大后减小,红外发射率先减小后增大,晶体结构逐渐由晶态转变为非晶态;随着氩氧比的降低,薄膜红外发射率先降低,然后缓慢升高;随溅射时间的增加,薄膜的厚度逐渐增大,方块电阻、红外发射率和可见光透过率迅速下降,晶体结构逐渐由非晶结构转变为晶体结构。综合对比研究发现,当氧气流量为0.6 mL/min、工作气压为0.4 Pa、氩氧比为19.8∶0.2、溅射时间为80 min时,可获得综合性能优异的ITO薄膜,其可见光透过率大于80%,在8～14μm红外波段的辐射率小于0.2。结论磁控溅射工艺参数是决定薄膜综合质量的重要因素,通过严格控制工艺参数,可获得透明性高、发射率低的ITO薄膜。     

脉冲电弧沉积类金刚石薄膜特性的研究

利用脉冲电弧镀技术在硅基片上沉积类金刚石薄膜,研究薄膜的光谱特性、摩擦磨损特性、硬度、电阻率和稳定性.用椭圆偏振法测试拟合得到薄膜的光学常数,傅立叶变换红外光谱仪测试薄膜的光谱特性;利用摩擦磨损实验仪测量薄膜的耐摩擦性能;利用维氏硬度计表征薄膜的硬度.结果表明薄膜在光谱范围1.25～10μm内透明,光学常数随波长的变化而变化,具有高达40GPa的维氏硬度、高的电阻率、良好的摩擦学特性和化学稳定性等.     

Ni－La_2O_3复合镀层中的质点弥散与组态研究

用金相、电子探针（ＥＰＭＡ）、透射电镜（ＴＥＭ）及高分辨电子显微镜（ＨＲＥＭ）对Ｎｉ－Ｌａ２Ｏ３复合电镀层的表面形貌及ＬａＯ３质点在镀层中的存在情况进行了研究．发现随着镀液中Ｌａ２Ｏ３颗粒含量增加，复合镀层中Ｌａ２Ｏ３的弥散量增多，镀层晶粒细化．Ｌａ２Ｏ３质点以两种组织状态均匀分布于镍层中：其一为纳米级晶体（绝大多数＜５０ｎｍ）的弥散状态；另一种为微米级（～１μｍ）的“聚合体”状态，是由更微小的纳米晶体（～１０ｎｍ）所组成，由于Ｎｉ－Ｌａ２Ｏ３复合镀层用作扩散渗铝制备Ｌａ２Ｏ３氧化物改性的铝化物涂层的基底层，文中还就复合涂层的Ｌａ２Ｏ３质点弥散与组态对改性的铝化物涂层的显微结构及其氧化行为的影响作了进一步探讨．     

Fex（In2O3）1—x磁性颗粒膜的微结构与磁性

用射频溅射法制备了金属／半导体Ｆｅｘ（Ｉｎ２Ｏ３）１－ｘ颗粒膜,用ＸＲＤ,ＴＥＭ辅以磁性测量研究了该系列颗粒膜的微结构,实验结果表明,纳米尺度的Ｆｅ颗粒均匀地分散在非晶态Ｉｎ２Ｏ３中,退火史Ｉｎ２Ｏ３晶化,其晶格常数与Ｆｅ的体积分数有关;退火可使Ｆｅ颗粒长大,由超顺磁性变为铁磁性。     

STRUCTURE AND PROPERTIES OF RE-Ni-B-Al_2O_3 COATING MATERIAL

1.IntroductionItiswellknownthatdiamond,carbide,boride,nitrideandoxidehavehighhardness,lowfrictioncoefficientandgoodwearresistance,yettheiruseislimitedbecauseoftheirlowtensilestrength,weakcapacity0fp0undingandp0ormachinability['].Whileins0lublesolidparticlesareaddedintheelectr0lessbathtoenablethemtoc0dep0sitwithmetals0naplatetoformauniformc0mp0sitelayer,theplatewouldpossessbettercharacteristicsthanthebaremetals0ralloysI2-6].Thestabilizerandactiveagentf0rthebatharedeveloppedbyalot0fexperimentson…     

Al_2O_3+30m%TiC基复合陶瓷磨粒磨损性能

利用MLS－23型橡胶轮试验机测定了三种Al_2O_3＋30m％TiC基复合陶瓷的磨粒磨损性能并分析了其磨损特点，结果表明，材料的磨损率随载荷的增加近似呈线性上升，磨粒硬度的高低对材料磨损率有较大的影响，ATZW复合陶瓷的耐磨性最好。     

冷处理对Y2O3—ZrO2陶瓷的显微结构和力学性能的影响

通过TEM显微结构分析,XRD相分析和力学性能测试,研究了冷处理对Y_2O_3—ZrO_2、陶瓷的显微结构与力学性能的影响。结果表明:Y_2O_3—ZrO_2(3Y—PSZ)陶瓷经液氮处理后、产生平行排列的m相板条,同时,m相板条周围出现微裂纹,适当的冷处理降低了t相的稳定性,导致施加应力时t→m相变量增加,可以有效地改善Y_2O_3-ZrO_2陶瓷的强度和韧性,但冷处理时间过长,则出现过时效现象。     

THE EFFECT OF SUBZERO TREATMENT ON THE MICROSTRUCTURE AND MECHANICAL PROPERTIES OF Y_2O_3-ZrO_2 CERAMIC

The effect of subzero treatment on the microstructure and mechanical properites of Y_2O_3-ZrO_2 ceramic have been investigated by TEM,X-ray diffraction and test of mechanicalproperties.It was shown that the microstructre of 3Y-PSZ after subzero treatment byliquid nitrogen exhibits very long and parallel laths of m-phase and some microcracksaround the larger and finer lath of m-phase may be discovered.Suitable subzero treatmentcan improve the strength and toughness of Y-PSZ efficiently because of decreasing thestability of t-phase and incresing the amount of t-m transformation when exerting astress.However,when the time of subzero treatment exceeds,the over aging effect mayarise.which can decrease the strength and toughness of the material.     

SrO-ZnO-B_2O_3-SiO_2-M_2O_3(M=Y,La,Gd)玻璃的制备和发光

采用传统熔体冷却技术制得了新型SrO-ZnO-B_2O_3-SiO_2-M_2O_3(M=Y La,Gd)发光玻璃.对玻璃密度、紫外-可见光区的透过性能以及荧光发射进行了检测.结果表明:SrO-ZnO-B_2O_3-SiO_2(SZBS)玻璃在可见光区具有高透过性能,稀土氧化物的引入增强了玻璃在可见光区的透过率.SZBS玻璃的激发主峰位于221 nm附近,发射光谱则是峰值位于410、475和502 nm附近的宽带,且蓝绿光强于紫外光发射,紫外光和蓝绿光发射分别归属于ZnO激子复合发光、Zn间隙原子的复合发光以及电子和深俘获的空穴复合发光.在SZBS玻璃组成中引入稀土氧化物造成激发峰红移并能增强玻璃的蓝绿光发射.     

YBa2Cu3O7—x—Ag界面与表面的研究

使用XRD,SEM-EDX和LAS-3000联合谱仪研究了YBCO-Ag界面与表面。结果表明,YBCO体内掺0.4 mol Ag对123结构无影响.Ag偏聚在晶界上使晶粒间变得明显清晰;AES分析指出Ag偏聚在表面上,降低了YBCO-金属导线的接触电阻.实验还证实,不论掺入的原料是单质(Ag粉)还是化合物(Ag_2O,AgNO_3),经高温退火处理,Ag总是以单质形态固溶和偏聚在晶界及表面上,由于Ag的室温电阻率很小,有利于增强超导颗粒间的连通性。     

原位合成(Al_2O_3+Al_3Ti)_P/Al复合材料的制备研究

通过对Al-TiO_2-SiO_2体系混合粉末固-液原位合成制备出了(Al_2O_3+Al_3Ti)_P/Al复合材料.利用X射线衍射仪、扫描电镜等方法观察分析了其物相和显微组织形貌.结果表明:原位反应制备的(Al_2O_3+Al_3Ti)_P/Al复合材料,金属间化合物增强相Al_3Ti均匀分布于基体,陶瓷相Al_2O_3颗粒非常细小,弥散分布于基体中,使材料的硬度等性能得到提高.