亚半微米投影曝光机的逐场调焦调平技术

介绍用于亚半微米分步重复投影曝光机的ＰＳＤ调焦调平、激光干涉调焦调平、多点高度测量传感和单光路多点检测等逐场调焦调平技术，较详细地阐述各技术原理、组成及能达到的精度，分析各种方法的优缺点和主要实用范围，为自主研制亚半微米分步重复投影曝光机的逐场调焦调平系统提供了参考方案。     

亚半微米投影光刻的自动对准技术

主要介绍了国外用于生产型亚半微米分步投影曝光机的几种自动对准技术。通过分析对比，指出了相位光栅自动对准技术是我所研制下一代分步曝光机最具吸引力的方案。     

0.8～1μm分步重复投影光刻机主要机构控制系统研制

传输片、预对准、调平及预调焦系统是分步重复投影光刻机的重要组成部分 ,其精度和运行可靠性对分步重复投影光刻机的整机性能指标将产生重大影响。介绍了 0 8～ 1 μm分步重复投影光刻机传输片、预对准、调平及预调焦控制系统的组成及控制软件 ;分析了预对准、机械手上片、调平及预调焦的精度和运行可靠性 ,并给出了研制结果。     

高精度逐场调焦调平实时动态控制算法研究

主要介绍一种高精度逐场调焦调平实时动态控制算法。逐场动态精确求解耦合传递矩阵和解耦矩阵，将每个 Ｃ Ｈ Ｉ Ｐ的坐标位置和尺寸纳入耦合关系，使各控制回路实时独立调节，以满足系统稳定和高精度实时逐场调焦调平。     

光电子技术

TNZ 00020137高精度逐场调焦调平实时动态控制算法研究/张津,姚汉民,唐小平,胡淞(中国科学院光电技术所)11微细加工技术.一1999,(3).一35一40主要介绍一种高精度逐场调焦调平实时动态控制算法.逐场动态精确求解藕合传递矩阵和解荆矩阵,将每个CH工P的坐标位置和尺寸纳入藕合关系,使各控制回路实时独立调节,以满足系统稳定和高精度实时逐场调焦调平.图4参1(许)生成材料用于光导光受体器件.通过光诱导电荷分离和电场诱导载流子迁移,形成静电潜影。所有染料中以酞着、酞胺、方酸染料和偶氮染料的研究报道异常活跃.就近年来这些染料在光受体方…     

亚微米图形曝光机

最近日本加农公司发表了一种用于超大规模集成电路的高精度投影曝光机,并已出售商品,以前人们普遍认为投影曝光方式,在大规模集成电路等微米领域的图形制作中是很有效的。但若用于超大规模集成电路等亚微米领域是不太可能的。加农公司采用综合透镜技术制出了超高分辨率透镜,进而打破了投影曝光方式不能用于亚微米技术的错误结论,成功地制出了亚微米图形曝光机。 用电子束或接触方式制作亚微米半导体器件一般是很有效的。但是,以激光和X线为光源的电子束方式,曝光时间太长。接触方式制备掩模太困难,成品率也低,因此都具有局限性。而投影曝光方式曝光时间短,又由于光掩模不与片子直接接触,所以成品率大大提高。 加农公司的这种新的亚微米图形曝光机不仅可以用作超大规模集成电路,也为超高频晶体管、CCD(电荷耦合器件)等新器件的研制开拓了新的途径。     

基准校正技术概述

本文从最基本的角度出发,介绍了亚微米分步重复投影光刻机中的一项新的检测技术——基准校正技术。简要地说明了该项技术的重复性、必要性和最新发展趋势。     

一种新的离轴倾斜照明系统

本文针对目前亚半微米分步重复投影光刻机四极／环形离轴倾斜照明能量利用率低的缺点，设计了一种二元光学元件应用于离轴倾斜照明的系统。该系统简单，易于调整，对照明能量损失少，对分辨力和焦深同样有较大程度提高。     

投影光刻机调焦调平传感技术的研究进展

阐述了投影光刻机调焦调平传感器的重要作用及其技术进展,详细介绍了国际上典型的调焦调平传感器,并对多种传感技术的光学原理和关键技术进行了分析和比较。     

高精度红外光电调焦

本文论述了作为直接分步曝光机关键技术之一的自动调焦技术过程控制中,如何解决各种因素造成的调焦附加误差,获得了±400μm动态调焦范围、±0.13μm(3σ)的自动调焦精度。     

采用逐场调平和总体对准技术的0.54NAi线片子步进机

ｉ线片子步进机正在逐渐成为主流的加工设备，用于实现亚半微米电路图形的转印。因此它就成为批量生产１６Ｍ位ＤＲＡＭ器件，且有可能成为在远紫外设备未引入生产线之前的第一代６４Ｍ位ＤＲＡＭ器件制造的必然选择。然而对于亚半微米的分辨率，就必须具有大数值孔径和大视场的透镜。本文主要介绍了新一代家族的片子步进机。该机采用了一种新设计的机架和模块式结构，它可以接纳同一家族的大视场ｉ线镜头和远紫外镜头。最后叙述了０５４ＮＡ和２５５ｍｍ象场直径的镜头。为克服片子加工中可能出现的焦深问题，设计引入了逐场调平技术，从而保证了使所有象场均处于最佳焦面。用这种选择所面临的问题就是工作台步进和片子工作台灵活调平时对准精度将受到影响。本文介绍的步进机设计思想是为了出片率不受影响，因而在逐场调平后的对准中未采用逐场对准。为此设计了一种新的计量系统并改进了对准精度，从而使总体对准方式的最终套刻精度达到了８５ｎｍ以下，并实现了每小时处理８０枚１５０ｍｍ（６英寸）圆片的生产效率和１级以上的局部环境控制，达到了加工２００ｍｍ（８英寸）圆片的环境净化要求     

投影光刻机调平调焦系统原理与故障分析

以某型投影光刻机为例介绍了调平调焦系统的基本原理和主要构成,详细叙述了调平调焦系统的运行步骤,并结合多年的投影光刻机维修经验总结了调平调焦系统的常见故障,给出了处理故障的方法和步骤。     

高精度逐场调焦调平控制系统数学模型分析

详细介绍了基于硅片ＣＨＩＰ中心坐标的高精度逐场调焦调平控制系统数学模型,并简要给出了系统控制算法。     

亚微米分步重复投影光刻机总体设计考虑的几个问题

介绍对亚微米分步重复投影光刻机光刻工作分辨力、套刻和生产能力三项主要技术指标的设计分析,方案考虑以及采取的技术措施。测试结果表明这些考虑是必要并且有效的,它为光刻机的研制成功打下基础,也为设计下一代指标要求更高的光刻机提供有益的参考。     

六维磁悬浮纳米级精密工件台的研究

设计了“H”型六维x-y工件台，利用磁悬浮技术将工件台悬浮在x、y导轨上，消除了导轨的摩擦和磨损；直线电机无接触驱动实现了工件台的粗定位；控制不同磁悬浮电磁铁的电流大小，可以实现工件台的微定位以及逐场调平调焦。计算了工件台由于重力弯曲、热膨胀等原因引起结构变形而带来的精度误差，理论上分析证明工件台在x、y方向能满足0.02μm的定位精度要求以及达到0．1μm调焦精度和3．0μrad调平精度的要求。将应用于特征尺寸0．18μm线宽激光光刻机上。     

MEBES－4型电子束曝光机简介

ＭＥＢＥＳ－４型电子束曝光机简介１前言随着半导体集成电路制造技术向着亚半微米和超大规模集成（ＵＬＳＩ）时代的跨进，作为半导体微细加工技术核心的电子束曝光技术，以其高精度、高分辨率、高生产率、高自动化程度和灵活的图形设计，短的制版周期等显著优点，而倍受...     

亚半微米分步重复投影光刻机同轴对准系统及输出光强的机辅 …

介绍亚半微米分步重复投影光刻机同轴对准系统的成像机理和工作过程。该系统在掩模和硅片上均刻有对准光栅标记，经光栅衍射后形成干涉信号，使对准信噪比大大提高，并实现了掩和硅片之间的直接对准，同时利用光弹性调制器组件对光学信号进行了光学调制，由 电路实施解调，提供了一种保护高信噪比，交换弱信号探测不对准方案；并通过计算机辅助分析的手段，讨论了ＳＡＶＡＲＴ的剪切量、工件台运动速度等对系统输出信号的影响。     

中科院光电所研制成功新型投影光刻机

<正> 一种1.5～2微米直接分步重复投影光刻机最近由中国科学院光电技术研究所研制成功,现已通过两轮工艺考核,成品率优于50％。据报道该机是国内首台可供实用的样机。 1.5～2微米直接分步重复投影光刻机是“七五”国家技术攻关项目,1990年3月完成该设备研制并进行了技术评议。其后又分别于1991、1993年进行了两轮工艺考核。该机采用了全新的电视对准系统,在国内首次实现了掩模自动对准;采用了10倍精缩投影物镜与新型光均匀器组成的曝光系统。达到国际八十年代中期水平,能满足“八五”期间国内集成电路生     

平面度气动检测及自动跟踪系统

在近代电子工业中,用光学投影法制作微米或亚微米图形时,要求感光材料层与投影镜头之间相对距离的偏差(焦深精度)在±1微米以内。而照相所用的干版,由于玻璃片基本身的不平度就往往大于此值,因此很难保证焦深不失调。本文介绍用于这一工艺过程的气动自动监测、跟踪自动调焦系统的结构原理、计算方法及实验结果。根据这一原理制成的自动调焦仪,我校于1974年投入生产。经长期生产使用,证明工作稳定可靠,在200微米跟踪范围内,调焦误差小于±2微米,在100微米范围内,跟踪精度(3σ)可达到±1微米。本系统也可用于照相干版、半导体硅片的平面度或其它表面不平度的非接触自动测量,以及带状产品的自动连续测量。     

采用激光干涉测量法进行芯片调平调焦

采用Ｓ偏振光和大入射角激光束干涉测量技术，检测ＬＳＩ圆片表面的芯片调平和调焦精度的方法已获得成功，在圆片上各层均能保持良好的调平调焦精度。这种检测方法的试验型，已实现了±１０×１０－５的弧度调平精度和±０１μｍ的调焦精度。