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相似文献
 共查询到20条相似文献，搜索用时 15 毫秒
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ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机实用化研究技术总结报告电子工业部第４５研究所周得时概况１．研制目的及任务来源北京半导体器件三厂承担了国防科工委和机电部下达的８０Ｃ８６系列１６位微机电路的中试和批量生产攻关任务，用接触式光刻机完成了８２Ｃ８２、８２Ｃ８４等一...  相似文献   

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ＢＧ—１０１Ｊ型分步光刻机实用化成果鉴定会概况ＢＧ—１０１Ｊ分好重复投影光刻机实用化是国防科工委和电子部下达的“八五”重点型谱攻关项目，其主要内容是采用电子工业部第四十五研究所研制的分步投影光刻机制做ＬＣ８０Ｃ８６系列军用微机电路。项目从１９９１年８...  相似文献   

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ＢＧ—１１０型双面曝光机电子工业部第４５研究所杨水军概述电力半导体器件是电力电子技术的基础，它对电力半导体装置改善性能和可靠性减少体积和重量起到至关重要的作用。一种新型电力半导体器件的诞生，往往使整个装置系统的面貌发生很大变化，而电子装置系统对器件的...  相似文献   

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ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机工艺考核报告北京市半导体器件三厂刘友声为了促进军用电子器件开发研制，北京市半导体器件三厂与电子工业部四十五所密切合作，从九一年十月份开始，用电子部４５所研制的军用电子专用设备ＢＧ－１０１Ｊ分步重复投影光刻机，共同完成国防科工...  相似文献   

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四十五所六项科研成果通过了设计定型鉴定本刊讯电子工业部第四十五研究所六项科研成果于１９９８年３月１０日在北京通过了由电子部主持的设计定型鉴定。这六项科研成果为低温探针测试系统、全自动探针中测台、自动开槽划片机、特种器件用双面曝光机、自动内圆切片机、Ｃ...  相似文献   

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ＢＧ－１０１＿Ｊ型分步光刻机使用报告根据中电军基１９９１１２４号文（合同号９１０４Ｅ０１１），电子部第四十五所提供实用整机ＢＧ－１０１Ｊ投影光刻机，用于北京市半导体器件三厂完成国防科工委下达的军用大规模集成电路８０Ｃ８６系列器件开发（科工委１９９１计...  相似文献   

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电子工业部第４５研究所所长任继东在ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机鉴定会上的讲话尊敬的张学东主任：尊敬的王金城军工总监：尊敬的李兆吉老部长：各位领导，各位专家，各位代表：能有这样多的各方面、各级领导和专家在百忙之中光临这个鉴定会，我感到非常激动和万分荣幸，...  相似文献   

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军用１６位微机８０Ｃ８６系列ＬＣ８２Ｃ５２电路测试报告电子工业部第４７研究所测试报告电子部第四十七研究所受电子部第四十五研究所委托，在ＤＩＣ－８０３２测试系统上测试送检的一批４英寸ｗａｆｅｒ，电路名称为ＬＣ８２Ｃ５２。每个ｗａｆｅｒ含有２１２个管芯和...  相似文献   

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滚动式涂胶机黄铁军ＴＪ－２０１型大面积滚动式涂胶机是电子工业部第四十五研究所研制的用于涂敷矩形大面积片子的专用涂胶设备。该机采用滚动旋转的方法，利用高速滚动旋转所产生的离心力，将基片表面多余的抗蚀剂甩出，从而得到一层均匀的光致抗蚀剂薄膜。滚动式涂胶机...  相似文献   

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ＧＪＢ１６４９－９３《电子产品防静电放电控制大纲》标准宣贯会根据国防科工委和电子工业部标准化科研计划的安排，电子工业部标准化研究所和中国电子基础产品装备公司，在金华市天开电子材料有限公司的协助下，于１９９５年１０月１２～１４日在浙江省金华市召开国家军...  相似文献   

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本文概括介绍了双面对准曝光机的应用范围、种类，着重介绍了我所研制的ＢＧ—７０３型双面对准曝光机的性能、结构特点及有关技术措施。  相似文献   

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鉴定委员会对ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机的鉴定意见ＢＧ－１０１Ｊ型分步光刻机实用化是国防科工委和电子工业部下达的“八五”重点型谱攻关课题。课题以适度的设备精度、稳定可靠和实用为主攻目标，以国防和航空航天技术急需的军用１６位微机关键电路８０Ｃ８６系列的Ｌ...  相似文献   

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树立行业形象展示科研成果的盛会─—四十五所切割设备展示会述评贾存勇，孙步升７月２１日至２５日，电子工业部第四十五研究所成功地举办了我国电子专用设备行业首次切割设备展示会。这次展示会得到了部、省有关领导的高度重视和大力支持，电子工业部重大工程司金存忠处...  相似文献   

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用单片微机实现４Ｂ型切片机自动控制电子工业部第４５研究所杨明达前言ＱＰ－４Ｂ型立式内圆切片机，主要用于硅单晶、陶瓷等硬脆电子材料的高精度自动切割。其主轴采用液体静压轴承、静压导轨，无磨损，稳定性好，切片精度高。送料系统采用步进电机、精密丝杆，重复精度...  相似文献   

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本文主要介绍了ＢＧ—６０１型大面积自动曝光机的用途、特点及主要组成机构和原理。  相似文献   

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本文介绍了ＢＧ—７０３型双面曝光机的对准系统，并对该系统的误差及其产生因素进行理论分析，提出了减小误差的措施。  相似文献   

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多模渐变光纤数值孔径测试系统ＴｈｅＭｅａｓｕｒｅｍｅｎｔＳｙｓｔｅｍｏｆＮｕｍｅｒｉｃａｌＡｐｅｒｔｕｒｅｆｏｒＧｒａｄｅｄ－ＩｎｄｅｘＭｕｌｔｉｍｏｄｅＦｉｂｅｒ￥／／（电子工业部第四十一研究所，蚌埠２３３００６）数值孔径是多模光纤的一个重要参数，...  相似文献   

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ＭＥＢＥＳ－４型电子束曝光机简介１前言随着半导体集成电路制造技术向着亚半微米和超大规模集成（ＵＬＳＩ）时代的跨进，作为半导体微细加工技术核心的电子束曝光技术，以其高精度、高分辨率、高生产率、高自动化程度和灵活的图形设计，短的制版周期等显著优点，而倍受...  相似文献   

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十月二十三日上午,美国加州大学研究中心总裁及史密斯教授一行三人在湖南省科学技术委员会有关同志陪同下对电子工业部第四十八研究所进行了参观访问。客人们参观了该所研制的电子束曝光机、中束流微机控制离子注入机等半导体工艺设备。客人们对这些设备水平表示了赞赏并留下了深刻的印象。  相似文献   

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大面积移动式曝光及涂胶设备电子工业部第４５研究所孔德生声表面波器件制造工艺，要求其曝光设备曝光面积大，均匀性高，具有很高的分辨率。但这种设备在国内尚属空白。为了满足这种器件的生产要求，我们研制了大面积移动式曝光机以及其配套使用的大面积滚动式涂胶机。现...  相似文献   

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