光伏太阳能硅片清洗工艺的探索

对两种不同清洗方法的工作原理、清洗效果和适用范围等特点进行了分析。不同的工艺应采用不同的清洗方法才能获得最佳效果。介绍了硅片清洗机的清洗工艺和腐蚀工艺。指出了硅片清洗工艺的发展趋势。     

硅片清洗设备的日常维护

对硅片清洗设备的日常维护从清洗工艺的角度进行了分析,并对具体问题的处理方案进行了阐述,从而使清洗设备工作更加稳定。     

半导体硅片清洗工艺发展方向

对半导体硅片传统的RCA清洗办法中各种清洗液的清洗原理、清洗特点、清洗局限以及清洗对硅片表面微观状态的影响进行了详细的论述,同时在此基础上,对新的清洗办法(改进的RCA清洗办法)进行了一定的说明,指出了硅片清洗工艺的发展方向。     

微电子制造科学与技术计划中的硅片清洗

在由得州仪器公司、美国国防部远景规划局和美国空军联合资助的微电子制造科学与技术（ＭＭＳＴ）计划中，硅片清洗的目标是开发旨在完全取代湿法清洗工艺的单片、全干法或汽相清洗工艺。氢氟酸（ＨＦ）汽相清洗和等离子体处理在去除氧化物、氮化物和金属刻蚀后的残余物方面取得了成功。但是，有效的干法工艺并不能取代炉前清洗所用的工业标准（ＲＣＡ）清洗和水冲洗。全干法工艺可能都还要花５到１０年才能成熟。以后几年，将开始采     

浅析半导体硅片的超声和兆声清洗技术

本文主要介绍的是有关半导体硅片生产过程中的超声和兆声清洗技术应用,并对两种清洗技术当中的运行原理与特征等进行了详细阐述。并在此基础上综合研究存在问题与解决对策,分析两者技术之间的差异性。希望能够对进一步提升清洗技术发展起到促进作用。     

全自动硅片装片机工艺设备研制

太阳能电池制造过程中,有多个工序需将硅片装入篮具中,目前的人工装片方式碎片率高、对硅片的污染多、劳动强度大.全自动硅片装片机可以代替人工装片,克服人工装片的缺点.本文主要介绍了全自动硅片装片机的关键技术,并对整机的工作原理、特性和技术创新等做了详细的叙述.     

大直径硅片的技术趋势

本文分两部份,分析了日本电子工业开发联合会大直径硅片技术趋势专业分会提出的技术研究报告。这份研究报告,加深了对大直径硅片技术发展趋势的了解,增强了对引入16MbDRAM用200mm直径硅片所代来的问题的认识。据估计,采用大直径硅片,在成本方面获得的好处将提高到30％。所要求的基准参考平整度是,20mm×20mm区域内为0.5μm。本文的第Ⅱ部份将介绍热应力考虑,提出对片子的机械损伤和片子与舟之间热性能匹配需要更加留心。可能需要使用立式炉子,片子上粒子含量必须减少至≤10％片,还要求片上金属杂质含量大约为10~(10)cm~(-2)。文章预计了片子电阻率和含氧梯度的改善,还预示了氧浓度的降低。尺寸和其它参数的容限将需要减小;在许多场合,外延硅片仍将被采用。     

硅片清洗研究进展

综述了清洗液的组成、特点、清洗机理、对硅片表面质量的影响以及清洗技术和理论的发展;着重指出了,改进的RCAI对颗粒度、微粗糙度和金属沾污作用的机理,讨论了它与清洗顺序的关系,极度稀释的RCA2能使金属沾污降至10∧10原子/cm∧2以下,且不易使颗粒重新沉淀;最后介绍了清洗工艺的最新进展。     

减少硅片湿法清洗工艺铁离子沾污研究

为了研制出高性能电荷耦合器件（CCD）,减少硅片清洗工艺Fe离子沾污是关键。利用表面光电压（SPV）法,研究了硅片清洗过程的Fe离子沾污。研究表明,SPM（H2SO4/H2O2）→SC-1清洗,去除Fe离子污染的效果比较差;用SPM→SC-1→SC-2清洗,去除Fe离子杂质的效果较好,Fe离子污染减少了2个数量级。增加SC-1和SC-2清洗次数可以减少Fe离子沾污,但效果不明显。当化学试剂中金属杂质含量由1×10^-8 cm^-3减少到1×10^-9 cm^-3,清洗工艺Fe离子沾污减少到8.0×1010 cm^-3。     

PCBA全自动清洗设备的选型

主要论述了PCBA清洗设备的种类,着重论述了全自动水清洗设备的结构、功能(喷淋技术和清洗方式)及性能(清洁度监测、清洗温度及时间、漂洗水量及次数、喷淋压力和溶剂回流延时),并对市场上各类型的水清洗设备进行了关键指标的比较,为研究院所小批量多品种PCBA的高标准清洗选择合适的清洗机提供一个参考.     

太阳电池用Ge抛光片清洗技术的研究进展

Ge抛光片作为化合物太阳电池的衬底材料已引起人们的广泛关注。制备工艺要求衬底材料的表面具有稳定的化学特性和高的清洁度,因此,Ge抛光片的清洗技术显得尤为重要。Ge在常温下既不与浓碱发生反应,也不与单一的强酸反应,其清洗机理与Si、GaAs等材料相差较大。在实验和查阅文献的基础上,阐述了Ge抛光片的清洗机理,介绍了太阳电池用Ge抛光片表面的宏观沾污和微观沾污的清洗方法和过程、同时对Ge抛光片表面的氧化状态进行了分析。另外,还对目前国内外Ge抛光片清洗技术的研究现状及技术水平做了介绍,指出了Ge抛光片清洗技术存在的问题,并对其发展趋势进行了展望。     

超声波清洗技术与进展

本文综述了我国超声波清洗技术发展状况，介绍了超声波清洗特点和机理、超声波清洗技术参数的选择、超声波设备的组成以及超声波技术的最新进展．     

太阳能光伏玻璃基板清洗设备的研究

近年来太阳能产业飞速发展,太阳能电池的产量也日益扩大,制作太阳能光伏电池的相关设备也在不断地开发制造中,太阳能玻璃清洗机就是其中的一个。结合了国内外的多款玻璃清洗设备的优点,在很好的清洗玻璃的同时也真正地达到节能降耗的要求。     

多结化合物电池用p型Ge抛光片清洗技术研究

对多结化合物太阳电池用的p型Ge抛光片的清洗技术做了研究.Ge抛光片的清洗可以采用酸性清洗液和碱性清洗液相结合的方式.酸性清洗液的主要作用是去除晶片表面的有机物;碱性清洗液的主要作用是去除晶片表面的颗粒.清洗液的温度和组分影响着抛光片的清洗效果.通过实验结果确定了p型Ge抛光片的清洗方案,采用这一清洗方案清洗的Ge抛光片,表面质量可以达到"开盒即用"的水平.运用晶片清洗机理分析了各种清洗液的功能和作用.     

替代ODS清洗工艺的选择与对设备的要求

本文仅对清洗工艺的选择内容、清洗工艺的选定原则、清洗工艺试验和清洗质量评价，以及对清洗设备的要求和清洗设备的导入验收，从用户角度提出一些认识和看法。     

净化管路内腔的工艺装备和环保型清洗工艺

系统的介绍了ZJL02型管路清洗机的构造、用途和使用方法，该工艺装备适用于铁路机车车辆、汽车、消防车、石油机械、化工设备等行业。投入使用后能使机械净化工艺创新，整体机械设备的内在质量能大幅度提高，有利于环保事业，性能价格比突出。     

轴承的超声波水洗工艺与自动清洗线的开发应用

本文介绍了轴承的水基清洗的工艺技术及其开发使用的自动清洗线的应用实例。以水基清洗轴承替代了传统的汽油清洗和强酸清洗的工艺，其清洁度达到了产品质量要求标准，其废水排放达到了环保要求标准，这一实例不仅适宜中小型轴承厂。更适合大型轴承厂采用，它为轴承清洗领域提供了一种新思路，很有参考价值，值得推广。