真空灭弧室市场需求综述

一、国外市场需求真空灭弧室是真空开关的核心元件,而真空触头则是真空开关的心脏。自从五十年代中期第一台20kV/4kA真空断路器在美国问世以来,仅四十多年里,真空开关的发展极为迅速,迄今真空断路器商品可做到额定电压84kV,额定开断电流100kA。1～36kV真空断路器在日本、德国(原西德)早已形成     

近期国内外真空灭弧室的发展动向

三、触头材料的开发真空开关对触头材料具有一定的要求,但对不同用途的真空开关其要求则各有侧重。归纳起来主要有下列几个方面:(1)开断能力;(2)抗熔焊性能;(3)截流水平;(4)耐电压强度。 1.开断能力到目前为止CuCr合金是开断性能较大,适合作真空断路器的触头材料。为了进一     

近期国内外真空灭弧室的发展动向

本文阐述了国内外真空灭弧室结构的发展过程和提高性能的研究。触头材料的性能分析和开发。采用新工艺、新结构和新材料以降低真空灭弧室制造成本的措施。最后介绍了真空灭弧室向高电压等级发展的动向。     

AREVA真空灭弧室与真空断路器技术

1引言2006年6月23日,AREVA输配电公司宣布其两个新厂在厦门正式落成。其中一为阿海珐输配电(厦门)真空器件有限公司,主要生产10～40.5kV真空灭弧室,另一为阿海珐输配电(厦门)开关有限公司,主要生产中压断路器。阿海珐输配电公司新建这两个厂,增强了其在中压真空断路器市场的实力。在这之前,笔者对阿海珐输配电公司真空断路器的了解,主要停留在HVX型永磁真空断路器上。后来随着阿海珐输配电两厂的建立,才对其真空灭弧室和真空断路器有了进一步了解。AREVA真空灭弧室与真空断路器有其结构特点和技术上的优势。2真空灭弧室AREVA输配电公司真空开关管(真空灭弧室)的技术成就归功于其在英国分公司(G E C)和德国分公司(AEG)。这两家分公司在真空开关技术上很有建树,如英国GEC公司于20世纪70年代首家获得CuCr触头材料专利,并一直沿用至今。AREVA输配电公司的真空灭弧室为VG系列,参数做到额定电压40.5kV,额定电流5000A(无需强制冷却),额定短路开断电流63kA。额定短路电流开断次数(50kA及以下)100次,机械寿命30000次。20世纪80年代,该公司采用一次封排技术,最大限度减少了生产过程的...     

西门子公司3AH系列真空断路器及真空灭弧室综述

西门子公司在世界上率先推出3AF系列真空断路器后,奠定了它在全球真空开关领域中的主导地位。近几年,西门子公司又隆重地推出了更为优秀完美的产品——3AH系列真空断路器。当今世界电力工业飞速发展,输变配电技术水平越来越高,用电要求也越来越苛刻,这就要求断路器适应不同场合、不同要求的用电需要,比如能切合变压器、架空输电线电缆、电容器、电抗器、电动机、发电机、滤波器回路、电弧炉等,同时还能适应长时间运行、频繁切会操作循环、切断大电流等。西门子公司推出的先进的3AH系列真空断路器能够很好地适应这些应用场合及港足…     

现代真空灭弧室

本介绍了现代真空灭弧室的基本结构设计，触头材料，触头形状及波纹管等方面的最新成果。     

真空灭弧室制造技术的进步

我国真空开关在中压12kV级已占绝对优势。真空灭弧室是真空开关的心脏，它不仅占真空开关造价的40％-45％，而且直接关系到真空开关的性能和可靠性，因此，真空灭弧室的制造技术成为人们关注的焦点。正是由于真空灭弧室技术的不断进步，才促使真空开关成为中压领域的主导产品。文中介绍了真空开关制造中采用的新技术、新工艺和新材料。     

真空灭弧室制造技术的发展

目前用于真空开关的触头材料大概有3种：半难熔金属＋良导体,如铜铬（CuCr）合金;熔融金属＋良导体,如铜钨合金;铜合金,如铜铋等。在中压真空开关中,铜铬被认为是最佳的触头材料,它结合了触头材料中最关键的电性能于一身,即优良的导电性,高的开断电流能力,良好的抗电弧熔蚀性和很好的抗表面熔焊能力以及截流值小等。     

真空灭弧室制造技术的发展

一、引言1965年11月4日,英国GEC工业控制公司宣布制成世界上第一台采用玻璃外壳真空灭弧室的3.3kV、300A实用真空接触器。1980年GEC工业控制公司为保持它在真空灭弧室制造技术方面的领先地位,开始了一项新的发展计划。1983年首次制成陶瓷外壳真空灭弧室,它在设计上有较大的改革,包括采用陶瓷外壳和新型触头材料。这一发展计划的主要内容是研究并完成一项改革性的新制造工艺,在特殊设计的真空炉中一次完成钎焊、排气、封接真空灭弧室的生产全过程。     

真空灭弧室制造技术的进步

近年来,真空灭弧室的质量有了很大提高,得益于采用新技术、新工艺、新材料,走技术创新之路。这主要表现在采用大型真空炉,用一次封排工艺、采用低碳量的不锈钢制造波纹管,用铜陶瓷封接取代可伐一陶瓷封接,尽量少用或不用可伐等。     

真空灭弧室真空度现场测试技术研究

使用改进的Π形励磁线圈磁控放电法测试灭弧室的真空度,不必拆卸灭弧室.同时采用80CI96单片机进行同步控制与数据采集处理,提高了灭弧定真空度的现场测试灵敏度.     

真空灭弧室发展分析

阐述了真空灭弧室的发展历史及现状,对决定真空灭弧室发展的4个关键技术:触头材料、电弧控制系统、灭弧室结构及灭弧室制造技术进行了分析,同时对真空灭弧室的发展趋势作了介绍。     

真空灭弧室发展分析

阐述了真空灭弧室的发展历史及现状,对决定真空灭弧室发展的4个关键技术:触头材料、电弧控制系统、灭弧室结构及灭弧室制造技术进行了分析,同时对真空灭弧室的发展趋势作了介绍。     

真空灭弧室发展新趋势

人类从事将真空作为灭弧和绝缘介质的应用研究,到现在已有100多年的历史。真空灭弧室自问世以来,一直在向小型化、高可靠性及低成本方向发展,随着真空断路器应用范围的扩大,真空灭弧室有了更新的发展趋势。     

真空灭弧室性能参数分析

分析了真空灭弧室的性能参数。详细分析了触头结构、真空度、真空电弧温度的影响、触头间隙的确定、屏蔽罩厚度以及真空灭弧室的并联运行。提出真空开关在低压电器领域将有广阔的发展前景。     

真空灭弧室生产工艺对灭弧室小型化发展的影响

对真空灭弧室生产方式、发展进程及不同生产工艺对灭弧室小型化发展的影响进行了分析,说明了真空灭弧室向小型化方向发展的意义。