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以SiCl4为源气体用PECVD技术低温快速生长多晶硅薄膜 总被引:1,自引:1,他引:0
报道了以SiCl4和H2为气源,用等离子体增强化学气相沉积技术,在小于300℃的低温下快速生长多晶硅薄膜.实验发现, 生长速率强烈依赖于放电功率、H2/SiCl4流量比和衬底温度, 而薄膜的晶化度只依赖于放电功率和H2/SiCl4流量比,与衬底温度的关系不大.通过控制和选择工艺条件,我们获得了生长速率高达0.35nm/s,晶化度高于75%的多晶硅薄膜.薄膜的暗电导率和光电导率分别达到10-4S-1·cm-1和10-3S-1·cm-1. 相似文献
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《低温与特气》2013,(1):54-54
一种精馏法制备高纯气体的方法和系统
摘要:本发明涉及精馏法制备高纯气体的方法及系统。本发明方法将目标气体原料首先经脱轻塔脱除轻组分杂质,再经脱重塔脱除重组分杂质,所得提纯气体压缩成为压缩气体,所述压缩气体至少分出两部分,分别作为脱轻塔塔釜再沸器和脱重塔的塔釜再沸器的热源,其自身被冷凝为液体后合并储存,所述储存的液体分为三部分,其中两部分各自进行节流膨胀后分别作为脱轻塔塔顶冷凝器的冷却介质和脱重塔的回流液,第三部分作为产品采出。本发明系统包括脱轻塔、脱轻塔塔顶冷凝器、脱重塔、压缩机、脱轻塔塔釜再沸器、脱重塔塔釜再沸器、液体储罐及连接管线。本发明的方法和系统设备简单,能量节省,操作灵活,应用广泛,易于维修,且对公共工程要求少。 相似文献
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汕头市东田转印有限公司的中国发明专利“一种转印膜的生产方法及其制品”被授予汕头市专利优秀奖,公司总经理陈松洲被授予汕头市优秀专利发明人奖。专利技术获得地方政府的嘉奖,这在我国包装行业还属首例。 相似文献
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汕头市东田转印有限公司的中国发明专利“一种转印膜的生产方法及其制品”被授予汕头市专利优秀奖,公司总经理陈松洲被授予汕头市优秀专利发明人奖。专利技术获得地方政府的嘉奖,这在我国包装行业还属首例。 相似文献
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汕头市东田转印有限公司的中国发明“一种转印膜的生产方法及其制品”被授予汕头市专利优秀奖,公司总经理陈松洲被授予汕头市优秀专利发明人奖。专利技术获得地方政府的嘉奖。 相似文献
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高纯多晶硅生产过程中最重要的原料就是三氯氢硅(SiHCl3),近年来随着光伏产业得迅猛发展,SiHCl3的价格也相应地水涨船高,近几年的平均报价已经超过8000元/t.由此可见,如果多晶硅工厂通过外购而不是自产SiHCl3,其成本是何其之大.若增加制备SiHCl3的工序,不仅可降低多晶硅生产成本,更重要的是,使整个多晶硅生产实现闭环生产成为了可能.而且,SiHCl3制备工序可以根据其工艺特点承担整个多晶硅生产的尾气回收再利用和少量废气的回收处理,基本实现最低成本和零污染.由此可见SiHCl3制备工艺对整个多晶硅生产的重要性. 相似文献
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多晶硅生产中副产物SiCl4的综合利用 总被引:1,自引:2,他引:1
在氯化氢(HCl)合成制备三氯氢硅(SiHCl3)过程中,除主要产品SiHCl3外,还有大约15%左右的四氧化硅(SiCl4)副产品,另外还有二氯氢硅(SiH2Cl2)等。在SiHCl3氢还原中,还伴随有SiHCl3的热分解而生成的SiCl4、SiH2Cl2和HCl等, 相似文献
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深居制造业上游的材料业从未如光伏行业这般,一举一动掀动下游巨大波澜。在各国光伏战略或计划的带动下,世界光伏产业进入全新的历史时期。硅材料,作为太阳能电池行业的基础和核心,成为产业链上竞争的焦点。光伏市场风云变幻,多晶硅价格大起大落。核心技术西门子法、物理法多晶硅生产技术的拥护者明争暗斗,蔚为壮观。两种生产方法和思路之间的“博弈”使得硅材料技术的演化颇具戏剧色彩。今日王者能否延续旧日辉煌,昔日草根何日才能拨云见日? 相似文献
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通过对德温特专利数据库中收录的超材料技术专利进行深入分析,从专利技术的发展、技术来源国家分布、主要国家技术申请趋势、技术研发热点以及技术研发主体五个方面揭示了全球超材料技术创新的趋势,以期为我国科研机构的技术研发提供决策支持。研究表明,全球超材料技术目前正处于深入研究阶段,专利申请主要围绕高性能天线、光学透镜、超材料自身结构的实现等技术主题展开;中美等国是发展超材料技术的中坚力量,其中深圳光启是技术申请的领军人物,美、韩、日等国的多家企业和科研院所也在积极研发,全球市场竞争态势正在逐渐形成。 相似文献