倾斜式料位计的应用

料位控制在砂处理自动控制系统中起着极其重要的作用,介绍了由可编程序控制器控制的砂处理系统中选用倾斜式料位计的控制、安装及使用情况,指出选用可编程序控制器控制和采用倾斜式料位计是降低造价、提高可靠性的最佳选择。     

双弹性件音叉式疲劳开缝机

目前国内普遍采用电磁共振式疲劳试验机来预制裂缝。为了简便和更为经济进行这项工作,我们采用双弹性件振动音叉的原理,设计了双弹性件音叉式疲劳机,来预制疲劳裂缝。这种试验机是由两个弹性件并联组成音叉式振动系统,利用直流电动机带动音叉的一个臂上的偏心轮,使系统发生振动,使试件疲劳开缝。这种试验机结构简单,加工容易,能耗少,噪音小。由于采用两个弹性件,试验机的自由度较多,因此可以在多种尺寸的试件上预制疲劳裂纹。     

电阻式料位计

电阻式料位计一般适用于含水量较高,电阻值不太大的物料的料位控制。上海马铁厂在垂直分型无箱射压造型机(砂型尺寸为400×500毫米)的射砂筒加砂砂位的控制上,采用了一种电阻式料位计,其电气原理见下图。它可以由JG—5型光电继电器改装而成,线路简单。经三年多生产应用,工作可靠。该料位计有两组串联的直流电源,其中—8伏电源是作为G_3截止用的反向偏置电源。线路中由G_1、     

塑料薄膜吹塑机厚度模糊控制系统设计

采用电容式厚度传感器对吹塑薄膜厚度进行非接触实时在线测量,并根据系统工艺特点,基于PLC构建了模糊控制系统,对挤出机挤出速度和牵引机牵引速度进行控制,实现薄膜厚度均匀。经测试,系统具有较高的精度、良好的可靠性和稳定性,满足实际生产需要。     

浅析接近开关的选型与性能测定

文中阐述了接近开关的分类和结构,以及光电式、超声波式接近开关的工作原理和适用范围。从被检测物体的材质论述接近开关的选型及对接近开关的主要技术指标的测定方法。     

“模”时代来临 ITO薄膜供不应求

随着电子显示技术的发展，铟的应用正在不断地扩大深入，近两年，市场上的触摸屏电子产品十分火热，随着iPod音乐播放器以及后来衍生出的iPhone手机风靡全球，极大的促进了触摸屏的发展。而占铟75％以上的ITO（铟锡氧化物）领域，正是制造触摸屏不可或缺的原材料。据消息称，由于主要厂商扩大产量，触摸屏最主要的两大类技术——电阻式和电容式触摸屏所用的ITO薄膜供应商数量有限，导致近两年触摸屏市场受到ITO薄膜供应短缺的困扰。     

CTS-DL型射频式料位计在锅炉粉仓粉位检测中的应用

叙述了CTS-DL型射频式料位计的工作原理及在锅炉粉仓粉位检测中的实现．指出安装、调试及使用中应注意的问题，以便更好地使用。     

FMG60探测器与高强度射源配套应用

在氧化铝生产过程中,料浆密度的检测对于生产控制有着非常重要的作用。工业上进行密度测量有多种方法,比如：使用质量流量计测量;用差压式变送器测量;用核辐射密度计测量等等。其中使用核辐射密度计测量是最直接的方法。     

触摸屏的技术现状、发展趋势及市场前景

本文综述了电阻式触摸屏、电容式触摸屏、红外式触摸屏和声波式触摸屏等触控技术的发展现状,比较了各种触控技术的技术特点,分析了触摸屏的市场前景,提出内嵌式结构、多点触控、混合式触控技术和触觉反馈将是今后触摸屏发展的方向。     

运用有效介质理论模拟氧化钒薄膜的光学特性

采用直流反应磁控溅射法在Si(100)基片上生长了厚度分别为14.9,34.1,57.6,70.0,83.4和101.7nm的氧化钒薄膜。利用光谱式椭偏仪,并采用基于Bruggeman有效介质理论的Lorentz经典共振模型对所制备的薄膜的膜厚、折射率、消光系数进行了模拟和测量,实验表明薄膜厚度在(10～100)nm左右时,对应于633.18nm测试波长,薄膜的折射率在1.9～2.9,消光系数在0.1～1。     

仿生法沉积Sb2S3微晶薄膜

以硫脲(SC(NH2)2)和三氯化锑(SbC13)为主要原料,采用仿生法在玻璃基板上制备了Sb2S3薄膜,研究了热处理温度对薄膜晶相、显微结构和禁带宽度等的影响.采用X-射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见自记式分光光度计等对薄膜的相组成、显微结构和光学性能进行了表征.结果表明300℃热处理后获得的薄膜为无定形薄膜;随热处理温度的提高,薄膜的结晶性能变好,薄膜生长和取向性增强;随着热处理温度从300℃提高到500℃,薄膜的光学带隙由2.06 eV降低到1.88 eV.     

金刚石薄膜结合强度的测量

本文介绍了新型的、可用于硬质薄膜结合强度测量的刮剥式结合强度测量方法及其装置,利用刮剥法测量了在不同基底（硬质合金和陶瓷基底）上生长的金刚石薄膜的结合强度,研究了基底表面状态及薄膜制备工艺对金刚石薄膜结合强度的影响。研究工作发现,如制备工艺适当,无论是采用热丝ＣＶＤ法还是采用微波离子束法,在基片未经表面处理和经过表面处理两种情况下,金刚石薄膜结合强度强度基本处于同一强度水平。基底的表面处理可以明显     

磁控溅射CrNx薄膜的接触电阻及其耐腐蚀性能

采用磁控溅射工艺,在304不锈钢表面沉积CrNx薄膜。采用扫描电子显微镜(SEM)和场发射扫描电子显微镜(FESEM)观察薄膜形貌,采用能谱仪(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)分析薄膜的元素组成和化学价态;测试了其接触电阻及耐腐蚀性能。结果表明:薄膜以柱状晶方式生长,主要由Cr2N和Cr组成;在质子交换膜燃料电池电堆的组装力范围内接触电阻降低明显;在模拟电池环境腐蚀溶液中腐蚀电流降低明显,耐腐蚀性能显著增强。     

基于MEMS超级电容器的高介电常数CaCu_3Ti_4O_(12)薄膜制备及电学特性

相对于电化学超级电容器,静电式电容器具有更高的功率密度和可靠性,但能量密度过低。本研究提出制备基于高介电常数薄膜CaCu_3Ti_4O_(12)(CCTO)的高能量密度MEMS静电式超级电容器。首先,以硅片为基底,通过溶胶-凝胶法在不同烧结温度700、800、900℃下制备CCTO薄膜,分别采用场发射扫描电镜(FE-SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜的形貌、组分和结晶状况进行表征,发现在800℃烧结温度下CCTO薄膜结晶状况最佳。然后,利用金属-绝缘层-半导体结构测试其电流-电压(I-V)和电容-电压(C-V)特性,计算得到薄膜的最大阈值电压和能量密度分别为47 V和3.2 J/cm~3。同时,首次对高介电常数介质膜中存在的介质充电现象进行了研究,并分析了介质充电对静电式超级电容器性能的影响。     

一种单片机控制的重锤式料位计设计

结合固体料位测量的实际需求,给出一种单片机控制的重锤式料位计的设计方案。分析了测量机理,介绍了料位计的机械结构、控制部分设计。该系统具有造价成本低、通用性强、精度高、可实现远程控制等特点,完全满足物位检测要求,可代替国外同类产品。     

CVD金刚石薄膜窗口试样制备及力学性能测量

本文以氢气和丙酮为原料，采用电子增强热线CVD法，在硅片（100）基体上沉积一层金刚石薄膜，并采用光刻法和显式各向异性刻蚀技术制备出金刚石薄膜自支撑窗口试样，实验结果表明，所制备的金刚石薄膜自支撑窗口刻蚀彻底，形状规则，能够很好地满足鼓泡法的实验要求，对CVD金刚石薄膜力学性能的测量具有重要意义。     

冲天炉炉况调控及仪表应用

结合我国冲天炉熔炼技术现状,提出了调控炉况的配套仪表和应用技术。主要介绍了双笛式风量计和光电式料位计的原理和联合调控最佳供风量的应用技术,还介绍了新型的数显式快速测温和测活性氧含量的仪表,与炉前快速测定铁水白口倾向与碳硅含量的圆棒形金属型试样的方法相配合,对铁水质量的主要参数进行检测,以此作为调控冲天炉炉况稳定和改善铸铁件内在质量的手段。     

氮气流量对C、N共掺杂NiCr合金薄膜微观结构和电性能的影响

目的 提高埋入式薄膜电阻材料的电性能,使其具有较大的方阻值、电阻率和较小的电阻温度系数。方法 利用闭合磁场非平衡反应磁控溅射技术,制备C、N共掺杂NiCr合金埋入式薄膜电阻材料。以前期优化后的溅射参数作为基本实验条件,通过改变氮气流量,分别在铜箔基底和参照基底载玻片上,沉积C、N共掺杂NiCr合金埋入式薄膜电阻材料。用扫描电子显微镜（SEM）和白光干涉仪表征薄膜的表面形貌,用X射线衍射仪（XRD）表征薄膜的微观结构,用X射线光电子能谱仪（XPS）、X射线能量散射谱仪（EDS）测试薄膜的成分,用表面轮廓仪测膜厚,用拉曼光谱仪分析薄膜中的C元素,用四探针测量系统测试埋阻的方阻值和热稳定性。结果 随着氮气流量的增加,薄膜的衍射峰减弱,非晶化程度增强;当氮气流量为15 mL/min时,薄膜能获得较小的电阻温度系数和较大电阻率,此时薄膜的电阻温度系数范围为0≤TCRNiCrCN≤ 1.663′10-4 K-1,电阻率可达到2.2970×10-3 Ω×cm。结论 反应溅射中产生的中间相Cr2N和CN对薄膜的电阻率和方阻值有影响,C、N共掺杂NiCr合金埋入式薄膜电阻材料的电性能优于NiCr合金薄膜和C掺杂NiCr合金薄膜电阻材料。     

基于MEMS超级电容器的高介电常数CaCu3Ti4O12薄膜制备及电学特性研究

相对于电化学超级电容器,静电式电容器具有更高的功率密度和可靠性,但能量密度过低。本文提出制备基于高介电常数薄膜CaCu₃Ti₄O₁₂(CCTO)的高能量密度MEMS静电式超级电容器。首先,以硅片为基底,通过溶胶-凝胶法在不同烧结温度(700℃、800℃、900℃)下制备CCTO薄膜,分别采用X射线衍射仪(XRD)和场发射扫描电镜(FE-SEM)对薄膜的形貌、组分和结晶状况进行表征,发现在800℃烧结温度下CCTO薄膜结晶状况最佳。然后,利用金属-绝缘层-半导体结构测试其I-V和C-V特性,计算得到薄膜的最大阈值电压和能量密度分别为47V和3.2J/cm₃。同时,首次对高介电常数介质膜中存在的介质充电现象进行了研究,并分析了介质充电对静电式超级电容器性能的影响。     

ZJ-014炉气压差料位计

1981年初我厂试制成功机械工业部第六设计研究院设计的国内首台ZJ-014炉气压差料位计,该仪器成为冲天炉料位控制的关键设备。由于其结构简单,性能稳定,显示直观,全国已有三百多家工厂使用了该仪器。 ZJ-014冲天炉炉气压差料位计,是提高熔炼铁水温度、质量以及实现机械化或自动化加料,改善工人劳动条件所必需的料位测量计。一、ZJ-014料位计的主要性能如下: 1.适用范围:1—30吨/时冲天炉 2.测量范围:0—100—250mmH_2P