连续真空蒸镀技术的金属薄膜型磁带之实用化

序言松下电器工业股份公司,把以前认为是理想的金属薄膜型磁带用连续真空蒸镀技术在世界上首先获得成功并实用化。这种磁带,和以前使用的把磁性粉在粘结剂中分散涂布,所谓涂布型磁带不同,它是把100％磁性体的薄膜在基膜上成形的。下面,介绍作为微型盒式录音机用长时间磁带出售的《音古洛姆》及有关其主要的制法的连续真空蒸镀技术。     

新型共聚三元磁带胶粘剂

前言制造磁带,虽然有许多新的工艺方法出现,如电沉积法、蒸镀法、全金属带等,但预计2000年前,尚不能达到商品化阶段,因此用胶粘剂把磁粉粘合到塑料薄膜带基上制     

问题解答

1、什么是真空镀?它有哪些用途? 答:镀复过程是在真空中进行的就称为真空镀,又由于镀复是在真空中将金属蒸发所以又称为真空蒸镀。在高真空中把金属加热,金属就蒸发飞散,沉积到放在真空中的物体上就成为镀膜。这个现象二次大战前就已被人们掌握,但实现工业化则需要高真空(1.3×10~(-2)～10~(-3)Pa),所以只是在二次大战后才逐步取得工业化的进展。真空镀可以在金属上,也可以在非金属上进行,因此得到了广泛的应用。但是真空镀所得膜厚除特殊情况外都是在1μm左右,又限制了其应用的范围。     

树脂基复合材料制件表面金属化技术探讨

主要讨论了树脂基复合材料制件的表面金属化技术,着重介绍了真空蒸镀、真空离子溅射、电铸法和金属喷涂转移法等四种金属化方法。可根据制件的具体情况选择最适宜的金属化方法     

干法处理工艺

本工艺是近几年才发展起来的,它能解决电镀湿法工艺中的三废问题,能在金属、塑料、陶瓷、玻璃涂复上一层均匀的膜层.目前常用的有真空蒸镀、阴极溅射和离子镀三种.此类工艺的共同特点是:操作方便、占地少、效率高、无公害、无氢脆…….存在问题是:设备价格高,膜层的质量还存在着一些问题.它已成为传统的电镀工艺的竞争对手.真空蒸镀真空蒸镀是在一个真空系统中,将镀覆用的蒸发材料放在蒸发源的难熔金属丝上加热,通过电阻加热而将被覆材料离子化,蒸发在被镀零件表面.真     

不用溶剂的有机薄膜生产技术

<正> 日本真空技术(株)获得了不用溶剂的有机薄膜生产技术专利权(特开昭61—84367)。该技术先蒸镀可被电子来硬化的树脂齐聚物或单体。后再用电子来照射使之硬化,即可形成有机薄膜。只需连接真空蒸镀金属的容器和生产有机薄膜的真空容器,就能生产实施。本专利技术有如下优点:①无需添加光聚合引发剂,蒸镀简单;②硬化时间极短(不到1秒钟),特别适宜于生产大宽幅的表面保护     

磁记录材料用带基

<正> 一、序言众所周知,录音带、录像带、计算机磁带和软磁盘等磁记录材料正迅速发展。这些磁记录介质均以塑料薄膜作基体。传统的带基材料是纸、醋酸酯(二醋酸纤维素、三醋酸纤维素)、硬质聚氯乙烯和聚酯,而现在则几乎全部使用聚酯薄膜。它在尺寸稳定性、抗张强度、表面粗糙度和成本上都优于其它材料。今后,磁记录材料将不断向高性能方向发展,继γ-氧化铁和二氧化铬之后,又出现了金属、蒸镀、钡铁氧体和钴铬溅射膜等。磁记录     

家用数字磁带录像机用碳膜蒸镀带的摩擦特性

对于数字磁带录像机用蒸镀带的润滑性、耐久性和耐腐蚀性问题，我们进行了长期的研究。为了改善蒸镀带的可靠性，我们采用了由金刚石状碳（DLC）膜和润滑剂构成Co-O磁层保护膜。新开发的蒸镀带，作为家用录像带，它具有足够的耐久性。而且，作为家用数字录像机（DVC）的标准带也得到了人们的承认。本文对该蒸镀带使用的润滑剂、碳保护膜、表面粗糙度及其作用与效果进行了论述     

最近的蒸镀带

本文介绍了 Hi8方式 VTR(高带8mm 录像机)用蒸镀带。内容包括为在高频下莸得高输出而开发的三层结构的磁性膜;能使平滑的带基稳定走带的带基表面处理技术;保证高度可靠性的保护层。     

Co-Ni合金的连续蒸镀实验

<正> 一、前言采用金属磁性材料作为磁记录介质,已越来越引起人们的广泛兴趣,而将真空镀膜技术运用到磁带工艺,是磁记录技术的一次重大革新。金属镀膜型磁带具有高密度、高输出、低噪声的优良性能,从而能够实现微型化、慢速化。我们利用自己设计改装的镀膜设备,对钴镍合金进行了斜方蒸镀,得到了具有较高磁性能的Co-Ni合金薄膜磁带。     

下一代磁记录介质用片基

日本宇部兴产公司宣布,用BOPA型全芳香族聚酰亚胺薄膜,开发了下一代高密度磁记录介质片基——磁带用带基和软磁盘用基片。并已向部分磁性介质厂家提供样品。磁记录介质迄今主要是涂布型的,下一代高密度磁记录介质将是金属薄膜型介质占主导地位。该公司新开发的磁带用带基厚度     

磁带检验

<正> 对磁带(15)的磁层(16)进行弊病分析,可通过移动磁带带基(14)得到简化。一个高强度的光源(10)通过由(12)(13)组成的透镜系统,形成具有光能的聚集光束(11)。这束光聚焦于磁带(15)的带基(14)上。这种带基一般是透明的,例如:聚对苯二甲酸二乙酯。     

国外动态

适合批量生产的金属纳米粒子制造法　　日本三星ベルト公司开发成功制造纳米级金属微粒子的新方法“缓和分散法”(ＲＡＤ法 )。此法应用金属和金属化合物微粒子能在固态下均匀分散在高分子化合物中的现象 ,用真空蒸镀法在聚合物薄膜上层合金属薄膜 ,通过热处理使金属薄膜破坏 ,生成固态的超微粒子。此法用简单的装置就能批量生产高尺寸稳定性的 5～ 30ｎｍ粒径的微粒子。此法是固相反应 ,与一般液相还原法制造微粒子相比 ,粒子表面无被杂质污染之虑。用此法制造的金属纳米粒子制取玻璃用透明着色剂 ,可形成透明性高、耐久性亦佳的涂膜。已有…     

35mm电影有孔录音磁带电声指标的分析和评价

<正> 现在电影制片用35mm有孔录音磁带,大量是化工部第一胶片厂生产的1922型全涂磁三醋酸纤维素带基磁带,和部分法国PyralT_2-2A 8透明片边(非全涂磁)三醋酸纤维素带基磁带、Pyarl全     

高性能数字记录用蒸镀带的实用可靠性

采用在Co－O系斜蒸镀膜上加设一层金刚石状碳（DLC－diamondlikecarbon）保护膜的方法，开发了一种电磁转换特性和实用可靠及保存可靠性都得到改善的数字蒸镀（ME）带。在记录密度为100kBPI条件下，与Hi-8ME带相比，其输出为＋5dB，载噪比（CNR）为＋4dB。并确认它在记录电流特性、重写特性以及波形失真方面也具有适合于数字记录的优良特性。用Hi-8磁带录像机（VTR）在各种环境条件下对其耐久可靠性进行了评价，确认它作为家用数字VTR磁带，在各种环境条件下都具有充分的综合可靠性。在保存性能方面，其耐腐蚀性也高于市面上出售的Hi－8金属（MP）带     

用轮廓法测量带基表面粗糙度

<正> 一、前言磁带带基的表面粗糙度,不但影响磁带的走带性能,而且还影响磁带的电磁变换性能。不同记录密度的磁带,使用表面粗糙度不同的的带基(1)。因此,测量带基的表面粗糙度,已成为带基质量控制不可缺少的环节。精密测量表面粗糙度的方法,主要有轮廓     

磁带粘合剂 第一讲 粘合剂和带基、磁粉的相互作用

<正> 粘合剂任磁带制造中的作用,就是将磁粉按一定的方式固定在带基上,形成一个理想的磁记录层。简言之,粘合剂是磁粉和带基的桥梁,它和带基、磁粉并列为磁带制造业的三大材料。因此,粘合剂体系的选择,也是制造磁带成败的关键。粘合剂对带基的粘结行为,决定着磁层和带基的粘牢度与磁带的使用寿命等;粘合剂在磁粉表面上的吸附行为,决定着磁粉征磁层中的分散性、定向性和填充性等。目前,仍然以“扩散理论、吸附理论、双电层理论和化学键理论”为基本理论。本文仅从粘合剂的分子结构与性能的关系出发,阐述粘合剂在磁带制造中的作用。希望能对磁带配方中粘合剂体系的选择提供可靠的理论根据。     

电解沉积成膜法制备氧化钼变色薄膜的研究

本文研究了一种新的制备过渡金属氧化钼（ＭｏＯ３）变色薄膜的方法，即电解沉积成膜法。通过Ｘ射线衍射实验证明用该方法制得的氧化钼薄膜为非晶质。与传统的真空蒸镀法相比，该薄膜同样具有良好的电致变色和光致变色特性，并观测到了可见光变色效应。结果表明，该方法将为大面积制备均匀过滤金属氧化物变色薄膜走向实用化打下基础。     

国外聚酯带基专用树脂添加剂配方与技术(连载之三)

<正> 5.带基的表面性能与磁带的性能添加剂加到 PET 中,带基表面性能获得了根本改善,减少了摩擦系数,提高了走行性、耐磨损性、收卷性和尺寸稳定性。但是,另一方面,由于添加剂的加入,带基表面出现了凹凸,磁带的电磁变换性能受到了影响,信噪比下降,信息失落增加。这是由于磁层不能有效覆盖带基突起部分而造成的。所以,帮基表面结构特征,凹凸程度(即表面粗糙度)直接影响磁带的质量,带基的表面粗糙度就成为带基的一项     

真空淀积法

真空淀积法是在真空中淀积金属薄膜的方法。事实上,用真空淀积方法淀积的薄膜,并不限于金属;就是金属与非金属的化合物,只要这些物质在蒸发温度时不分解,而其蒸气压也不过低的,都可以淀积而成薄膜。玻璃、塑料、陶瓷等电介质以及铁、锌等金属导体,都可以作为淀积金属的载体。