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相似文献
 共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
针对集成电路加工制造行业数据集成问题,提出一种基于ETL技术和SQL结合的技术方案,作为该问题的解决方法。结合国内某集成电路加工制造公司的实际业务需要,对该技术方案进行验证,验证结果表明该技术方案可以有效解决集成电路数据集成问题。  相似文献   

2.
纳米车     
《光学精密机械》2006,(1):10-10
日前,科学家研制出了一种用单个分子制成的运载装置。将来,有可能通过一群这样的装置制造各种东西,从硅芯片到生物组织。  相似文献   

3.
微机械(Micvomachine、Micromechanism)以单晶硅、高分子、金属薄膜、陶瓷等为材料,利用微电路制造中常用的微细加工技术,在同一硅芯片上制造出与微电路配合协调的、尺寸极小的传感器件的执行元件,称为微机械。微机械与微型(超小型)机械...  相似文献   

4.
介绍了集成电路(IC)在超精密加工技术中的发展。分析IC生产基本工艺流程与工艺技术,对影响IC发展的最新的3项关键生产技术进行研究;通过对国内外集成电路(IC)工艺装备的发展趋势进行分析,提出加工特征尺寸0.1~0.07μm的掩膜制造、光刻、刻蚀等关键装备以及芯片材料技术是IC技术创新和IC制造工艺设备的发展趋势。  相似文献   

5.
随着集成电路技术的发展,中小规模集成电路的设计和制造面临着日益复杂的挑战。为了提高设计和制造效率,自动化集成方法应运而生。本文对中小规模集成电路的自动化集成方法进行了研究,并探讨了其在实际中的具体应用,通过研究和应用自动化集成方法,中小规模集成电路的设计和制造过程将变得更加高效和可靠。  相似文献   

6.
《光学仪器》2005,27(5):97-97
加拿大多伦多大学的科学家最近成功开发出一种光波在硅片上的传播技术,这一技术为制造新一代光电集成电路带来了希望。  相似文献   

7.
随着集成电路的不断发展,低功耗与小面积逐渐成为芯片设计中的重要指标,促使形成电路的器件尺寸不断降低。在半导体芯片制造过程中,越小的器件尺寸对工艺过程中温度控制的精度要求越高,晶圆温度的轻微偏离和高于1%的温度不均匀性将会直接影响最终产品的良率。为实现温度与温度场分布的高精度控制,需要对其进行更为精确的预先检测与实时获取,集成电路制造中的晶圆温度监测技术应运而生。围绕接触式和非接触式两大测温技术分支,介绍了监测温度范围为0℃~1 300℃的晶圆温度监测技术原理。本文基于原理分析各技术所具有的优势与仍然不能满足的测温技术要求,追踪各测温技术的国内外发展现状,展望了未来晶圆温度监测技术的发展方向。  相似文献   

8.
《润滑与密封》2006,(12):142-142
国家863计划集成电路制造装备重大专项“100nm高密度等离子体刻蚀机和大角度离子注入机”,通过科技部与北京市组织的项目验收。这是我国国产主流集成电路核心设备产品第一次实现销售,标志着我国集成电路制造核心装备研发取得重大突破。  相似文献   

9.
<正>目前,用于计算机处理器的硅集成电路正接近单个芯片上晶体管的最大可行密度,至少在二维阵列中是这样。摩尔定律看似已难以维持。美国密歇根大学一研究团队却另辟蹊径,将晶体管阵列带入三维空间,在最先进的硅芯片上直接堆叠第二层晶体管。这一研究为开发打破摩尔定律的硅集成电路铺平了道路。摩尔定律认为,集成电路上可容纳的晶体管数目,约每隔两年便会增加一倍。目前硅集成电路的晶体管密度已接近极限。而随着硅晶体管尺寸变得越来越小,它们的工作电压也在不断下降  相似文献   

10.
本文主要介绍现代制造混合集成电路用的薄厚膜技术。仪表专用电路采用薄厚膜混合集成电路较之单块集成电路、印刷电路的优点。说明该技术是仪表专用电路集成化的重要途径之一。  相似文献   

11.
正我国作为全球最大的半导体市场,对集成电路产品的需求持续快速增长。长期以来,发达国家对出口到我国的制造装备、材料及工艺技术进行严格审查和限制,想要拥有自主知识产权的高技术芯片,就必须发展我国自己的集成电路产业体系。2008年,极大规模集成电路制造装备及成套工艺国家科技重大专项开始启动实施,其总体目标是开展集成电路制造装备、成套工艺和材料技术攻关,掌握核心技术,开发关键产品,实现  相似文献   

12.
随着电子制造技术的日益发展.集成电路的功能变得越来越复杂.而体积却越来越小.因此对制造测试电子元件的厂商而言,如何以最快时间建造出最具竞争力的测试平台.的确是一门不小的学问。  相似文献   

13.
依据半导体集成电路制造技术及封装工艺要求,讨论了模塑封装压机的结构特点及液压控制统应具备的性能。介绍、分析了两例模塑机液压系统设计。  相似文献   

14.
一机部集成电路行业“完美晶体器件技术交流会”于1978年5月16日至23日,在重庆北碚召开。参加这次会议的有一机系统集成电路行业有关工厂、研究所和高等学校,四机部、冶金部有关单位应邀出席介绍了经验。完美晶体器件技术,从其内容来看是研究在器件制造中如何对杂质和缺陷实行有效的控制,以提高器件的成品率,可靠性和稳定性,它是大规模集成电路制造的基础技术之一。会议进行了十五个专题报告,交流了在这  相似文献   

15.
简要介绍了利用硅的各向异性腐蚀工艺研制的非整体膜结构的敏感硅芯片,较详细地报告了用此硅芯片封装成的加速度敏感元件,最后介绍这种加速度计的优良性能。  相似文献   

16.
《光学仪器》2006,28(6):16-16
9月28日,国家863计划集成电路制造装备重大专项“100nm高密度等离子体刻蚀机和大角度离子注入机”,通过科技部与北京市组织的项目验收。北京北方微电子公司和北京中科信公司与我国最大的集成电路装备企业中芯国际公司分别签订刻蚀机和离子注入机的批量采购合同。这是我国国产主流集成电路核心设备产品第一次实现销售,标志着我国集成电路制造核心装备研发取得重大突破。中共中央政治局委员、北京市委书记刘淇,科技部部长徐冠华,科技部副部长马颂德出席签字仪式。  相似文献   

17.
本文介绍了中科院上海光机所研制的CDMS一1型电视线宽测量系统设计及检测。线宽测量技术主要用于集成电路生产的在线测量,以及掩模制造中的质量控制,CDMS一1型电视线宽测量仪利用计算机对集成电路图像进行数字处理,从而保证了仪器测量精度。经检测表明该系统的各项测试指标均达到原设计要求。  相似文献   

18.
集成电路装备集成了基础理论,基础材料、器件物理、计算机、自动控制、光学、化学、真空技术、精密机械、装备制造、统计分析、计量学、环境超洁净控制科技领域的最新成就,是基础研究和应用研究共同发展的产物,许多技术已经在挑战机械、光学加工等方面的物理极限,集成电路装备业已成为高技术装备产业的典型代表。  相似文献   

19.
随着微纳加工技术的发展,微机电系统器件的运用领域愈加广泛,其中微机械结构的变形失效机理研究显得尤为重要.针对MEMS上层硅芯片在微尺度情况下的表面应变测量,提出了一种结合光学显微视觉、硅芯片表面特征图案的光刻工艺技术和数字图像处理技术的方法.经由该方法提取出表面图案的边缘特征,进而获得硅芯片表面的微小应变情况.通过测量...  相似文献   

20.
《仪器仪表学报》2017,38(11):2874-2874
<正>随着集成电路设计技术和制造工艺的飞速发展,针对高性能混合集成电路的高速高精度检测技术、基于物理/电特性的力电综合检测及寿命预测技术等,逐渐成为集成电路测试发展的前沿和热点方向,综合考虑应力特性及电特性的力电检测技术对提高集成电路检测效率、故障定位、提升应用系统的可靠性和安全性等,具有重要的价值和意义。鉴于此,《仪器仪表学报》特邀电子科技大学程玉华教授担任专题主编,特别策划了"集成电路力电检测与可靠性评估"专题,涵盖主题如下(但不限于):高速数字集成电路测试技术、大规模混合集成电路测试技术、工艺过程测试技  相似文献   

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