Ti—Ni非晶合金贮氢薄膜制备及电化学性能研究

利用离子束溅射的方法（ＩＢＳ）制备了Ｔｉ－Ｎｉ非晶合金薄膜,采用ＸＲＤ、ＳＥＭ方法研究了薄膜试样充放电前后的结构和形貌变化,采用电化学方法研究了这种材料的电化学贮氢性能,试样Ｔｉ５０Ｎｉ５０最高电化学容量可达４５８ｍＡｈ／ｇ。引用Ｈａｒｒｉｓ模型估算了Ｔｉ－Ｎｉ非晶合金薄膜的理论电化学贮氢容量,并用以分析实验结果。     

Ti－Ni系贮氢电极

综述了Ｔｉ－Ｎｉ系电极材料的制粉、电极的制备方法、元素替代及母相结构变化（相变）对电极电化学性能的影响，指出了目前ＴｉＮｉ电极研究之不足。     

高贮氢性能的Ti60Zr15Ni15Cu10非晶合金

氢能够溶解于非晶合金中 ,而且非晶合金吸氢后很少引起脆化 ,特别是含有Ｔｉ和Ｚｒ的非晶合金由于对氢具有相当高的化学亲和力 ,所以人们对其作为贮氢合金的应用进行了广泛的研究。一些研究结果已经证明 ,含钛的非晶合金能够从气相中也能通过电解法吸收氢气。按Ｈ/Ｍ比值所定义     

掺杂Fe对贮氢合金Ml（Ni—Co—Mn—Ti）5电化学性能的影响

针对混合稀土金属中含有不定量的Ｆｅ杂质及贮氢电极合金在熔炼过程中容易混入Ｆｅ杂质的特点,采用在Ｍｌ（Ｎｉ－Ｃｏ－Ｍｎ－Ｔｉ）５合金中入为地添加不同量Ｆｅ的方法,系统地研究了Ｆｅ掺 对贮氢电极合金Ｍｌ（Ｎｉ－Ｃｏ－Ｍｎ－Ｔｉ）５电化学性能的影响。     

电沉积制备La-Mg-Ni贮氢合金薄膜及其性能的研究

采用恒电流沉积方法在水溶液中沉积出LaMgNi4合金薄膜。利用循环伏安、模拟电池充放电循环、扫描电镜(SEM)以及X射线衍射(XRD)等方法研究了电沉积合金薄膜的电化学性能和表面形貌及结构。结果表明,该合金薄膜作为贮氢电极具有较好的电化学性能,其电化学活性高,活化性能好,首次充放电比容量达398mAh/g。     

贮氢合金

富镁的Mg Ni Nd合金的吸放氢性能〔1〕　镁及其合金由于质量密度小、对氢的化学亲和力强以及环保性良好且天然贮量丰富等诸多优点 ,所以作为贮运氢气的功能材料具有非常诱人的现实意义。但是这类材料的吸 /放氢动力学很差 ,并且反应温度太高 ,而严重限制了其实际应用。因此 ,研究改进这类合金的吸 /放氢动力学使之适合于在较低温下使用的要求 ,具有着极为重要的现实意义。近年来的研究 ,已提出了一系列的改进措施 ,如添加催化元素法、合金粉末的表面处理法、机械合金化以及气体雾化法等 ,但至今尚未建立起一套符合实用的生产技术。新近开…     

离子束辅助沉积合成B—N薄膜的分析

用离子束辅助沉积(IBAD)技术合成氮化硼薄膜,红外吸收谱和透射电镜的观测结果显示,薄膜含有c—BN和h—BN相薄膜Knoop硬度值高达35GPa。逐层剥离的AES谱结果表明,薄膜表面存在氮离子的注入效应,薄膜由注入层、成分均匀层和离子束混合过渡层组成     

PREPARATION OF B-N FILMS BY ION BEAM ASSISTED DEPOSITION

BN films,synthesized by ion beam assisted deposition,were analysed by RBS,AES,IR spectra and TEM.Formatiom of c-BN phase was shown not only by IR spectra atabsorption peak of 1100 cm~(-1),but also by electron diffraction pattern.The results ofAES demonstrate an effect of N~+ implantation near the film surface.The deposited filmsconsist of three layers,i.e.,ion implantation layer,film layer and mixed intermediatelayer,according to the difference of concentration.The micro-Knoop hardness of the film is25—35 GPa.     

反应溅射非晶态氧化铝薄膜SCIEI

研究了平面磁控直流反应溅射法沉积氧化铝薄膜的过程。结果表明氧分压大小对反应溅射过程有决定性作用,当氧分压增大或减小过程中存在两个阈值。氧分压小于阈值为金属Al溅射区,大于阈值为氧化铝溅射区。在阈值附近总气压、溅射电压和沉积速率发生突变,溅射特性(V-J)曲线有不同规律。沉积的氧化铝膜为非晶态,高温下可晶化,本文还讨论了反应溅射的机理。     

Ti-Mo合金薄膜的储氢特性和抗氢脆能力

用前向反冲方法和高能非Ｒｕｔｈｅｒｆｏｒｄ背散射研究了磁控溅射制备的Ｔｉ－Ｍｏ合金薄膜的氢化性能和碳、氧污染的影响,掺Ｍｏ的Ｔ洽 金薄膜不仅能大大减低碳的污染,而且较纯钛有较高的吸氢性能合金氢化后由δ相氢化物和β相固溶体组成,随着Ｍｏ成分增加,合金中的β－（Ｔｉ,Ｍｏ）含量上升,当ＭＯ含量约２０时可形成单一的β相固溶体此时氢含量仍可在４５以上。Ｔｉ－Ｍｏ合金薄膜同时也具有良好的附着力和抗粉化性能。     

离子束溅射制备立方C-N化合物

用氮离子束分别原位溅射Ｔｉ和石墨靶的方法制备了ＣＮｘ／ＴｉＮｙ多层膜。用Ｘ射线光电子谱分析ＣＮｘ层中Ｃ和Ｎ的键合状态,用透射电镜观察薄膜中的相形貌,用电子衍射和Ｘ射线衍射的方法分析相的结构。结果表明,ＣＮｘ层中主要有Ｎ－ｓｐ＾２Ｃ和Ｎ－ｓｐ＾３Ｃ两种键合状态,薄膜中观察到的Ｃ－Ｎ化合物尺寸为１０－６０ｎｍ的晶体颗粒,其衍射数据可用立方Ｃ３Ｎ４结构标定,证实了该薄膜中存在立方Ｃ３Ｎ４化合物。     

PREPARATION AND SURFACE CHARACTERIZATION OF TiO_2 THIN FILMS ON GLASS BY MAGNETRON SPUTTERING METHOD

1. IntroductionTiOz thin films have excellent properties sucl1 as l1igh ref1actitre il1dex, outstal1diugoptical tra11sl11ittallce, high dielectric constant and physical chemical stabilityll'2]. Recently',the TiO2 thi1l films have drawn more attel1tions oll photocatalysis, optical coating, al1dsolar cell fab.ication[3'4l. In this work we deposited Ti thin film on glass substrate b}-nlagl1etroll sputterillg lllethod and allllealing Ti tl1in fi1l11 to fOrlll TiO2 tl1ill fi1m.2. ExperimelltalT…     

贮氢合金La（NiSnCo）5.12微包覆镍研究

研究了化学镀镍法对贮氢合金粉末表面镀镍的工艺。该法无需经过ＰｄＣｌ２活化,在含有０．２０ｍｏＬ／ＬＮｉＳＯ４,０．４０ｍｏＬ／ＬＮａＨ２ＰＯ２,０．０６ｍｏＬ／ＬＮａ３Ｃ６Ｈ５Ｏ７,０．５６ｍｏＬ／ＬＮＨ４Ｃｌ的溶液中,控制ｐＨ９．０～９．５,温度５０℃,镀镍时间２５～３０ｍｉｎ,可以得到镀镍量为９％～２０％（质量分数）的镍镀层。ＳＥＭ形貌分析表明,获得的镀层厚度和成分均匀,镀层中含有５％（质量分数）的Ｐ元素。Ｘ射线衍射分析结果显示出镀层为一种非晶态结构。     

离子束辅助沉积Fe－N薄膜的相形成

用离子束辅助沉积方法合成Ｆｅ－Ｎ薄膜，用离子束背散射和Ｘ射线衍射方法分析薄膜成分和结构．结果表明，薄膜的组分（α－Ｆｅ，ζ－Ｆｅ２Ｎ，ε－Ｆｅ（２－３）Ｎ，γ＇－Ｆｅ４Ｎ相等）取决于沉积参数。给出了沉积温度和Ｎ／Ｆｅ原子到达比组成的相区域图．     

经四氢呋喃改性后Mg的储氢性能SCIEI

本文研究了用四氢呋喃(简称THF)改性过的Mg(简称THF-Mg)的吸放氢性能。电子结构,晶体结构及其氢化物的稳定性与微观形貌。THF-Mg经20次吸放氢循环后,在3.5MPa氢压力及643K温度下,吸氢量为3.5wt-％;在1.3Pa真空,643K温度下,放氢量为3.2Wt-％,THF改变了Mg的电子结构,但不改变晶体结构。在吸氢后的产物中,除MgH_2相外,还有新的氢化物相形成。Mg中形成的氢化物是多晶体,晶内广泛存在着的滑移带和孪晶表明,Mg吸氢相变发生较大的畸变。     

AB2和AB5型贮氢合金电极热碱充电表面改性

采用高温热碱充电这一表面改性处理新工艺对ＡＢ２和ＡＢ５型贮氢合金电极性能的影响进行了对比研究。结果表明：该工艺明显改善了ＡＢ２贮氢电极的电压平台率（ＶＰＲ）,高倍率充放电能力（ＨＲＤＡ）、氢的扩散系数ＤＨ以及放电容量Ｃｎ,通过该工艺处理可使ＡＢ２合金表面致密的氧化膜溶解,形成富镍表层;且使合金表现形成新的活性区,有利于改善合金电极的动力学性能,为生产电动车用ＮｉＭＨ电池打下良好的基础。而ＡＢ５型贮