离子交换器中间排水装置的强度分析及改进

以某厂运行使用并多次造成损坏的φ3m阳离子交换器三通母支管式中排和它的加固型为对象进行强度分析。以理论上确定该型中排运行时的允许压差值和极限压差值。同时对已试验使用的改进型——分支管立扦式中排的受力状况进行了分析,从理论上说明它在运行中受力状况好,适应性强,具有不易发生损坏的优点。     

供水压力对穿孔管布水系统布水均匀性的影响

针对工程上应用较为广泛的穿孔管布水切线弹性模量系统，以Navier-Stokes方程为框架，运用计算流体动力学（CFD）求解技术，就供水压力对典型穿孔管系统布水均匀性的影响情况进行了三维稳态模拟和试验分析.结果表明，CFD技术可较精确地预测穿孔管系统各孔口的出流情况.供水压力对穿孔布水系统布水均匀性有较大的影响，尤其是对距离进水主管较远的孔口，随着供水压力pu的增加，布水系统的布水均匀性变好，当pu在 0.05～0.10 MPa时，供水压力对孔口出流量偏差的影响最为剧烈，压力的提高可显著改善布水的均匀性；当pu为 0.100～0.175 MPa时，供水压力对孔口出流量偏差的影响很小，此时提高供水压力往往并不能取得理想的效果；当pu大于0.175 MPa时，供水压力对孔口出流量偏差的影响重新开始显现，但对布水系统均匀性的影响效果不如其在0.05～0.10 MPa段.     

单支管实现配水均匀的方法

通过讨论单支管配水过程中增加局部阻力的途径 ,结合水头损失计算公式 ,讨论实现配水均匀的具体方法。同时根据探讨方法的思维经过 ,结合工程实际 ,阐述如何在实际工程中应用 ,达到配水均匀的目的     

单支管实现配水均匀的方法

通过讨论单支管配水过程中增加局部阻力的途径，结合水头损失计算公式，讨论实现配水均匀的具体方法。同时根据探讨方法的思维经过，结合工程实际，阐述如何在实际工程中应用，达到配水均匀的目的。     

计量光栅均匀性误差的研究

本文对计量光栅制造工艺中，易引起均匀性误差的主要因素进行了分析讨论，并提出了相应控制措施。     

计量光栅均匀性误差的研究

本文对计量光栅制造工艺中，易引起均匀性误差的主要因素进行了分析讨论，并提出了相应控制措施。     

管线钢力学性能均匀性研究

对高钢级管线钢中不同层厚、不同部位,包括横向、纵向、焊缝及距离焊缝90°和180°位置,取不同直径的拉伸试样,进行了力学性能变化规律研究,发现距离焊缝180°的管体Rt0.5最低,此处为易破裂点.     

城市污水回用技术中气水反冲洗滤池布水均匀性研究

在城市污水作为水资源回用的技术中,气水反冲洗滤池是重要的工艺过程,它对布水（ 气）均匀性的要求相当高,传统的支母管系穿孔管大阻力配水（ 气） 系统达不到如此高的要求．当采用不锈钢梯形绕丝布水（气） 装置后,可以使孔口微分为若干细缝隙布水（ 气）,由于其加工精度可以得到有效的控制,使得Ｓ１ 值的相同性得以实现,经工程使用,达到了相当满意的布水（气）均匀性效果．     

水平式MOCVD系统生长速度均匀性的研究

本文讨论了影响生长速度的因素,如主载气流量、金属有机源流量(在一定蒸气压下),衬底放置位置,及掺杂和非掺杂情况等.对实验结果进行了计论,并与其它文献进行了比较.着重阐述了改善侧向均匀性问题.     

双作用斯特林发动机循环均匀性研究

研究了形成循环不均匀的机理,提出了提高循环均匀性的方法,实现了改进斯特林发动机性能的目的。     

不同磁控溅射模式膜厚均匀性研究

使用磁控溅射和非平衡磁控溅射方法，在玻璃基底上沉积钛膜。实验了在同等工艺条件下平衡和非平衡两种不同的工作模式对膜厚均匀性的影响。结果表明，靶基距是影响磁控溅射薄膜厚度均匀性的重要工艺参数，在一定范围内，随着靶基距的增大，膜厚分布均匀性有提高的趋势；磁场分布是影响两种磁控溅射膜厚分布差异的主要因素；非平衡磁控溅射膜厚均匀性随附加励磁线圈电流改变而变化。     

双层板渐进成形对成形件表面质量和壁厚均匀性的影响

为改善成形件的表面质量和壁厚均匀性,提出双层板渐进成形方法。以典型圆锥件为研究对象、5052铝合金板为目标板、304不锈钢板为辅助板,实验分析成形件的表面粗糙度和壁厚分布,探讨辅助板对成形件表面质量及壁厚均匀性的影响。结果表明:单层板和双层板渐进成形件表面质量差异明显,在目标板厚度≥0.6 mm的条件下,双层板渐进成形可获得表面质量更好的零件;辅助板厚度对成形件表面粗糙度也有影响,合适的辅助板厚度可改善成形件壁厚分布均匀性,增大最小厚度。     

匀胶胶厚均匀性的研究

片式薄膜电阻器的生产采用光刻的工艺来实现电阻图形,会大大降低膜层所受到的应力,保证电阻的稳定性和一致性。改进光刻胶的涂覆均匀性是改进光刻工艺一种最节省成本最有效的技术手段。对匀胶工艺中的最关键的两个技术参数转速和时间进行了分析,同时研究了前烘的温度和时间对显影图形的影响。     

砷化镓液相外延片均匀性的研究

介绍了在ＧａＡｓ液相外延过程中，通过改变源溶液的配比及处理方法、外延生长温度、降温速率、石墨舟的结构等工艺条件，制做出厚度均匀、掺杂浓度分布均匀的ＧａＡｓ外延片，并确定了比较好的生长工艺条件．这对生长高质量的ＧａＡｓ外延片及制做参数一致性好、可靠性高的化合物半导体器件有一定实际意义．     

板式红外辐射器辐照均匀性改善研究

针对板式辐射器加热物体时,被加热物体边缘处辐照均匀性较差的问题,提出两种措施进行改善,并建立相应模型,采用角系数的代数分析法,分析相关参数变化对辐照均匀性的影响.一种措施是以一方向无限长的两平行面为基础,在加热面两端各加一与加热面温度相同、性质相同的加热面,结果表明:侧加热面长度及其与垂直方向夹角大小对辐照均匀性均有影响;另一种措施是将原加热面一分为二,相对倾斜布置,发现辐照均匀面积大小和倾斜角度有关,针对不同的板长存在最佳夹角.以上两种措施都能改善辐照均匀性.     

电磁混响室场均匀性评定方法的实验研究

采用两种不同的方法对同一新建电磁混响室的场均匀性进行了评定、对比和分析,一种是基于最大场强统计特性,具有优于相关国际标准的技术指标;另一种方法是基于不同搅拌状态下被测场强的概率分布,将任意搅拌状态下的被测场强均纳入场均匀性判定过程中.两种评定方法所得结果具有一致性和差异性,一致性证明了新方法能够从场强概率分布的角度对混响室的场均匀性进行有效验证;差异性则说明了新方法可以为射频识别芯片最大识别距离测试、复杂信道模拟等应用提供更为全面和准确的基础技术指标支撑.     

IPT颜色空间均匀性的研究

针对当前图像色貌模型中使用的IPT颜色空间,采用视觉均匀的Munsell颜色体系,分别从明度、彩度和色相等三方面对其均匀性进行了评价,提出了样品决定系数(R2)、均方根误差(RMSE)等相应的评价指标.结果表明:在明度方面,IPT颜色空间与CIELAB颜色空间同样具有良好的均匀性;在彩度方面,IPT颜色空间的彩度均匀性不如CIELAB颜色空间;在色相方面,R、YR、Y、GY、G、BG、B颜色区域的均匀性要比在CIELAB颜色空间稍好一些,是一个较为理想的色彩空间.     

金属塑性变形的不均匀性

以金属塑性变形理论为基础,分析金属压力加工过程中应力和变形不均匀分布的原因及产生的后果.提出了工艺设计和生产加工过程中可采取的防范措施.     

冷冻条件下高氟水氟离子迁移规律研究

冷冻分凝是溶液中溶质溶剂分离的一种有效方法．文章以高氟水溶液为研究对象,考察了冷冻条件下,氟离子在固液两相中迁移的分布规律．研究结果表明：在-10℃冷冻条件下,处理氟离子含量为2—6mg／L的高氟水,成冰率为50％时,冰融水中F-浓度可达到0．66mg／L以下．高氟水在冷冻过程中所形成的固相中F-农度随冷冻时间成“U”型分布．冰融水中F-浓度呈先增加．后随冰层厚度的增加其浓度开始降低,冷冻结束时又升高的规律,依次形成微污染层、纯净层和混合层．当固相总量占溶液体积的70％时,各层冰融水混合后F离子浓度总量在1mg／L以下．种冰的加入能够使冰融水中F含量降低至0．05—0．14mg／L,电导率在8．7～9．8μS／cm之间．