铝合金化学镀Ni-P合金工艺研究

采用单因素试验和正交试验研究了温度、pH、柠檬酸钠和次磷酸钠质量浓度等工艺条件对化学镀Ni-P合金镀层耐蚀性的影响,得到了一种沉积速率较快,耐蚀性能好的化学镀Ni-P合金工艺.结果表明,最佳工艺条件为:25g/L硫酸镍,24 g/L次磷酸钠,45 g/L柠檬酸钠,2mg/L硫脲,0.1 g/L乙酸钠,0.5mL/L O...     

镁合金化学镀Ni-P研究现状

综述了镁合金化学镀Ni-P的研究进展情况;介绍了化学镀Ni-P二元镀层、三元镀层、多元镀层及纳米复合镀层等;分析对比了几种镀层的优缺点及适用范围;展望了镁合金化学镀今后的发展趋势.     

铝及铝合金化学镀Ni-P合金工艺研究

研究了一种新型的铝及铝合金化学镀N i-P合金的前处理工艺。将化学镀N i-P合金工艺的二次施镀(先碱性化学镀N i-P,再酸性化学镀N i-P),改为一次施镀。给出了前处理活化液的配方和工艺条件。本工艺操作简单,便于镀件质量控制,缩短了操作时间,提高了工作效率,降低了成本。实验结果表明:此工艺条件下得到的镀层,结合强度和镀层质量达标。     

化学镀Ni-P合金工艺的优化

用五种化学镀工艺制备了Ni-P合金镀层。用动电位极化曲线法比较镀层的耐均匀腐蚀性能,用溶液浇浸法测定了镀层的耐孔蚀性能,并用X-射线衍射仪和扫描电子显微镜分别研究镀层结构和表面形貌。结果表明：工艺2制备的镀层具有较高的耐均匀腐蚀和耐孔蚀性能,属于非晶和微晶组成的混晶结构。并对该工艺进行了正交试验,得到了最优工艺条件。     

化学镀Ni-P合金镀层耐蚀性的研究

通过大量试验,研究了化学镀Ni-P合金镀层在H_2S、HCl、Nac1及部分有机酸介质中的耐蚀性。测定结果表明,化学镀Ni-P合金镀层在上述介质中的耐蚀性与镀层中的P含量有很大关系。文中还分析探讨了该镀层的耐蚀机理     

镁合金直接化学镀Ni-P合金工艺

研究了镁合金经酸洗直接进行化学镀Ni-P合金工艺。用金相显微镜及扫描电子显微镜观察了镁合金表面经不同时间酸洗后的表面形貌及对镀层质量的影响。分析了镀液pH、温度对镀速的影响,并测试了镀层的表面形貌和耐蚀性。当酸洗时间为25 s时,所得到的镀层均匀致密,结合力好,耐蚀性能大大提高。     

化学镀Ni-P合金耐蚀性的影响因素

论述了镀液成份、磷含量、基材表面状态、前处理和后处理工艺及外加磁场等因素对化学镀ＮｉＰ合金耐蚀性的影响。     

钛合金化学镀Ni-P合金工艺的研究

通过对钛合金前处理、镀液配方及镀后处理的研究发现，对钛合金进行喷砂、活化、预镀镍、化学镀及热处理后，可获得具有较好耐磨性、结合力良好的Ni—P合金镀层。     

玻璃基体化学镀Ni-P合金

通过调整镀液成分,优化温度、pH、施镀时间等工艺参数,获得了在玻璃基体沉积光亮Ni-P合金镀层的化学镀工艺;分析了镀层含磷量以及基体表面性质等对镀层光亮度和结合力的影响;性能测试结果证明镀层有较好的光亮度和结合力,磷的质量分数为10%~11%。     

镁合金化学镀Ni-P合金工艺研究

采用硫酸镍为主盐在AZ31D镁合金表面直接化学镀Ni-P合金,优化了工艺条件,讨论了镀液pH、施镀温度、主盐、次磷酸钠及柠檬酸等因素对化学镀Ni-P合金的影响,利用金相显微镜等对镀层进行了测试.结果表明所得镀层光滑、致密、均匀,耐蚀性较好.     

玻璃基体化学镀镍-磷工艺研究

非晶态化学镀玻璃基体可用作计算机磁盘基板针对玻璃表面化学镀镍一磷镀层易出现剥皮、开裂等问题，研究了玻璃基材表面的性质，镍磷合金化学镀层结构、含磷量以及镀层韧性、内应力、结合力等对镀层开裂产生的影响一通过调整镀液成分，优化温度、pH值、施镀时间等工艺参数，获得了玻璃基体化学镀镍一磷的工艺配方     

一种新型酸性光亮化学镀镍-磷合金技术

化学镀镍 -磷合金可替代硬铬镀层和不锈钢 ,应用前景广阔。本文通过实验研究和生产应用确定了一种新型酸性光亮化学镀镍 -磷合金的关键工艺适宜值 ,其中施镀pH值为 4 6～ 4 9、温度为 (88± 3)℃。采用扫描电镜及X -射线衍射仪对该合金镀层的微观形貌及晶相结构进行了分析 ,并对其硬度、耐蚀性、孔隙率及结合力进行了测试。结果表明 ,该合金镀层为非晶态结构 ,且致密均匀、平整 ,孔隙率低、耐蚀性好 ,镀态硬度为 5 37HV ,热处理后达到1 0 2 4HV。     

全光亮化学镀镍磷合金新工艺

研制开发了一种新型的全光亮化学镀镍磷合金工艺,光亮剂对磷的沉积起到积极的促进作用,能够提高镀层中的磷含量。光亮剂的添加使镀液出光速度快、镀层光亮均匀,可以获得全光亮的镍磷合金镀层。扫描电镜和X 射线衍射分析结果表明,高磷合金镀层为非晶态结构。测试表明,镍-磷合金镀层的硬度介于290～490HV之间,且随光亮剂加入量的增加而降低。镀层磨损率在0 00396～0 00498mg/(cm2·h)之间。镀液中光亮剂含量为2mL/L时,所得镀层在10%的HCl介质中腐蚀率最低为0 0002mg/cm2·h。     

化学镀Ni-P合金工艺的研究

本文研究了以硫酸镍作为主盐、次磷酸钠为还原剂的酸性化学镀镍磷合金工艺，并通过实验详细分析了主盐和还原剂、络合剂、催化剂、温度、pH值、前处理、亚磷酸钠等因素对化学镀镍磷合金工艺的影响，找出了最适合的镀浴配比和组成以及最佳的操作务件。     

铝及铝合金化学浸镀仿金工艺研究

为了拓展铝及铝合金的应用范围,采用二次浸锌+碱性化学镀镍+酸性化学镀镍+化学浸镀仿金的组合工艺,开发了一种新的铝及铝合金化学浸镀仿金工艺,探讨了主要成分和工艺条件对仿金镀层质量的影响,确定工艺条件如下:SnSO4 8～10 g/L,CuSO4 1.2～1.5 g/L,配位剂(酒石酸或柠檬酸)10～15 g/L,H2SO4 10～20 mL/L,XT-08B稳定剂10～12 mL/L,氢氟酸40～50 mL/L,氟化铵1～2g/L,温度15～35℃,时间10～15 min.所得仿金镀层色泽典雅纯正,结合力好,工艺操作简便,对环境污染小,耐蚀性可与电镀仿金层媲美,具有较好的应用前景.     

塑料ABS表面低温光亮化学镀Ni-P的施镀分析

塑料ABS是一种工程塑料，ABS表面粗化、活化处理后，通过对施镀过程的控制实施了ABS表面低温快速镀Ni-P，其最佳条件为：NiSO4浓度20～35g／L，Na2H2PO2浓度25g／L，温度55℃。通过对镀层的XRD、SEM和EDAX的分析，表明ABS表面镀层均匀、结合力好、光亮。     

化学镀镍-铜-磷三元合金工艺的研究

为提高化学镀镍－磷合金镀层的性能及获得多种性能的合金镀层以拓宽其应用范围。在化学镀镍－磷合金液中加入硫酸铜制得镍－铜－磷三元合金。研究了镀液中硫酸镍、次磷酸钠、柠檬酸钠、硫酸铜、稳定剂、光亮剂的含量以及pH值和温度等因素对合金镀层的外观、沉积速度及铜含量的影响。通过5％氯化钠溶液和10％硫酸溶液浸泡试验比较了所得镍－铜－磷合金镀层与镍－磷合金镀层以及前人制得的镍－磷合金镀层的耐蚀性，同时比较了上述镀层的其它性能。结果表明，所得镍－铜－磷合金镀层的耐蚀性、外观、结合力、孔隙率、沉积速度、硬度和耐磨性等性能优于镍－磷合金及前人制得的镍－铜－磷合金镀层。     

化学镀Ni-Sn-P合金的研究进展

介绍了近年来国内外在化学镀Ni-Sn-P合金镀层方面的研究进展,探讨了镍盐含量、锡盐含量、还原剂含量、络合剂含量、温度和pH等因素对化学镀Ni-Sn-P合金的镀速及镀层质量的影响。分析了镀层的表面形貌、结构及性能,概述了化学镀Ni-Sn-P合金镀层的应用及目前所存在的问题。     

烧结Nd-Fe-B永磁体酸性化学镀Ni-P

经除油、酸洗、封孔、活化、闪镀后,在Nd-Fe-B永磁体上进行常规化学镀Ni-P合金。测试了不同施镀时间下Ni-P镀层的性能。X射线与扫描电镜图显示该Ni-P镀层光亮、致密,为非晶态结构,其磷含量为12．1％。采用极化曲线测量了Nd-Fe-B永磁体及Ni-P镀层的腐蚀电位、腐蚀电流密度和腐蚀速率,并对其进行了海：水浸泡实验。结果表明,Ni-P镀层的自腐蚀电位较Nd-Fe-B大大提高,且封孔能提高镀层的耐蚀性：该镀层能明显提高Nd-Fe-B永磁体的耐腐蚀能力,且随镀层厚度增加,耐蚀性增加。