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合肥国家同步辐射实验室光学元件组现承担 863 -4 16-2子项目“用于激光驱动靶面均匀照明位相片的制造”。在位相片的制造过程中所遇到的关键问题之一是如何使基片上的掩模板中心和基片中心精确对准 ,要求对准台套准误差小于 10μm,重复套准误差小于 2 0μm,刻蚀基片的综合误差小于 30μm,静态真空度小于 1× 10 - 4Pa。为此我们对 L KJ-1C-D-150离子束刻蚀机进行了改造 ,设计了一套三维可调的掩模工作台 ,并对其进行了测试 ,给出了测试后的刻蚀结果 相似文献
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曝光量对码盘、圆光栅均匀性误差的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
根据光栅的透射特性和曝光及显影机理,对码盘、圆光栅线条的黑白比以及曝光量和其均匀性误差之间的内在关系进行了分析,并给出了保持曝光量均匀的措施,实验证明,改进后刻制出的码盘、圆光栅的均匀性误差较小. 相似文献
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通过将溶胶凝胶法制备的锆钛酸铅(PZT)在非晶态和多晶态进行刻蚀,对比未经刻蚀的PZT性能,研究了集成工艺中湿法刻蚀造成极化和耐久性能退化的机理.PZT的结晶图谱和表面形貌分析发现,湿法刻蚀中产生的非铁电成分由于具有较小的介电常数,降低了铁电材料上分担的有效测试电压,导致刻蚀后PZT极化能力的降低.未刻蚀的PZT翻转1011次后极化值损失约3%,而刻蚀后极化值减小量大于5%.随着尺寸的减小,耐久特性的降低更为明显,100μm×100μm的PZT极化值减小量约为500μm×500μm样品的3倍.高温过程中由于湿法刻蚀而产生的缺陷和空隙在PZT内部重新分布,外加电压下有更多的电子被缺陷和空隙束缚而产生内建电场并钉扎铁电畴,不同器件尺寸的PZT内部缺陷和空隙浓度的变化不同,导致耐久特性随PZT器件尺寸而不同.利用压电特性参数与极化强度的关系,可以解释湿法刻蚀对压电特性造成损伤的原因. 相似文献
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温度误差是影响长度测量精度的一个主要因素。如:一个1000 mm的钢制圆棒,温度变化10℃时,圆棒的尺寸变化为0.11 mm,这在长度精密测量中是绝对不允许的。在长度测量中温度误差是长度测量中的一个难点。 相似文献
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针对全息离子束刻蚀衍射光栅制作中,光刻胶光栅浮雕图形的制作是至关重要和困难的,引入O2反应离子刻蚀对光刻胶光栅进行灰化处理,给出光刻胶灰化技术在全息离子束刻蚀衍射光栅制作闪耀光栅、浅槽矩形位相光栅、自支撑透射光栅中的具体应用。实验结果表明,这一新工艺的突出优点是降低了苛刻的全息曝光、显影要求,使得光栅线条光滑、线空比和槽深可控。 相似文献
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石英和BK7玻璃的离子束刻蚀特性研究 总被引:3,自引:0,他引:3
石英和BK7玻璃是常用的光学材料和微系统材料.用Ar作为工作气体对石英和BK7玻璃及其掩模材料AZ1350的离子束刻蚀特性进行了研究,分析了离子能量、离子束流密度和离子束入射角等几种因素对刻蚀速率和选择比的影响,结合相关理论得到了相应的刻蚀速率拟合方程.AFM测量结果表明刻蚀工艺对材料的低损伤.由于与光刻胶的刻蚀选择比较低,随着石英和BK7玻璃刻蚀深度的增加,图形转移精度下降.因此提高刻蚀选择比是获得高分辨率图形的前提. 相似文献
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通过实验和数值模拟研究了聚焦离子束系统中微波离子枪的离子束光学特性,该离子枪由微波等离子体源和Orloff-Swason引出透镜组成。该透镜除了广泛用于场致发射离子枪外,在等离子体源情况下,也能获得很好的离子束光学性能。 相似文献
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本文系统地研究了离子束强化高频离子镀TiN的工艺参数。为了比较其效果,相应地进行了高频离子镀、离子束强化蒸镀工艺实验。测量了上述三种方法镀膜的物理性能、分析了组织结构。离子束强化不仅提高了沉积速率,而且有明显的细化晶粒、择优取向的作用。本研究所得结果对提高 TiN 沉积速率、膜质量都有实用意义。 相似文献