国外光器件加工工艺现状及其发展动向(下)

二、光学镀膜工艺光器件制造过程中,常常要镀制各种光学薄膜,如增透膜(减反射膜)、反射膜(金属反射膜、多层介质膜)、析光膜、分光膜、干涉滤光膜等等。因此,光学薄膜的镀制是光器件制造的重要工艺之一。     

YbF3和ZnS薄膜的折射率和厚度的分光光度法测定

本文给出了一种简单而准确地确定光学薄膜折射率和厚度的方法。利用分光光度计分别测量光学薄膜样品以及基底透射率曲线,采用柯西（Cauchy）色散模型以及非线性单纯形优化法对透射率测量曲线进行拟合,从而确定薄膜的光学常数和厚度。采用电子束热蒸发和电阻热蒸发方法,分别在CaF2基底上镀制ZnS薄膜和在Al2O3基底上镀制YbF3薄膜,通过测量其在400nm-2600nm波段内的透射率曲线,计算出ZnS和YbF3薄膜材料的折射率色散曲线以及膜层厚度。     

美国第三届光学干涉薄膜讨论会论文简介

六十年代以来,光学薄膜科学与技术进入了异常活跃的发展时期。随着激光技术、红外技术、彩色技术、光学仪器、遥感技术、光通讯等技术的发展,对光学薄膜提出了更高的要求。这促进了光学薄膜在理论、淀积技术、监控技术、测试技术、膜层生长及结构的研究等方面的进展。 1984年4月在美国加利福尼亚州蒙特里会议中心召开的第三届光学干涉薄膜专题讨论会就是这种进展的一个体现。在这次会议上共发     

沃拉斯顿棱镜可见光区减反射膜研制

为了提高镀膜材料和冰洲石基底的附着力以及提高棱镜的透过比,拓宽有效使用带宽,借助于计算机辅助设计方法,设计了高性能多层减反射膜系;选用合适的光学薄膜材料,利用电子束蒸镀,借助于离子源辅助蒸镀,制作了高性能的宽带减反射膜.测试结果表明:e光,o光的平均剩余反射率小于0.5%,有效使用带宽覆盖可见光区;为了改善薄膜和基底间的附着力,采用Al2O3做过渡层.     

沃拉斯顿棱镜可见光区减反射膜研制

为了提高镀膜材料和冰洲石基底的附着力以及提高棱镜的透过比,拓宽有效使用带宽,借助于计算机辅助设计方法,设计了高性能多层减反射膜系;选用合适的光学薄膜材料,利用电子束蒸镀,借助于离子源辅助蒸镀,制作了高性能的宽带减反射膜．测试结果表明：e光,o光的平均剩余反射率小于0．5％,有效使用带宽覆盖可见光区;为了改善薄膜和基底问的附着力,采用Al2O3做过渡层。     

对于蒸镀薄膜柱状结构的讨论

自从英国学者Pearson[1]通过对蒸镀薄膜横断面的显微观察提出多层膜的微柱状结构以来,对于光学薄膜微观结构及其有关特性进行了广泛的研究,现在人们已经非常清楚,蒸镀的光学薄膜几乎都是柱状结构。     

氧化钕薄膜的红外光学特性

在稀土材料的光学特性研究中,薄膜光学特性的研究还很少见到。为此,我们测量了氯化钕、氧化钕薄膜的红外透射特性及其折射率,表明Nd_2O_3可作为一种高折射率、透红外的光学薄膜材料。鉴于NdCl_3粉末熔点比Nd_2O_3低得多,我们首先采用真空镀膜技术,用钼舟加热,在ZnS基片上蒸镀得到了NdCl_3薄膜。利用Perkin-Elmer红外分光光度计测定了它的红外     

真空镀制干涉薄膜时监控片高度的计算

在用真空热蒸发介质镀制干涉薄膜时,膜层的厚度通常是用光电光度法进行控制的,其中用窄带干涉滤光片分出单色控制光束。这时,为了在镀件上得到光学厚度为λ/4的膜层(λ是监控滤光片的中心波长),镀件样品应放置在蒸发源上方一定的高度处。     

Wollaston棱镜宽带减反射膜的研制及测试

针对Wollaston棱镜中o、e光对应的基底折射率相差较大以及制作该晶体的冰洲石和许多薄膜材料间附着力较差的特点,为了提高镀膜材料和冰洲石基底的附着力以及提高棱镜的透过比,拓宽有效使用带宽,借助于计算机辅助设计方法,设计了高性能多层减反射膜系。选用合适的光学薄膜材料,利用电子束蒸镀,借助于离子源辅助蒸镀,制作了高性能的宽带减反射膜。测试结果表明：o光的平均剩余反射率小于1．0％,e光的平均剩余反射率小于0．5％,有效使用带宽在近红外大于200nm;薄膜和基底结合牢固,达到了设计要求,提升了棱镜的品质。     

薄膜技术在发光材料上的应用

随着科学技术的发展,薄膜技术获得了进一步的提高,特别是近二十年来,薄膜技术在各科学技术领域中得到了广泛的应用。例如光学、光谱学、电子技术、原子物理、宇宙技术、半导体技术等领域中已广泛地采用。目前,薄膜的成膜方法很多,就其原理而言,不外乎下述两种:一是以物理为基础的真空镀膜法,一是基于成膜物质在镀件表面上相互间化学反应的化学镀膜法,两者的作用是薄膜赋予镀件本身不具有的光学、化学、电学和     

可调谐光纤F-P线性滤波器的设计与分析

光纤滤波器在光纤通信和光纤传感领域发挥着重要的作用。本文基于光学薄膜干涉理论设计了一种用于光纤传感的可调谐F-P线性滤波器,该滤波器由两端面相对的入射光纤与出射光纤构成,两光纤端端面分别镀有反射光纤薄膜。该F-P干涉腔改善了传统F-P腔的透射率响应特性,有助于提高滤波器的线性度和线性范围。本文采用光学薄膜干涉矩阵分析法对该滤波器的透射率响应关系进行了计算与分析,并得出该FP滤波器的结构参数。设计结果表明,这种新型线性滤波器具有线性度好、线性范围宽和线性区间可调的优点。     

离子辅助沉积电子束蒸发Si基SiO2薄膜的研究

研究了离子辅助沉积(IBAD)电子束蒸发和传统电子束蒸发两种镀膜方式在Si(100)面基底所镀SiO2光学薄膜的特性。特别是在离子辅助沉积下,分析了不同工艺条件改变对SiO2光学薄膜的光学特性的影响。结果表明,无论表面形貌、折射率均匀性,还是湿度稳定性,离子辅助电子束蒸发都优于传统电子束蒸发的SiO2光学薄膜,在离子辅助沉积条件下,薄膜折射率在40～160℃范围随衬底温度的升高而提高,镀膜时真空度为1.5×10-3 Pa、沉积速率为5nm/s、离子源驱动电压为285.4V、离子源辅助气体分压比PAr∶PO=1∶1时,SiO2光学薄膜的光学特性最好。     

Pb1—xGexTe材料及光学薄膜器件温度稳定性的研究

1薄膜光学和光学薄膜技术以及光学薄膜器件温度稳定性的研究 自二十世纪三十年代年代中期出现反射镜、减反射膜和利用光的干涉效应的滤光片以来,薄膜光学和光学薄膜技术走过了半个多世纪,已经发展成为一门成熟的工程技术学科.     

磁光薄膜的干涉增强

讨论了磁光薄膜的基本特性,并用光学薄膜的设计技术研究了磁光效应的干涉增强。作为例子,文中给出了TbFe膜的一些设计结果。     

不同沉积方式SiO2薄膜的自然时效特性

SiO2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。文中采用不同沉积技术在Si基底上制备了SiO2薄膜,并研究了它们光学特性的自然时效特性。采用不同贮存时间的椭偏光谱表征SiO2薄膜的光学特性,随着时间的增加,EB-SiO2薄膜和IAD-SiO2薄膜的物理厚度和光学厚度随着增加,但IBS-SiO2薄膜随着减小,变化率分别为1.0%,2.3%和-0.2%。当贮存时间达到120天时,IBS-SiO2薄膜、EB-SiO2薄膜和IAD-SiO2薄膜的物理厚度和光学厚度趋于稳定。实验结果表明,IBS-SiO2薄膜的光学特性稳定性最好,在最外层保护薄膜选择中,应尽可能选择离子束溅射技术沉积SiO2薄膜。     

CeO2薄膜折射率与其聚集密度的关系式

一般蒸镀光学薄膜几乎都呈现微观柱状结构,这种薄膜的折射率随着聚集密度的改变而发生变化.     

多光束干涉飞秒激光转写周期微结构

利用多光束飞秒激光干涉将周期微结构从镀有金属薄膜的支撑基体转写到另一接受基体上,同时在支撑基体的金属薄膜上形成了与接受基体上正负相反的周期微结构。同时光学及电子显微镜显示在支撑基体及接受基体上得到微米量级的周期结构。     

防潮薄膜材料三氟化铋(BiF3)的光学特性

在KCl晶体上己镀成了厚度达2.35微米的BiF3膜。采用热蒸发和在氟里昂气体中反应溅射所镀制的BiF3薄膜,具有相似的光学特性。用厚约1微米的BiFs 膜,测量了它的从波长2600埃到20微米的极宽的透射区。介绍了BiF3薄膜的远红外及奥杰(Auger)电子谱特性。看来,除了10.6微米和更长波段的高功率应用而外,BiF3是一种大有希望的新的光学薄膜材料。     

一种适用于在线检测的纳米薄膜厚度精确测量方法

提出了一种新的薄膜厚度测量方法.该方法以镀有一层厚度足以引起干涉的过渡层为衬底,通过测量镀膜前后透（反）射谱的变化,即可实现薄膜厚度的精确测量.由于过渡层的厚度已经引起干涉,新镀上去的待测薄膜即使很薄,也会引起干涉的变化.通过镀制待测薄膜前后透（反）射谱干涉的变化,可以很容易地精确测量出待测薄膜的厚度,其测量极限高达1...     

HL2HLHLHL2HLH干涉滤光片的镀制

<正> 本文介绍了HL2HLHLHL2HLH胰系干涉滤光片的镀制工艺。讨论了影响较大的几个因素,对镀制过程中出现的一些现象进行了初步分析,总结出最佳工艺条件。一、前言随着光学技术在半导体工艺设备中的应用日益广泛,滤光片亦成为半导体设备必不可少的光学元件。目前在光学薄膜技术中,滤光片的膜系设计和镀制是比较困难的。其中最常见的一种是按法布里——珀罗干涉仪原理工作的