多层反膜系反射特性的计算机模拟计算及其应用

根据薄膜光学与膜系设计的原理,对非四分之一波长的多层反射膜系的反射特性进行了计算,总结出高折射率薄膜的光学厚度与膜系的倍频反射带之间的关系,并以此指导设计出特殊要求的多层反射膜系.     

量子进化算法在极紫外多层膜表征和设计中的应用

针对EUV多层膜的表征和设计过程中普遍采用的遗传算法（GA）存在的大种群和求解效率低的问题,本文将实数编码量子进化算法（QEA）应用于EUV多层膜的表征和宽光谱EUV多层膜的设计过程中。分别采用实数编码GA和QEA对理论仿真的EUV多层膜的X射线掠入射反射谱进行反演拟合和宽光谱EUV多层膜的反射谱进行设计,进而将QEA在EUV多层膜表征和设计方面的性能进行对比分析。分析结果表明,QEA在多层膜的表征方面具有小种群和反演求解效率高的优点,多层膜的膜厚拟合精度可达±0.1nm;在多层膜设计方面,量子进化算法同样具有小种群的优势,同时求解效率较GA算法接近,设计的多层膜反射率带宽为13~15nm,反射率可达25%。相关工作展现出QEA算法在多层膜研发方面的应用价值,为进一步工作打下基础。     

膜系自动设计中的几种新型评价函数

综述了不同膜系设计中特殊的建立评价函数的方法。阐明在用计算机进行自动膜系设计过程中，如何确定哪些标准参与薄膜性能的评价，用什么方式构成评价函数，并介绍了两种提高优化设计效率的评价函数构造方法。     

统计调优法在麦草烧碱——蒽醌法蒸煮工艺中的应用

将正交多英式回归设计应用于麦草烧碱－蒽醌法蒸煮工艺中，在得出纸浆得率和硬度的回归方程后，以纸浆得率为目标函数，硬度为约束条件构成优化模型，应用计算机寻优，得到了在规定的硬度指标下得率最高的蒸煮工艺条件。     

拟优值法在多目标决策中的应用

拟优值法在多目标决策中的应用王志仁（东北电力学院基础教学部吉林１３２０１２）０引言拟优值法，引用模糊系统最小最大元素法，采取多目标－单目标－多目标思路，给出了寻找诸方案拟优值的教学模型．实际上，人们理想的最优值是很难找到的。即使找到了也不便操作和应用...     

多指标决策优序法在试验评价中的应用

本文利用优序法评价多指标正交设计试验结果，从而求出最佳试验方案，经生产实践验证比较理想。     

单纯形优化法在马氏体相结构计算中的应用

将单纯形优化法应用于ＣｕＡｌＮｉ合金马氏体相结构的嵌入原子法计算中，获得了在各有序度下２Ｈ和Ｍ１８Ｒ１马氏体的稳定能量以及对应的结构参数。     

单纯形优化法在马氏体相结构计算中的应用

将单纯形优化法应用于ＣｕＡｌＮｉ合金以马氏体相结构的嵌入原子法计算中，获得了在各有序度下２Ｈ和Ｍｌ８Ｒ＿１马氏体的稳定能量以及对应的结构参数。     

基于非线性复形调优法的CFG桩复合地基优化设计

运用非线性复形调优法对CFG桩复合地基进行按沉降控制优化设计,得到了安全、经济的结果.提出的基于沉降控制理论的优化设计思想,对CFG桩复合地基的工程设计有一定的借鉴意义.     

单纯形优化法在稀土富渣化选除钙中的应用

介绍了一种单纯形试验机优化方法及其在冶金中应用。该方法与一般的正交试验法比较：一是试验次数少；二是可以找出最佳条件的一个稳定区域，为冶金试验提供了一种新的试验方法。     

ZnO:Al(AZO)薄膜制备工艺参数的正交优化设计

采用正交设计法,对溶胶-凝胶方法制备AZO薄膜的工艺参数进行了优化研究;确定了最佳工艺参数,为制备AZO薄膜的工业化控制提供了一种可行的方法。     

光学薄膜制备技术

本文综述了光学薄膜制备技术的发展与现状,着重介绍了真空蒸镀、离子辅助沉积、离子束溅射等传统与现代技术,包括工作原理、发展以及应用情况.     

新型光学薄膜研究及发展现状

综述了近年来国内外在新型光学薄膜如高强度激光膜、金刚石及类金刚石膜、软X射线多层膜、太阳能选择性吸收膜和光通信用光学膜的制备及其在器件方面的研究和应用情况，并对光学薄膜的研究进行了展望。     

锗硅薄膜的光学特性研究

GeSi薄膜的光学特性可以随内部组分的变化而变化,在光电子集成方面优于GaAs、InP等传统的发光材料,已引起了人们的广泛关注.采用等离子体CVD法在玻璃衬底上沉积GeSi薄膜,研究了不同生长条件下的样品的光学特性,从样品的紫外\|可见光反射谱和透射谱计算出光学带隙,发现随着Ge含量的增加,薄膜的光学带隙减小.并且研究了样品的光学带隙与温度的关系,当GeH4流量为4sccm时,薄膜的光学带隙随温度的升高有一个最小值,当GeH4流量为8sccm时,温度升高而薄膜的光学带隙基本不变.     

静电自组装法制备SiO2光学增透膜

为了进一步提高低折射率光学器件的可见光透过率,用静电自组装(ESAM)法在玻璃基片(折射率1.45)表面组装了多孔SiO2增透膜。以NH3·H2O催化和HCl与NH3·H2O分步催化分别制备了胶粒带负电荷的SiO2溶胶。用带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵(PDDA)溶液与SiO2溶胶组装了PDDA/SiO2复合薄膜。然后进行热处理,制备了多孔SiO2薄膜。结果显示,经520℃热处理后,两种薄膜可见光峰值透过率增加,峰值波长由560nm向短波移到520nm,耐机械擦伤强度增大。NH3·H2O催化制备的薄膜透过率相对较高,峰值由98.2%达到99.2%,但耐刮伤能力相对较差。     

多层过盈联接的设计方法

为提高多层过盈联接件的使用性能和工作可靠性,基于传统设计方法提出了一种新的设计方法.以锁紧盘为研究对象,按照由里往外的次序采用厚壁圆筒理论与Lame方程对主轴与轴套接触面进行计算,采用轴套校核方法对轴套与内环接触面进行计算以及采用内环受力分析对内、外环接触面进行计算.与传统设计方法相比,提出的方法全面考虑各设计参数的影响,计算所得结果与实际模拟的结果规律相符,误差小且精度较高.最后通过实验验证了锁紧盘能够传递实际运转过程中承受的载荷,满足设计给定的工况要求.     

溶胶-凝胶法制备氧化锌薄膜

采用了溶胶-凝胶工艺在普通的玻璃载玻片上成功地制备出具有c轴择优取向性、高的可见光透光率、平整均匀的氧化锌薄膜。通过XRD、AFM以及UV光谱仪等分析,其结果表明:所制备的氧化锌薄膜具有纤锌矿型结构,表面均匀致密,薄膜晶粒尺寸大约在40~90 nm,溶胶浓度增大时,其晶粒大小呈增大的趋势。随着涂膜层数的增加,薄膜的(002)方向的取向度增加。薄膜在可见光区的光透过率>85%,在近紫外光波段透射率急剧减小,对应的禁带宽度为3.34 eV。     

PECVD工艺参数对SiO_2薄膜光学性能的影响

为探索利用等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Depo-sition,PECVD)技术制作光学薄膜的有效方法.以SiH4和N2O作为反应气体,通过采用M-2000UI型宽光谱变角度椭圆偏振仪对制作样片进行测试,分析了薄膜沉积过程中的不同的工艺参数对SiO2薄膜光学性能的影响.实验结果表明:在PECVD技术工作参数范围内,基底温度为350℃,射频功率为150 W,反应气压为100 Pa时,能够沉积消光系数小于10-5,沉积速率为(15±1)nm/min,折射率为(1.465±0.5)×10-4的SiO2薄膜.     

单纯形算法在圆度误差评定中的应用

提出一种圆度误差评定的实用算法，利用线性规划单纯形法，按最小条件求得圆度误差。计算结果表明所建立的数学模型具有编程简单和运行速度快的特点，此外该评定方法具有很强的通用性，对于其它形状误差的求解亦有参考价值。     

溶胶-凝胶法制备掺镧钛酸钡薄膜及其光学性质研究

以硝酸镧、醋酸钡、钛酸四丁酯为原料,采用溶胶一凝胶旋涂法制备掺La的钛酸钡薄膜,研究薄膜的晶体结构、表面形貌、紫外-可见光吸收性能及光学带隙。研究结果表明,纯钛酸钡和掺La钛酸钡薄膜均为单一四方钙钛矿结构,La3＋的引入可以使钛酸钡薄膜在可见光区的透过率和光学带隙有一定程度下降,而退火温度对掺镧钛酸钡薄膜光学带隙基本无...