点阵汉字库到PROTEL元件符号图形库的转换

本文介绍了PROTEL元件符号图形库和点阵汉字库的结构,以及怎样将点阵汉字库转换到PROTEL元件符号图形库的方法。从而提出一种在利用PROTEL设计电路原理图时,加入汉字标注的途经。     

PROTEL图形在CorelDraw软件中的处理及应用

文章通过对ＰＲＯＴＥＬ和ＣｏｒｅｌＤｒａｗ两个软件包的分析,提出了利用ＣｏｒｅｌＤｒａｗ作为工具,打印ＰＲＯＴＥＬ图形,以及插入ＷＯＲＤ文档中的方法。同时介绍了使用ＣｏｒｅｌＤｒａｗ处理ＰＲＯＴＥＬ图形的进一步应用,以及将ＰＲＯＴＥＬ图形插入ＷＯＲＤ文档中的实用技巧     

PROTEL印制电路自动有线解说

文章对ＰＯＰＲＯＴＥＬ印制电路自动布线过程中的一些较深入的问题，如集成块隐含电源端的处理、一个集成块含多套不同器件的分别编辑、利用ＰＲＯＴＥＬ自动布线功能实际地给电路板布局、布线的最佳方法等，作详细的解说。这些问题在现有的几本ＰＲＯＴＥＬ软件使用手册中未作系统的介绍。     

在PROTEL软件中实现汉字标注的方法

分析了ＰＲＯＴＥＬ软件中元件库的文件格式,介绍了利用读取汉字系统的字库中的汉字点阵信息生成汉字元件库的编程方法从而实现图中的汉字标注。     

薄膜多层布线分层输出软件的应用

结合薄膜多层布线的工艺特点对ＰＲＯＴＥＬ软件进行二次开发编制ＬＡＹＥＲＳ软件处理ＰＲＯＴＥＬ的版，图文件，得到薄膜多层布线工艺所需的各信号层和介质隔离层的版图辩论拼分别输出。     

PROTEL印制电路自动布线解说

文章对ＰＲＯＴＥＬ印制电路自动布线过程中的一些较深入的问题，如集成块隐含电源端的处理、一个集成块含多套不同器件的分别编辑、利用ＰＲＯＴＥＬ自动布线功能实际地给电路板布局、布线的最佳方法等，作详细的解说。这些问题在现有的几体ＰＲＯＴＥＬ软件使用手册中未能作系统的介绍。     

如何把PROTEL图形插入到WORD文档中

文章通过对ＷＯＲＤ和ＰＲＯＴＥＬ两个软件的分析，提出了一种在ＷＯＲＤ中插入用ＰＲＯＴＥＬ绘制的原理图和印制版图的方法，同时指出了在使用ＷＯＲＤ的过程中应该注意的方法和技巧。     

FLOTOX—E^2PROM阈值电压的研究

本文讨论了理想情况下ＦＬＯＴＯＸ结构Ｅ＾２ＰＲＯＭ在斜坡脉冲作用下的阈值电压变化，并对隧道氧化层中存在净电荷时的情况作了讨论。模拟结果表明适当的斜坡脉冲电压可处ＦＬＯＴＯＸ结构Ｅ＾２ＰＲＯＭ的寿命。     

EEPROM单元结构的变革及发展方向

扼要阐述了电可擦除可编程只读存储器（ＥＥＰＲＯＭ）发展史上的各种结构如ＦＡＭＯＳ、ＭＮＯＳ、ＳＩＭＯＳ、ＤＩＦＭＯＳ、ＦＥＴＭＯＳ（ＦＬＯＴＯＸ）等，比较了它们的优缺点，着重论述了ＥＥＰＲＯＭ结构今后的变革方向。     

PROTEL多层印制板自动布线软件包

ＰＲＯＴＥＬ多层印制板自动布线软件包邢观锋电子爱好者完成电路设计后往往苦恼于繁琐而枯燥的将电路原理图转化为印制电路板的设计过程。因此印制板的计算机辅助设计（ＣＡＤ）软件包应运而生，从ＳＭＡＲＴＷＯＲＫ、ＴＡＮＧＯ到ＰＲＯＴＥＬ、ＯＲＣＡＤ，各种ＣＡＤ...     

薄膜多层混合电路图设计软件的开发和应用

本文根据薄膜多层混合电路的特点，对印制板电路布图设计软件ＰＲＯＴＥＬ进行二次开发，研制出适于薄膜多层混合电路布图设计的软件ＰＲＯＴＥＬ－ＳＵＮ，应用软件对控制信号发生器实施薄膜四层布线的布图设计，布通率达到１００％。     

如何把PROTEL网络插入到WORD文档中

文章通过对ＷＯＲＤ和ＰＲＯＬＴＥＬ两个软件的分析，提出了一种在ＷＯＲＤ中插入用ＰＲＯＴＥＬ绘制的原理图和印制版图的方法，同时指出了在使用ＷＯＲＤ的过程中应该注意的方法和技巧。     

FLOTOX EEPROM存储管的简单模型分析和实验研究

分析了ＦＬＯＴＯＸ ＥＥＰＲＯＭ的简单电路模型和擦写特性。实验研究了不同的器件结构参数和擦写脉冲对存储管特性的影响，表明隧道氧化层和多晶之间介质层的厚度对ＥＥＰＲＯＭ阈会晤窗口有很大的影响、采用指数上升波形或三角波形进行了编程可以改善ＥＥＰＲＯＭ的耐久性。     

一种简化的E~2PROM存储管I—V模型

提出一种ＦＬＯＴＯＸＥ２ＰＲＯＭ存储管的电流—电压模型,模型的模拟结果和实验结果相吻合,该模型为精确设计和利用Ｅ２ＰＲＯＭ单元提供了理论基础。     

RTP改善超薄SiO2膜特性的研究

超薄ＳｉＯ２膜经快速热处理后，电特性得到了改善，本研究用超薄ＲＴＰＳｉＯ２膜制作ＭＯＳ电容，ｈ－ＮＭＯＳＦＥＴ中介栅介质层及ＦＬＯＴＯＸ－Ｅ＾２ＰＲＯＭ中作隧道氧化层，取得了一些实验结果，从结果中可以看出具有实有价值。     

SMT与印刷电路板的设计

从ＳＭＴ的工艺要求出发，讨论了使用ＳＭＤ时设计印刷电路板的总体要求，提出了在利用ＰＲＯＴＥＬ设计软件时各种元器件的制作要求，制作方法以及布规范。     

一种新型结构的LB膜化学场效应晶体管的气敏特性研究

合成了新型的有机半导体ＬＢ膜气敏材料（ＣＯＴＤＭＡＰＰ），其ＬＢ多层膜拉制在场效应晶体管上，形成了具有ＬＢ－ＯＳＦＥＴ结构的化学场效应晶体管（ＣｈｅｒｎＦＥＴ），该器件置于ＮＯ２，ＮＨ３，ＣＯ和Ｈ２Ｓ等有害气体中，结果表明在ＮＯ２气氛中元件漏电流ＩＤＳ发生变化，并可检测到２ｐｐｍ的ＮＯ２．这种器件的气敏特性在于ＦＥＴ的电流放大作用及ＬＢ膜的有序性的影响．     

串行E^2PROM AT24CXX的原理及应用

本文分析了美国爱特梅尔（ＡＴＭＥＬ）公司生产的最新二线式串行ＣＭＯＳＥ＾２ＰＲＯＭ芯片ＡＴ２４Ｃ０１／０２／０４／０８／１６的内部结构性能特点，读写时序，并说明了使用方法。     

有关PROTEL的几个问题

本文以提问的方式介绍了在使用ＰＲＯＴＥＬ进行电路设计过程中经常碰到的几个问题，对它们做出了相应的分析并给出了解决方法。     

PCB数控钻孔的CAM技术

文章论及的是在Ｘ８６ＰＣ机运行环境中，在ＴＡＮＧＯ或ＰＲＯＴＥＬ／ＰＣＢ／ＣＡＤ系统支持下，实现ＰＣＢ钻孔加工ＣＡＭ技术的一种方法。