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中国质量认证中心NCB秘书处 《安全与电磁兼容》2011,(4):95-99
标准:IEC60598-1/2003 条款号:7.2.1 决议单号:083,06页1(1) 问题:在灯具系统中: a)金属壳体可以代替铜导体提供接地连续性?b)接地连续性可以串联(转接供电)连接吗?决议:a)不接受。b)不接受,每个灯具必须直接接地。 相似文献
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William.E.Low(以下简称William)是美国著名的发烧音响线材品牌AudioQuest的创始人,他于1980年成立AudioQuest,至今已经超过30年的历史。而作为创始人的William.E.Low,他自己本身对音响和音乐有着浓厚的兴趣,是一名不折不扣的发烧友。最近,他来到了香港并带来了一系列新的产品作演示。当中包括模拟信号线、USB线、网线、HDMI线等等。这次我们有幸被邀请与William一起分享了他带来的新品。同时,William更接受了我们的访问,并一同分享了他多年来的一些设计和发烧心得。 相似文献
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研究了采用二氧化碳(CO2)激光在高密度互连(HDI)印制板(PCS)的铜导体层上有效的微导通孔形成的铜直接钻孔的方法。在铜导体箔的表面上镀覆金属锡层,以便增进铜导体箔上的CO2激光能量吸收。镀层表面采用各种脉冲能量的CO2激光进行钻孔。采用一种激光脉冲可以在9μm厚度的抛光铜导体层上有效地形成优质的微导通孔。 相似文献
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光化学图像转移是制造印制板过程的一道重要的工序,它是将照相底版上的电路图像真实的转移到经过清洁处理过的覆铜箔层压板上,形成一种抗蚀或抗电镀的掩膜图像。抗电镀图像用于“图形电镀工艺”,即用保护性的抗蚀材料在覆铜箔层压板上形成负相图像,所需要的图像是铜导体表面,它经过清洁、粗化处理后,在其表面电镀铜及电镀金属保护层(如锡铅合金、锡镍、锡、金等抗蚀镀层),然后去掉抗蚀膜层进行蚀刻直至完成电路图形的加工。 相似文献
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本文通过对工艺条件的控制,获得了铜系混合导体材料Cu2Mo6S7、7、Cu2Mo6S8.0及Cu4Mo6S8.0.x射线衍射物相分析表明为Mo6S8结构的单相,并采用分析化学方法对其化学计量进行了分析,通过测试得到了三种混合导体的总电导率σ和离子电导率σi·当混合导体Cu2M06S7、7与固体电解质Rb4Cu16I7Cl13复合后可改善其电化学性能,复合比为2:1时,总电导率σ和离子电导率σi可达75(Ω·cm)-1和7×l0-2(Ω·cm)-1。 相似文献
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4.2孔导通化工艺(改进式工艺方法)
化学镀铜工艺在电子工业中应用十分广泛。在印制电路板制造过程中,用化学镀铜工艺实现孔的导通化,再进行通孔电镀铜加厚,使双面或多层板的线路实现互连。在大规模集成电路(VLSI)和超大规模集成电路(ULSI)生产过程中,需要在半导体晶片上形成多层的极薄金属层,然后再蚀刻成尺寸极小的金属线,这也需要进行化学镀铜工艺。所以化学镀铜的用途是很广也很重要的。 相似文献
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1两种外径计算方法
第5种软铜绞合导体柔软、易弯曲,可广泛用于矿用橡套电缆、船用电缆、通用橡套电缆和软结构电力电缆等有特殊要求的软电缆中。第5种软铜绞合导体的单丝较细,且其绞合方式是先束绞(即非规则绞合),再复绞(即规则绞合),这使得第5种软铜绞合导体不宜定型,较难计算最终的导体外径。目前常用的第5种软铜绞合导体外径的计算方法有正规同心式绞合单线外径计算法(方法1)和束丝外径计算法(方法2)两种。 相似文献
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1996年展望硅微电子技术发展趋势(续)北京微电子技术研究所(北京100076)许忠义,白丁4.1.3金属导体层金属导体包括Al(掺Cu3%)、W、Cu。当TiN淀积后,一般用CVDW填充接触孔或通孔。WCVD是相当成熟的技术。用AlCVD来填充接触... 相似文献
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铜或环氧
Copper or Epoxy
文章作者认为柔性印制电路板(FPCB)外层的导电材料可选择铜或导电环氧树脂,通常导电环氧树脂比铜箔更加柔软而适于弯曲。作者分析了铜和导电环氧树脂(如银导电膏)各自的优点与缺点, 相似文献