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从场致发射实验中发现一种较适合于场电子发射的金刚石薄膜表面微结构。胜表面为这种微结构的金刚石薄膜作阴极制做的简单平板显示器件具有起始发射场强低,发光强度大的特点,且重复性较好。 相似文献
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报道了在钼衬底上利用微波等离子体化学气相淀积技术制备金刚石镶嵌非晶碳膜,在硅衬底上用脉冲激光淀积技术(pulsedLaserDeposition)制备类金刚石薄膜,并对其场发射特性和机理进行了进一步的研究。用金刚石镶嵌非晶碳膜作阴极,在2.1V/μm的场强下便有电子发射,最大发射电流密度为4mA/cm2。实验表明,金刚石镶嵌非晶碳膜是制做场效发射冷阴极的合适材料。 相似文献
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用微波方法在钼衬底上沉积出金刚石镶嵌非晶碳薄膜,对其场致电子发射特性和机理进行了研究,使该薄膜的场致发射电子激光发荧光屏,并观察到发光。 相似文献
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金刚石薄膜衬底表面不同预处理对薄膜表面形貌的影响 总被引:3,自引:0,他引:3
用微波等离子体化学气相沉积(CVD)设备,在经过不同粒度的SiC研磨粉进行粗化预处理过的金属钼衬底上沉积出了表面形貌有较大差异的金刚石薄膜,分别用扫描电子显微镜(SEM)、光学显微镜和X射线衍射谱(XRD)以及Raman光谱对样品进行了分析测试,并研究了各样品的场致电子发射特性。结果发现:在我们的实验范围内,对钼衬底研磨预处理所用的SiC研磨粉的粒度越大,其上沉积出的金刚石薄膜样品的表面越粗糙;而金刚石薄膜的表面越粗糙,其场致发射的效果也越好。 相似文献
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本文介绍了在普通扬声器上涂覆DLC膜的工艺,并测试了其性能,结果表明DLC膜对扬声器的性能有明显改善。 相似文献
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本工作采用HFCVD方法在Si、Mo衬底上生长出不同晶粒形貌的多晶金刚石薄膜,研究了生长条件(衬底温度、碳源浓度、反应压强)对金刚石薄膜晶粒形貌的影响。结果表明,在HFCVD方法中,金刚石薄膜晶粒形貌对生长条件十分敏感,生长条件的变化会导致不同形貌晶粒的生长。 相似文献
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本文叙述了场致发射的机理及几种不同类型场致发射阴极的特点,并对场致发射技术在真空微电子器件方面的应用进行了分析. 相似文献
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本文研究了用金属有机物热发解法制备PLT8薄膜的工艺过程和基片对薄膜结构的影响,并且给出了铁电性能的测量结果。 相似文献
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概述了大面积电子学的发展现状与趋势,介绍了太阳能电池、薄膜晶体管、有源矩阵液晶显示和场发射阵列等大面积电子器件的目前研制水平及其应用前景。 相似文献
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