微光机电系统及其应用

微光机电系统（MOEMS）是在微机电系统（MEMS）基础上发展起来的一种新技术系统,它是由微光学,微电子和微机械结合而产生的一种新型的微光学结构系统,MOEMS在信息,军事,航天,医学,工业等领域有着广阔的应用前景,综述了近年来微光机电系统的发展和应用。     

基于微光机电系统的微感知技术

微光机电系统技术是在微机电系统技术基础之上发展起来的具有多种学科交叉融合特征的前沿高新技术,在该技术上建立的微感知技术是未来微系统技术的核心技术之一.由于微感知技术具有微型化、集成化和智能化的特点,未来在国防军工、精密仪器、特殊工业,以及环境检测等领域将有广泛的应用前景.首先描述了微感知技术的技术特征,同时对当前国内外的微感知技术研究情况进行了介绍,总结了微光机电系统的几个亟待突破的技术问题,并指出了微感知技术面临的挑战.通过对发展微感知技术需要关注问题的思考,对我国微感知技术的发展提出了建议.     

微光机电系统在先进医疗工程中的应用研究

微光机电系统是一门多学科交叉融合,并且在航空航天、生物医学等多个领域发挥巨大作用的高新技术,从微光机电系统的发展概况出发,简要介绍微光机电系统的加工工艺,着重谈论了微光机电系统在外科手术、复杂器官的检查等方面的应用以及在生物医学方面其它重要作用,对现代医学工程的发展和展望具有重要的参考价值。     

一般性问题

TN一1 01020001微光机电系统国内外研究进展/粱静秋(中国科学院长春光机所),,光机电信息一2000,17(8)一1一5文中概述了国际上十分重视的微光机电系统的产生、发展及其显著特点,并从微制造技术、微器件与系统及微光机电系统的应用等几方面简要介绍了国内外发展现状.我国微光机电系统的研究起步并不算晚,近年来成果十分显著,但要缩小与世界先进水平的差距还需多方面的努力.图5参10(许)自适应温度补偿技术及应用/陆一(电子部29所)11电子对抗技术.一2000,15(5)一47一48,封三针对军用电子设备普遍存在的温度漂移问题,提出几种切实可行的自适应温…     

MEMS光开关的控制

ME MS（Micro-Electro-Mechanical Systems，微机电系统）是将微型机械、微型执行器、信号处理和控制电路等集于一体的、可批量制作的微型器件或系统。MOEMS则是Micro—Opto—Electro-Mechanical System的缩写。把微光学应用到微机电系统中，这是MEMS在光通信中的重要应用。微光电机械芯片通常是指包含一个以上微机械元件的光系统或光电子系统，其应用将遍及光通信、光显示、数据存储、自适应光学及光学传感器等多个方面。     

微光机电系统

<正>微光机电系统(MOEMS)是以批量化的微电子技术为基础,通过各向异性腐蚀、各向同性腐蚀、牺牲层腐蚀、键合等技术,制造出各种微机械结构,并使之与电路相集成,组成一个可以完成信息获取、处理及执行功能的微系统。     

高斯光束微圆孔菲涅耳衍射的束型转变

为了获得束型、光强分布、光斑大小等满足激光应用需要的光束,根据由基尔霍夫衍射公式导出的高斯光束微圆孔衍射变换的计算式,探讨了高斯光束微圆孔菲涅耳衍射变换的束型转变及其影响因素,并利用MATLAB软件进行了计算模拟。结果表明,这种方法的可靠性和可行性有利于把激光束应用于激光工程、微光学和微光机电系统。     

可调谐微腔发光二极管微光机电系统悬臂梁的特性

采用微机械表面加工技术,成功设计并研制出具有GaAs基微光机电系统(MOEMS)悬臂梁结构的可调谐微腔发光二极管。对其工作特性进行了分析,测量得到悬臂梁载荷-位移关系曲线,并对微光机电系统悬臂梁可调谐微腔发光二极管进行调谐光谱测量。实验结果表明,在直流电流40mA,调谐电压范围4～22V时,波长从974.5nm蓝移至956.9nm,室温下波长调谐最大达到17.6nm。在实验基础上,采用有限元方法对具有分布布拉格反射镜(DBR)结构的悬臂梁动力学特性进行了研究,模拟结果与实验结果吻合较好。当悬臂梁长度为400μm时,最大位移达到411nm,最大调谐电压达到24V。     

可调液晶微透镜研究进展

可调液晶微透镜是一种基于电光效应来改变其折射率空间分布的新型变焦微透镜,在微光学系统和微光机电系统中具有广阔的应用前景。简要介绍了可调液晶微透镜的基本结构,分析了其焦距调控的工作原理。阐述了可调液晶微透镜的研究现状,并指出了可调液晶微透镜研究的发展趋势。     

基于三维微光机电系统光开关的研究

主要对基于三维微光机电系统（MEMS）的光开关结构进行研究，分析一种新型结构紧凑、高可靠性、大容量的光开关结构，并与常规结构的三维微光机电系统的光开关进行对比，在保证设计参数不变的情况下，保证系统全连接的情况下，可以减少微镜的最大偏转角，从而实现快速的光路切换，并且采用静电梳状微致动器能进一步降低工作电压，实现低功耗和快速的交叉连接，并对系统设计需注意的事项进行分析。     

印制电路与集成电路

SPIE-Vol.4019 0217346SPIE 会议录,卷4019:微机电系统/微光学机电系统的设计、测试、集成与封装=Proceedings of SPIE,Vol.4019:Design,test integration and packaging of MEMS/MOEMS[会,英]/SPIE-The International Society forOptical Engineering.—596P.(E)本会议录收集了在法国 Paris 召开的微机电系统/微光学机电系统的设计、测试与封装会议上发表的69篇论文,内容涉及微机电系统的计算机辅助设计,MEMS 惯性传感器的行为模拟,微光学系统的设计优化,CMOS 压控振荡器设计,表面微加工 MEMS 中高级故障模拟,CMOS 磁场传感器,硅光集成电路。     

光开关研究新进展

文章比较全面地综述了近几年来各种光开关技术的研究进展，包括微光机电系统(MOEMS)技术、气泡技术、液晶技术、全息光栅技术、热光技术及声光技术等，并详细分析了各种技术相应的发展状况、技术特点和发展趋势。     

微机电系统的研究与展望

微机电系统是面向2l世纪的高新技术。文章对微机电系统产生的背景、组成特征、发展现状及应用前景进行了全面分析。在此基础上，论述了MEMS未来发展的趋势。     

微尺度下激光冲击金属材料的特性分析

为了提高微光机电系统产品的可靠性,采用微米尺度的激光冲击处理能够改善金属及金属薄膜材料的机械性能。而微米尺度的激光冲击处理与毫米尺度的激光冲击处理在理论分析、处理过程中的材料特性、适用理论等方面存在着较大的不同。对微尺度效应、材料的弹塑性理论、材料非线性进行了理论分析与探讨。对于等离子体的物理发展过程及空间结构,提出了旋转椭球体模型,这一结果对进一步研究、建立微尺度激光冲击强化等离子体三维模型奠定了理论基础。     

微光电子集成芯片及其应用

一、引言目前,半导体科学技术在低维结构物理、微腔物理、光学量子器件及电学量子器件、超高速电子器件与集成电路、微光电子集成芯片、微光机电系统(MOEMS)器件等方面的研究与发展,其特征尺寸都已进入深亚微米、十纳米以至纳米量级。所研究对象的低维化和结构的微细化不仅是其性能改善的要求,更重要的是将可能导致一系列物理效应的发现     

用于共焦系统中的微光器件的制作

共焦测量方法以其独特的光学截面分辨能力和高精度的轴向分辨率受到极其广泛的关注．近年来提出的利用微光器件分割光路的思想实现了非扫描共焦成像．本文给出了共焦测量系统的结构,着重讨论了对微光器件的参数要求以及制作过程和理论分析,并结合实验系统给出实际制作的微光器件的具体参数．     

微光机电系统技术的研究与应用(下)

二 光学研究和应用 微光学平台是微光机电系统技术应用的一个典型例子,它主要用于光学测量和实验。传统的光学系统平台体积大,系统中的元件是先分开制造然后组装而成,装配量很大,成本很高。而微光学平台体积小,系统中的元件可集加工在单一芯片上,对准精度高．可成批生产,成本低。这些优点使微光学平台相对于传统的光学系统有很大的优势。所以．该方面的研究是微光机电系统研究的最基本部分。研究包括各种微铰链（图７（ａ））、微反射镜（图７（ｂ））、微衍射透镜（Ｆｒｅｓｎｅ１,多阶二元微透镜（图７（ｃ））、微折射透镜（图７…     

用于光网络的MEMS技术

互联网的爆炸式发展使得对宽带通信的需求急剧增加，这种需求只能通过光网络来满足，因此导致人们对光学微机电系统产生了空前的研究兴趣。从光纤光学研究的早期开始，人们就已经意识到微光学是MEMS的一个具有广阔应用的领域。在光网络中应用中，包括光开光、可变衰减器、可调激光器和其他器件，以MEMS为基础的产品具有明显的价格和性能上的优势。本综述了用于光网络的几种类型的MEMS技术。     

飞秒激光制备微光学元件及其应用

近年来,微光学元件的制备与应用受到人们的广泛关注。微光学元件体积小、重量轻及制造成本低,并且易于与微机电系统相集成,能够实现普通光学元件难以实现的功能,在光纤通信、信息处理、航空航天、生物医学、激光技术、光计算等领域,突显出重要的应用价值。飞秒激光因其超短的脉冲宽度和超高的瞬时功率,能够实现超高精度的微纳加工,轻松突破衍射极限。飞秒激光加工技术对材料没有选择性,加工过程也非常灵活,可以进行任意复杂结构的加工,丰富了微光学元件的制备种类。飞秒激光还能在现有结构或系统上进行集成加工,极大扩展了微光学元件的应用。简要概述了微光学元件的优点及一些常用的制备方法,同时对飞秒激光加工技术进行了简单概括,对近年来飞秒激光制备各种微光学元件的实验和应用研究进行了综述,最后对微光学元件未来的研究方向进行了预测和展望。     

微光刻与微/纳米加工技术

介绍了微电子技术的关键工艺技术——微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻技术、可制造性设计技术、纳米结构图形加工技术与纳米CMOS器件研究等问题。近年来,中国科学院微电子研究所通过光学光刻系统的分辨率增强技术(RET),实现亚波长纳米结构图形的制造,并通过应用光学光刻系统和电子束光刻系统之间的匹配与混合光刻技术及纳米结构图形加工技术成功研制了20～50nm CMOS器件和100nm HEMT器件。