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微波等离子体增强化学气相沉积(MW-PECVD)法产生的等离子体密度高,成膜质量好,是制备高效太阳能电池背面钝化膜的重要方法.基于自主研制的平板式PECVD设备,对其核心部分——线形同轴微波等离子体系统进行了仿真分析,获得了该系统等离子体源的空间分布规律,为设备设计的进一步优化提供技术指导. 相似文献
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在直接耦合式微波等离子体化学气相沉积金刚石膜装置的石英管反应腔加上磁镜场来更好地约束等离子体,使等离子体球成为“碟盘”状,提高了等离子体球的密度,在基本参数:反应压力2.5kPa、基片温度450℃、气体流量为Ar:40sccm、CH4:4sccm、Hz:60sccm不变的情况下,沉积面积直径由30mm增长到50mm,沉积速度由3.3μm/h增长到3.8μm/h,最大反射电流由15μA减小5μA。从而大大减少了在石英管壁和观察窗的沉积,有效利用微波能量电离出更多的活性基团沉积出高质量的(类)金刚石薄膜。 相似文献
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低温沉积薄膜技术是发展微电子学器件和光电子学器件的关键工艺。射频等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR PCVD)技术都是能在低温或常温下制备各类优质薄膜的最新镀膜工艺。本文叙述采用这些技术沉积几种绝缘薄膜材料的制法、性能及其在半导体器件中的应用。 相似文献
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电化学沉积DLC薄膜的AFM研究 总被引:1,自引:0,他引:1
类金刚石碳膜 (diamondlikecarbonfilms ,简称DLCfilms)是一类硬度、光学、电学、化学和摩擦学等特性都类似于金刚石的非晶碳膜。例如 ,它具有高硬度 ,抗磨损 ,化学惰性 ,介电常数低 ,宽光学带隙 ,良好的生物相容性等特点。它可以应用于机械、电子、化学、军事、航空航天等领域 ,具有广泛的应用前景。目前制备类金刚石碳膜一般用气相沉积方法(化学气相沉积法和物理气相沉积法 ) ,但是气相合成实验装置的复杂性和基底的高温都导致了这些方法具有一定的局限性。近年来 ,研究人员开始了在液态低温下电化学沉积制… 相似文献
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低温沉积薄膜技术在制作先进的微电子学器件和集成多功能传感器方面非常重要。最近,应用微波电子回旋共振(ECR)等离子体溅射法沉积成高性能、高沉积速率和低基片温度的ZnO薄膜。本文叙述应用微波ECR等离子体溅射法沉积ZnO膜的制法及其性能。 相似文献
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《电子科技文摘》2002,(8)
0215054微波硫灯的工作机理〔刊〕/金大志刀真空电子技术一2002,(2)一48一50(C) 对微波硫灯的工作机理进行了探讨,设计了微波硫灯的原理装置,并对其工作特性进行了初步的研究。参5 0215055巧盯127Y14型宽带示波管的研制〔刊〕/耿玉胜刀真空电子技术一2002,(2)一36一38(C) 0215056生长温度对等离子体增强化学气相沉积生长Zno薄膜质量的影响〔刊〕/支壮志刀真空科学与技术学报一2002,22(1)一81~84(K) 以Zn(qHS)2和C02为反应源,在低温下用等离子体增强化学气相沉积方法,在Si衬底上外延生长了高质量的zno薄膜。用X射线衍射谱和光致发光谱研… 相似文献
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本文综合评述了用射频率等体化学气相沉积法制备类金刚石碳膜过程中的等离子体化学反应和等离子体与材料表面反应机理的研究概况。 相似文献
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用化学气相沉积 (CVD)的方法制备出的金刚石薄膜具有很高的硬度和优异的耐磨能力 ,但在干摩擦过程中 ,金刚石薄膜经常造成摩擦对偶的严重磨损 ,使金刚石薄膜的应用受到一定的限制[1,2 ] 。本文用微波等离子体化学气相沉积的方法 ,先在单晶Si(1 0 0 )片上制备出厚度为 40 0nm左右的纳米金刚石薄膜 ,然后采用高能N离子束轰击的方法 ,对纳米金刚石薄膜进行离子束轰击 ,以期达到改善金刚石薄膜摩擦性能的目的。实验用微波等离子体化学气相沉积 (MWCVDmicrowavechemicalvapordeposition)的方法在单… 相似文献