扫描电子显微镜及X射线能谱仪在物证鉴定中的应用

在司法物证鉴定中对金属分离物的同一性认定或金属分离物成分特殊的,可用X射线能谱仪快速判定;对金属分离物成分无特征的,可根据其金相组织来判定。     

扫描电镜及X射线能谱仪在首饰镀层检测中的应用

采用扫描电镜及X射线能谱仪对首饰镀层进行了检测,并对两种方法进行了比较.结果表明,镀铑首饰采用无损检测法较合适,而镀金首饰采用破坏性检测法较合适.     

利用X射线荧光能谱仪快速鉴别充填处理和优化处理宝石的方法

以充填处理红宝石、合成及优化处理的绿松石为研究对象,利用X射线能谱仪分析、对比充填、合成、优化处理宝石与天然宝石的能谱谱图特征,提出一种通过了解其元素组成对三种经人工处理宝石进行快速、准确鉴别的方法。     

导线物证的扫描电镜及能谱鉴定方法

对导线物证同一性的鉴定，可先用X射线能谱仪快速确定物证为同一物的必要条件，再用扫描电镜对物证的特征条纹或金相组织进行最后判定。该方法简便，可靠。     

利用x荧光能谱仪对珠宝玉石进行辅助鉴定的方法研究

市场上很多常规鉴定方法无法鉴定的珠宝制品,通过了解它们的元素组成对其准确鉴定很有帮助。针对市场上常见的宝石和其仿制品通过利用x荧光能谱仪进行辅助鉴定,取得了不错的效果。     

强度比联立方程法能谱仪无标样定量分析的讨论

在Ｘ射线能谱仪和电子探针定量分析中，一般是用纯元素或与样品成分相近的已知样做标样进行比较，即使在ＥＤＡＸ系列能谱仪所提供的无标样半定量分析程序（ＳＱＵ）中，也是用一系列的纯元素强度因子计算的，这实际下也用了标样。本文利用同一样品上不同同区域成分的差别，分别测出相应元素的同种线系的能谱线强度，用简化了的质量吸收模型，建立联立方程组，通过解方程组和叠代计算，得到该试样的成分，从而开辟了无标样定量分析的     

X射线能谱重叠峰的识别

提出一种通过谱线权重来正确识别X射线能谱重叠峰的新方法，应用该方法，成功地分析了Ti合金微区中能量差为20eV的Ｔi的Ｖ的重叠峰，实验表明，该方法简便，可靠，并可适用于Ｋ－Ｚn之间元素的分析。     

EDX-LE型X射线能谱仪测试银饰品含量的条件设置

利用能量色散型X射线荧光光谱仪(XRF)测试贵金属首饰含量,测试结果受选择的测试条件、样品成分、样品形状特征等因素的影响。通过日本岛津公司的EDX-LE型能量色散型X射线荧光光谱仪测试银首饰中的银含量,分析得出样品测试面是否平整、准直器的大小是影响实验测试值准确性的最主要因素,测试时需要选择较大的准直器、选择平整的测试面且多次测量以得出测试结论。     

X射线探伤的应用浅析

详细介绍X射线的探伤原理,及利用其特性在工业、农业、医学、建筑业等行业进行的放射性探伤,解决人们利用其它技术所不能解决的难题,在社会发展中起到了巨大作用。     

X射线探伤的应用浅析

详细介绍X射线的探伤原理，及利用其特性在工业、农业、医学、建筑业等行业进行的放射性探伤，解决人们利用其它技术所不能解决的难题，在社会发展中起到巨大作用。     

X射线显微镜

主要介绍X射线显微镜的显微成像原理和几种类型X射线显微镜的基本构造、特点和应用实例。成像衬度可以是吸收衬度,也可以是相位衬度;显微镜可以是透射式的,也可以是扫描式的;还有一类将一些X射线光谱技术与显微镜结合的光谱显微镜,介绍了X射线吸收近边光谱、X射线磁圆二色谱和光电子发射谱与X射线显微镜的结合;另外,简要叙述X射线全息显微术。     

扫描电镜和X射线能谱仪对真姬菇子实体常见微量元素的定性定量测定

利用扫描电镜和X射线能谱仪对真姬菇子实体菌盖、菌褶和菌柄中的常见的微量元素Na、Mg、S、P、K、Ca、Mn、Fe、Cu和Zn进行测定,并计算了它们的相对重量百分比。结果表明真姬菇子实体的菌盖、菌褶和菌柄的微量元素含量各不相同。     

闪光X射线技术在兵器测试中的应用

本文介绍了闪光X射线技术在兵器测试中的应用。介绍了瑞典Scandiflash AB公司产品的性能、特点以及应用闪光X射线技术中应注意的几个问题。     

Bi4（SiO4）3晶体结构的X射线粉末衍射研究

在Ｘ射线衍射仪上收集了Ｂｉ_４（ＳｉＯ_４）_３的衍射数据；利用Ｒｉｅｔｖｅｌｄ方法对衍射数据进行指标化，Ｆ_（３０）＝１５８．９０；确定了Ｂｉ_４（ＳｉＯ_４）_３的晶体结构参数。结果发现：该结构中硅氧四面体是变形的孤立四面体，其中两个Ｏ－Ｓｉ－Ｏ键角为１０７．１３°，而另两个为１１４．２６°，详细报道了晶体结构，给出了晶体结构图；提出Ｂｉ离子最外层孤对的６ｓ２电子的存在是形成这种变形配位多面体的原因。     

X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用

阐述了Ｘ射线镂空硅掩模的研制及其在同步辐射深层光刻中的应用。在北京同步辐射国家实验室Ｘ射线光刻装置上，采用本文研制的Ｘ射线镂空硅掩模获得胶厚为３０－４０μｍ、侧壁很陡、边缘很直的Ｘ射线深层光刻胶图形。