日立用掺入稀土氧化物方法增强硬盘玻璃基片

日立公司开发了最佳性能的高强度硬盘玻璃基片生产技术。该玻璃基片性能因掺有少量稀土氧化物而得到提高 ,它在强度、化学稳定性以及与磁记录层的粘合性等方面都优于一般基片。它的高抗冲强度可提高磁读 /写功能 ;并可使硬磁头在驱动磁盘上方低约 10nm处浮动。这种基片生产过程简便 ,因此它可能比一般基片畅销。该公司已开始供销生产硬盘用的 3英寸基片 ,并计划生产笔记本电脑的2 5英寸硬盘基片。据悉 ,玻璃基片复合物中掺入的稀土氧化物为纳米级镨和铒等氧化物。由于稀土离子吸引氧离子 ,从而使玻璃转变成为高强度的压缩玻璃。此外 ,在弯…     

BTS极性微晶玻璃显微结构及其SAW现象研究

介绍了一种新型的SAW基片材料-BTS极性微晶玻璃.这种具有晶粒定向结构的BTS极性微晶玻璃,具有较高的机电耦合系数和低的延迟温度系数,在声表面波器件上具有潜在的应用价值.作者讨论了极性微晶玻璃的晶相组成和晶粒形貌,并测量了极性微晶玻璃基片SAW速度和传输损耗,分析了影响BTS极性微晶玻璃声表面波特性的一些因素.     

金质玻璃马赛克

由金多宝玻璃马赛克有限公司开发研制的高档黄金玻璃马赛克和白金玻璃马赛克已投放市场 ,该产品填补了国内空白 ,达到了意大利同类产品的性能指标。金质玻璃马赛克是依玻璃为基片 ,在玻璃基片上贴一层金箔 ,然后在金箔上又加一层 0 .5 mm玻璃进行保护。该产品分黄金和白金两种 ,其规格可根据用户要求任意切割。具有色泽纯正、典雅大方、经久耐用、永不褪色等特点。广泛应用于各类高档建筑、室内装饰及艺术壁画。泰国玉佛寺的金子塔和佛像均采用该类产品装饰 ,其效果金碧辉煌。金多宝玻璃马赛克有限公司是一家由中国、法国和香港三方投资成立…     

5.25英寸玻璃基片化学增强工艺研究

玻璃基片是制作光盘的重要元件.本文介绍了玻璃光盘基片的离子交换增强原理和方法,给出了钠钙硅玻璃离子交换增强处理结果和直径130mm增强玻璃光盘基片的技术性能.     

热喷涂工艺对玻璃表面铝涂层结合强度的影响

以耐热硼硅酸盐玻璃为基片,对玻璃基片分别进行喷砂预处理和不同温度下加热颅处理,采用电弧喷涂法和火焰喷涂法分别在硼硅酸盐玻璃表而沉积铝涂层.用X射线衍射、扫描电镜分析r样品涂层的组成和形貌:采用涂层附着力测试仪测丛涂层与玻璃基片之间的结合强度.研究了不同预处理、喷涂工艺条件对样品涂层与基片之间结合强度的影响.结果表明:加热预处理条件下样品的铝涂层与玻璃基片的结合强度大于喷砂预处理的.电弧喷涂的铝涂层与玻璃的结合强度大于火焰喷涂的.400℃下加热颅处理的样品的锚涂层与玻璃的结合强度最人,此后,随预处理温度升高,涂层的结合强度呈下降趋势.400℃加热预处理的玻璃基片,采用电弧喷涂制备的样品的涂层与玻璃基片结台强度最高达11.83MPa.     

TiO2薄膜玻璃钢化后光照超亲水性的研究

采用无机钛盐硫酸氧钛为原料,在玻璃基片上获得TiO2超亲水性涂层后,在680℃对玻璃基片进行了钢化处理.实验表明,该TiO2涂层在钢化后仍具有均匀的表面结构、高的可见光透过率和良好的光照超亲水效果,从而在玻璃建材行业具有广泛的实际应用前景.     

真空连续立式双面镀膜技术

一种真空连续立式双面镀膜技术,生产线由12个真空室直线排列,机械主体采用积木式模块单元化设计,总体呈直线立式排列,基片亦呈立式传送和镀膜,基片始终在一个水平面上传送。在生产双面镀膜玻璃时只需根据工艺要求打开背面的靶,基片按行进方向运载1次就能得到双面镀膜玻璃。采用这种镀膜技术能够增加一半产量、提高产品良品率、减少工艺难度。     

镍锌铁氧体磁头封装玻璃

研制成一种计算机磁盘中镍锌铁氧体磁头的封装玻璃,介绍了这种玻璃的化学组成、熔制工艺和技术性能。     

索尼展出1GB高密度“Hi-MD”光磁盘

索尼在“2004 International CES”开幕前一天举行的新闻发布会上,发布了最大记录容量高达1GB的“Hi-MD”光磁盘。在发布会场上,光磁盘及支持这种新规格光磁盘的终端琳琅满目,参观者可亲手一试。与此同时,索尼在日本市场推出了总计4种支持这种光磁盘的终端,分别为两款便携播放器、一款便携录音机及一款平置式录音机。2004年6月在日本市场上市。Hi-MD的目标是在保持现有MD光磁盘的光学系统的同时,提高面记录密度,进而提高每张盘的记录容量。Hi-MD光磁盘的直径为64.8mm,光源波长为780nm,物镜开口数为0.45,与现有MD光磁盘基本相同。此…     

5.25英雨玻璃基片化学增强工艺研究

玻璃基片是制作光盘的重要元件。本文介绍了玻璃光盘基片的离子交换增强原理和方法，给出了钠钙硅玻璃离子交换增强处理结果和直径１３０ｍｍ增强玻璃光盘基片的技术性能。     

磁控溅射法制备铁氧体薄膜的磁性能研究

采用溶胶-凝胶法制备纳米晶镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合粉体,并将该粉体制成靶材.采用磁控溅射法在单晶硅基底和玻璃基底上沉积镍锌钴铁氧体复合薄膜,并对其进行磁性能研究.研究结果表明:镍锌钴铁氧体/二氧化硅复合薄膜具有较好的软磁性能;在相同的溅射条件下,两种基片上的薄膜的矫顽力都较小,但硅基片上薄膜的饱和磁化强度较玻璃基片上的大,软磁性能更好;经后退火处理,薄膜的饱和磁化强度得到明显地提高,软磁性能得到改善.     

在线化学气相淀积法镀硅膜玻璃的理论研究

本文论述了多晶薄膜在玻璃基片上淀积的原理及主要影响因素，阐明了膜膜淀积的总速率是由玻璃基片的表面反应速率和反应剂分子扩散到玻璃表面的扩散速率决定的。硅烷浓度，玻璃板运动速率等因素也是重要影响参考。     

我国建成第一条SnO2导电玻璃基片生产线

近日。我国第一条SnO2导电玻璃基在福建漳州举行了揭幕仪式。SnO2导电玻璃基片生产线是中国科技引进的全自动生产线，由美国Terra Solar公司委托台湾中华联合半导体设备制造股份有限公司制造。每条生产线年产8万片二氧化锡导电玻璃基片。该基片是非晶硅薄膜太阳能电池的衬底电极材料，是非晶硅薄膜太阳能电池必要的组成部分，目前仅日本和美国的几家公司能生产该产品。该项目将填补中国在太阳能导电薄膜产业化研究领域的技术空白和产品空白，极大地促进中国非晶硅薄膜太阳能产业的发展。     

电场诱导银离子扩散硅酸盐玻璃的光致发光光谱

利用直流电场诱导银离子向硅酸盐玻璃基片内部扩散,并进行后续热处理.采用透射电镜观察玻璃基片中纳米颗粒形貌,测量了样品的吸收光谱和光致发光谱.结果表明:随着对玻璃基片热处理时间的延长,吸收峰的强度有明显的增强,峰的位置稍有蓝移,并在410 nm附近出现明显的等离子共振吸收现象;玻璃基体中出现尺寸为小于10 nm的银单晶颗粒.电场诱导银离子扩散后的玻璃在277 nm与325 nm光激发下,发光峰分别在380 nm和440 nm附近,其发光强度随着电场强度的增加呈现先增大后减小的变化趋势.     

索尼展出1GB高密度“Hi-MD”光盘

索尼在“2004 International CES”开幕前一天举行的新闻发布会上．发布了最大记录容量高达1GB的“Hi-MD”光磁盘。在发布会场上，光磁盘及支持这种新规格光磁盘的终端琳琅满目，参观者可亲手一试。与此同时，索尼在日本市场推出了总计4种支持这种光磁盘的终端，分别为两款便携播     

计算机硬磁盘陶瓷基片的研制

文章采用共沉淀法制备了基片和磁膜所需的两种纳米型复相粉体，对陶瓷基磁盘基片的生产工艺进行了研究。结果表明：ZrO2，Y2O3增韧渗MgO,Al2O3纳米型复相陶瓷材料具有特殊的性能，是生产计算机硬盘基片的优良材料。     

内外片温差作用下真空玻璃应力与变形分析

内外片温差导致的真空玻璃应力和变形是真空玻璃破裂重要因素之一.基于理论和ANSYS热结构直接耦合数值模拟分析,计算了内外片温差作用下的真空玻璃应力和变形,分析了温差作用下影响真空玻璃破裂因素.结果表明,当真空玻璃内外片存在温差时,真空玻璃产生的球面弯曲曲率半径与玻璃基片的厚度成正比,与玻璃基片的线膨胀系数及内外片温差成反比,与真空玻璃的长、宽尺寸无关;温差作用下导致的真空玻璃球面弯曲挠度及边缘弯曲挠度与真空玻璃长、宽尺寸及弯曲半径成正比,最大边缘弯曲挠度发生在长边中点处;温差作用下真空玻璃的最大拉应力与真空玻璃的基片厚度及长宽尺寸均无关,说明无论真空玻璃尺寸大小如何,均有可能会因温差作用产生破裂;真空玻璃应用过程中,因装配约束作用,增大了温差作用下的真空玻璃边缘拉应力,且最大拉应力分布在边角部位,从而造成了真空玻璃在接近于边角处破裂.     

超硬微晶玻璃

这种玻璃从表面上看与普通玻璃没有什么区别,但是它在透明玻璃中是最硬的.在测量玻璃硬度的方法中,有一种是威克斯硬度,它是通过利用四角锥形的金刚石压入表面所造成的凹面面积与荷重之间的关系进行测量的.用这种方法测量,普通玻璃的硬度为530～540,硬度较高的石英玻璃为800～900,而日本板硝子公司去年秋季研制的微晶玻璃的硬度在890～1020之间.这种玻璃比普通金属还硬,因而不易擦伤;膨胀     

玻璃陶瓷——电器元件特殊的基片材料

本文对作为厚膜电器元件基片材料的玻璃陶瓷与氧化铝陶瓷的性能进行了比较,结果表明,玻璃陶瓷基片能使厚膜电器元件具有更高的工作温度。     

日本引进美国的聚碳酸酯窗用玻璃

<正> 日本Asahi玻璃公司开始销售一种由聚碳酸酯制成的窗用玻璃,这种玻璃用压条密封。 这种玻璃的材质和挤出模塑工艺技术是从美国通用电器公司(General ElectricCo.,USA)引进的。 这种PC玻璃可替代普通的无机物玻璃用于建筑物。PC玻璃可以被穿上孔,还可以