用金属硅粉制备硅溶胶的新工艺

本文根据硅粉在碱做催化剂的条件下能反应生成硅溶胶的原理，采用水玻璃和氨水做催化剂，对工艺中的反应温度，反应时间和硅粉用量进行了研究和讨论，得出了制备硅溶胶较好的工艺条件。     

单质硅溶解法制备硅溶胶的研究

采用单质硅溶解法,以氢氧化钠作为催化剂,由硅粉和水反应了制备硅溶胶。研究了实验过程中不同工艺条件如反应温度,反应时间,以及硅粉和氢氧化钠用量对硅溶胶制备的影响,并对制备的硅溶胶的性能进行了研究。实验结果表明,硅溶胶制备的较佳工艺条件是：在200 mL去离子水中加入25 g硅粉和0.16 g氢氧化钠,并在温度为900℃下反应8 h。     

硅晶片抛光用高纯度大粒径硅溶胶的研究

本文采用硅粉水解-胶粒整理法制备硅晶片抛光所用硅溶胶,考察了单质硅粉的加入量、反应时间、反应温度、硅溶胶底液浓度、催化剂种类及用量对硅溶胶胶粒平均粒径增长的影响,得到最佳工艺条件:单质硅粉的最佳加入量为25 g、反应时间7h、反应温度80℃、硅溶胶底液的质量浓度为8％、选稀氨水为催化剂、用量为12 mL,在此条件下可制备得到平均粒径为20 nm的硅溶胶产品.经过多次粒子生长可以制备得到适用于硅晶片抛光产业的高纯度大粒径硅溶胶.     

单质硅粉溶解法制备硅溶胶正交实验研究

研究了以单质硅粉为原料、水玻璃与氨水为复配催化剂制备硅溶胶的最佳工艺。通过正交实验设计,得出了硅溶胶的最佳制备条件:反应时间为7h,反应温度为80℃,水玻璃∶水∶硅粉=1∶20∶3(质量比)。     

硅溶胶的合成及其对陶瓷的防污性能研究

硅溶胶具有比表面积大、高分散性、良好的稳定性、绝缘性和粘结性以及亲水性和憎油性等优点,广泛应用在无机涂料、抛光液、耐火材料、催化剂、医学等行业。文中采用单质硅粉水解法制备了碱性硅溶胶,研究了硅粉用量、反应时间、反应温度、NaOH用量等因素对硅溶胶收率及其性能的影响。实验结果表明制备碱性硅溶胶的最佳工艺条件为:去离子水为200 mL,硅粉用量为25 g,反应温度85℃,反应时间为10 h, NaOH用量为0.7 g。用于抛光砖表面处理,能填补陶瓷表面凹凸不平的表面,具有持久的防污效果,并能提高瓷砖的光亮度。     

催化剂级硅溶胶的制备工艺研究

研究采用水玻璃为原料,稀氨水为催化剂,通过离子交换制备硅酸溶液、硅粉水解增长粒径、纳滤膜浓缩等步骤制备催化剂级硅溶胶.由正交实验获得较佳工艺条件:浓度5％硅酸溶液150 mL,反应温度为70℃,反应时间为8h,10％的稀氨水加入后体系氨浓度为0.6％.在此条件下,可获得平均粒径20 nm左右,浓度40％的球状催化剂级硅溶胶.     

提高单质硅生产硅溶胶硅粉转化率的研究

优化由单质硅制备硅溶胶的工艺条件,探讨了原料硅的组成对硅粉转化率的影响。反应的最佳条件为:选择硅含量≥98%,碳、氧、氮等元素含量≤0.5%的工业等外硅粉,常压,反应温度95℃,回流反应5 h,原料质量比为mH2O∶mS i∶mNaOH=100∶16.6∶0.63时,硅粉转化率最高,可达95%以上。     

改良单质硅水解法制备硅溶胶的工艺研究

采用改良单质硅水解法工艺,经胶核制备和胶粒生长步骤制备硅溶胶.通过正交试验发现,对硅溶胶胶核平均粒径和硅粉转化率的综合影响因素大小顺序为硅粉加入量＞水玻璃加入量＞反应温度＞反应时间.最优胶核制备条件为:硅粉加入量80 g;水玻璃加入量30 mL;反应温度90 ℃;反应时间6 h.此时得到的硅溶胶胶核粒径:7～9 nm,硅粉转化率:63%～66%,SiO2质量分数:16%～20%,Na2O质量分数:0.5%.经多次胶粒生长,可制得平均粒径20 nm、40 nm、60 nm、80 nm的硅溶胶产品.     

单分散大粒径硅溶胶的制备

采用单质硅粉水解法,经过初级粒子制备和粒子多级生长,制备了单分散的大粒径硅溶胶,考察了反应温度、反应时间、硅粉添加量、氢氧化钠浓度等因素对粒径及PDI的影响.最优实验条件为:反应温度70℃、反应时间12h、硅粉添加量21 g、氢氧化钠浓度0.5wt％.最优条件下的硅溶胶粒径为20 nm,通过粒径的多次生长,制备出粒径为90 nm的硅溶胶,且呈单分散性.     

大粒径硅溶胶粒径增长及其控制工艺的研究

大粒径硅溶胶在涂料、化学机械抛光、催化剂载体等工业领域中都有着极其广泛的应用。在添加适量催化剂的条件下,采用单质硅粉氧化法制备了大粒径溶胶。重点介绍了大粒径硅溶胶的分类、性质及应用,通过研究不同条件下大粒径硅溶胶的粒径增长过程分析了大粒径硅溶胶制备过程中的粒径增长机理。在添加阴离子表面活性剂的条件下,采用浓缩蒸馏实验研究了大粒径硅溶胶粒径增长与其浓度的关系,结果表明：随着大粒径硅溶胶浓度的增大,大粒径硅溶胶的粒径呈先减小后增大的趋势。最后提出了制备大粒径硅溶胶的粒径控制工艺。     

硅粉法制备硅溶胶

采取硅粉溶解法,以氢氧化钠作催化剂制备硅溶胶。通过正交实验，找出最佳的实验方案,即反应温度为65-90℃，反应时间为8h，即可制得SiO2含量在30％以上，收率在80％以上的硅溶胶。     

硅切割废砂浆制备硅溶胶及回收碳化硅的工艺研究

以硅切割废砂浆中硅粉为来源,制备较高浓度硅溶胶,并回收得到高纯度碳化硅。结果表明,制备硅溶胶的最佳实验条件为:反应温度90℃,硅粉活化时间5 min,反应时间1 h,废油砂∶蒸馏水∶碱=10∶30∶0.6(质量比)。     

用硅与醇直接合成三烷氧基硅烷的研究进展

综述了硅与醇直接合成三烷氧基硅烷所用的原料、溶剂、催化剂以及催化反应的工艺条件。重点讨论了所用硅粉、醇对反应的影响。     

硅溶胶的制备及其在涂料中的应用

综述了硅溶胶生产的原理及方法，指出离子交换法和单质硅粉溶解法是当前硅溶胶生产的主要方法。并且单质硅粉溶解法具有较大发展潜力；归纳了硅溶胶在涂料中的应用及其实现途径，并针对硅溶胶的特点进行了分析，就目前硅溶胶与高分子聚合物乳液复合材料的制备提出了建议。     

硅溶胶系列FCC催化剂制备技术研究

介绍了以硅溶胶为粘结剂的催化裂化催化剂国内外研究现状,以及硅溶胶的性能、特点和影响硅溶胶稳定性的因素。综述了由硅酸钠经离子交换法制备和硅酸钠与无机酸反应制备催化剂的方法。含硅粘结剂的催化剂抗磨损能力和焦炭选择性较好,催化剂的强度可以通过添加表面活性剂和铝盐得到改善。     

直接法合成三乙氧基硅烷

在铜系复合催化剂存在下,采用乙醇与硅直接反应,得到以三乙氧基硅烷为主的反应液;将反应液进行减压蒸馏,收集25~45℃/2~5 k Pa下的馏分,产品纯度达到98%,总收率达80%。研究了硅粉活化时间及粒径、催化剂种类、溶剂种类对硅粉转化率和三乙氧基硅烷选择性的影响。结果表明,最佳工艺条件为:溶剂选择聚乙氧基硅烷(聚合度3~5),催化剂为无水氯化亚铜和双二乙基磷酸铜质量比1∶1的混合物,硅粉不经活化直接使用且粒径选择300~500目。     

大粒径纳米硅溶胶的制备

采用硅粉氧化水解法制备大粒径硅溶胶,可以应用于涂料、陶瓷、吸附剂、化学机械抛光等领域。采用种子生长法,先制备出种子硅溶胶,再利用种子硅溶胶制备大粒径硅溶胶。通过实验,考察温度、种子质量、催化剂用量,得出较佳实验条件:种子(A)生成温度为75℃,催化剂用量为2 g,所得种子平均粒径为25 nm;硅溶胶(B)生成温度为85℃,催化剂用量为4 g,种子质量为14 g,所得溶胶平均粒径为60 nm。     

硅溶胶及在涂料中应用

综述了硅溶胶生产的原理及方法．指出离子交换法和单质硅粉溶解法是当前硅溶胶生产的主要方法．并且单质硅粉溶解法具有较大发展潜力；归纳了硅溶胶在涂料中的应用及其实现途径，并针对硅溶胶的特点进行了分析。就目前硅溶胶与高分子聚合物乳液复合材料的制备提出了建议。     

直接法合成三乙氧基硅烷新工艺研究

以硅粉、乙醇为原料,以氯化亚铜、氧化铜、铜粉混合物为催化剂直接合成了三乙氧基硅烷,考察了硅粉粒度、反应温度、溶剂用量及乙醇流量对反应的影响.结果表明,直接法合成三乙氧基硅烷的最佳工艺条件为:硅粉粒度60～200 μm,V(溶剂)∶m(硅粉)=2∶1,反应温度215℃,0.6《乙醇加入速度(L·h-1)/反应介质体积(L)《0.8,此时产品收率达80%以上、选择性约为90%.     

直接法合成三甲氧基硅烷工艺研究

以硅粉、甲醇为原料、以氯化亚铜、氧化铜、铜粉混合物为催化剂直接合成三甲氧基硅烷,考察了硅粉粒度、反应温度、溶剂配比及甲醇流量对反应的影响。结果表明,直接法合成三甲氧基硅烷的最佳工艺条件为粒度硅粉60~200μm,V(溶剂):w(硅粉)=2:1,反应温度215℃,0.6(甲醇加入速度(L/h)/反应介质(L)(0.8时,产品收率达80%以上、选择性在85%左右。