金属单晶和多晶电子通道花样的观察与分析

金属单晶和多晶电子通道花样的观察与分析孙丽虹，刘安生，张启海（北京有色金属研究总院１０００８８）关键词：扫描电镜，电子通道花样，金属单晶与多晶１９６７年英国人Ｃｏａｔｅｓ［１］首次用扫描电镜在硅、锗等单晶中观察到电子通道花样（ＥＣＰ），开拓了扫描电镜...     

氮化钛薄膜与稀土表面高速钢的滑动磨损研究

利用M200型环-块磨损试验机对TiN薄膜试样、4Cr13强化试样、钨钼钇强化试样、钨钼强化试样、W6Mo5Cr4V2高速钢试样以及T10钢强化试样进行摩擦磨损试验,研究了摩擦系数、磨损量并分析其耐磨机理,结果表明:钨钼钇强化试样、钨钼强化试样、W6Mo5Cr4V2高速钢试样、T10钢强化试样、TiN薄膜试样和4Cr13强化试样的摩擦系数分别为0.3012、0.4693、0.3141、0.5653、0.3171、0.4612;磨损失重分别为:0.0034g、0.0069g、0.0028g、0.0013g、0.0005g、0.0008g。TiN薄膜试样的耐磨性能比4Cr13强化试样提高1.6倍;钨钼钇强化试样耐磨性能比钨钼强化试样、W6Mo5Cr4V2高速钢试样和T10钢强化试样提高2.03倍、0.82倍、3.32倍。钨钼钇强化试样、钨钼强化试样和T10钢强化试样的摩擦系数波动较大,其他试样的摩擦系数较稳定。不同试样的摩擦系数-时间曲线证明磨损分为三个性质不同的阶段:跑合阶段;稳定磨损阶段;剧烈磨损阶段。     

不锈钢表面溅射沉积氮化钛薄膜的结构与性能分析

采用直流反应磁控溅射法,通过改变溅射时间在不锈钢表面溅射氮化钛薄膜。采用分析天平、SEM、XRD和显微硬度计等对薄膜的质量增加率、微观结构、外观形貌和显微硬度进行研究。结果发现随着溅射时间增加,薄膜的质量增大,厚度逐渐增加。XRD分析表明,TiN薄膜晶体结构为面心立方结构。溅射沉积氮化钛膜具有择优取向性:随溅射时间增加,由混合晶面生长向(111)择优取向变化;随着溅射时间增加,显微硬度总体呈上升的趋势。     

射频辉光放电飞行时间质谱法分析薄膜:脉冲模式与连续模式的比较

高级多层材料的直接表面和深度分布化学分析要求了解多维信息,包括同时了解元素和分子信息。用飞行时间质谱法(TOFMS)检测的脉冲式射频辉光放电(pulsed rf-GDs)可以从种类繁多的材料中直接提供化学信息,且简单快捷。另一方面,脉冲式射频辉光放电中输入功率的时间分布由于不同的离子化机理产生3个主要放电阶段(峰前,高峰平稳,峰后)。结果证明将辉光放电离子源和一个快速飞行时间质谱仪相结合能够实现在不同的脉冲阶段几乎同时获得元素和分子信息。     

CaF_2-MgF_2对钢中Al_2O_3夹杂物去除作用的研究

采用不同量的CaF_2、MgF_2、Na_3AlF6以及CaF_2与MgF_2的混合物对钢液中Al_2O_3夹杂物进行改性处理。结果表明:经过改性处理后的钢中全氧含量都有明显的降低,但其添加量需要在一个合适的范围,其中添加1.0%的CaF_2与MgF_2的混合改性剂的效果最好。另外经过改性剂处理后的钢中夹杂物呈现出MnS包裹Al_2O_3的复合分层形态,更加有利于夹杂物的上浮去除,而且MnS为塑性夹杂物,可降低残留在钢中Al_2O_3夹杂物对钢的危害。     

Zn-Sn-O透明导电膜的制备和光电性质

采用射频磁控溅射法在 70 5 9玻璃衬底上低温制备出Zn Sn O透明导电薄膜。制备薄膜为非晶结构 ,并且具有很好的稳定性 ,与玻璃衬底具有良好的附着性。薄膜主要是依靠膜中的氧空位导电 ,薄膜的电阻率强烈地依赖溅射气体中的氧分压。制备薄膜的最低电阻率为 2 2 7×10 - 3Ω·cm ,在可见光范围内的平均透过率达超过 90 %。     

不同工艺制备的氟化镁材料对真空镀膜的影响

用三种不同工艺制得的氟化镁为镀膜材料，考察了不同材料的结构对镀膜工艺和薄膜光学性能折射率的影响，并就其影响的原因进行了宏观分析，为选择高质量的镀膜材料提供了理论依据。     

Structure and Properties of TiO2-CeO2 Films Deposited on Soda-Lime Silicate Glass Substrates by R.F.Magnetron Sputtering

TiO2-CeO2 films were deposited on soda-lime glass substrates at different ratio of O2 to Ar (0.10, 0.15,0.20) by R. F. magnetron sputtering. The structure, surface composition, UV-visible spectrum of the films were measured by scanning electron microscopy, X-ray diffraction, X-ray photoelectron spectroscopy and spectrometer. The results show that the films are amorphous, and the relative molar ratio of Ce to Ti is higher than that of the target at lower ratio of O2 to Ar. Only tetravalent Ti 4 and Ce 4 ions are present in the films, and the obtained TiO2 -CeO2 films appear good uniformity and high density. The films deposited on the glass can shield ultraviolet light without significant absorption of visible light.     

高耐磨性铁基等离子喷焊涂层的应用研究

针对石油化工等行业中关键部件易磨损的问题,常采用等离子喷焊技术喷焊铁基合金粉末,获得耐磨涂层,从而达到延长零件的使用寿命的目的。本文对4种国产铁基合金粉末喷焊层的表面形貌、硬度和耐磨性进行了比较研究,结果表明,FFe-1160A涂层较其余3种涂层具有更好的耐磨性。     

大尺寸Ti3AlC2陶瓷的制备及耐磨性研究

采用燃烧合成结合准热等静压技术(SHS/PHIP)制备了大尺寸Ti3AlC2陶瓷材料(φ240 mm×40mm),利用销-盘式摩擦磨损试验机,研究了不同滑动速度下Ti3AlC2的摩擦磨损性能.结合XRD分析、SEM观察和EDS能谱分析,讨论了Ti3AlC2在不同条件下的摩擦磨损机理.结果表明:载荷分别为30N、50N和70N时,随滑动速度的增大,Ti3AlC2的摩擦因数和磨损率均呈现降低趋势,在载荷70N、滑动速度4.8 m/s时,摩擦因数和磨损率分别为0.24和2×10-6 mm3/N·m;材料磨损以磨损表面磨粒磨损和氧化膜的轻微划痕磨损为主.     

氟化镁对于冰晶石—氧化铝融盐电解过程的影响

介绍了铝电解质中各种添加剂的应用，以及研究氟化镁的起因和氟化镁对于铝电解过程的影响。通过实验室的试验和文献资料的调研以及工业铝生产的验证，经过五十来年的应用，确认氟化镁是一种有益和廉价的优良添加剂。     

射频磁控溅射制备Ba0.7Sr0.3TiO3薄膜的表面结构调控

研究了Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备Ba0.7Sr0.3TiO3(BST7/3)薄膜时,基片加热温度和溅射功率对薄膜显微形貌和成相的影响。实验结果表明:常温下低功率溅射的BST7/3薄膜,表面形貌非常平整,但为非晶态物质的堆积;400℃高功率150 W溅射4 h的BST薄膜,其最大表面起伏约为40 nm;400℃低功率、长时间8 h溅射的BST薄膜,其表面起伏约为12 nm;说明在保证BST充分成相的前提下,可以通过控制溅射功率和时间调控BST薄膜的表面形貌,降低表面粗糙度,使之适于后续器件制备工艺。介电性能测量表明,400℃,75 W,8 h溅射获得的BST7/3薄膜体现出典型的位移型铁电体特征;1 kHz薄膜的损耗约为0.04。     

纳米锐钛矿型TiO2薄膜的制备及分析

采用反应磁控溅射法在玻璃衬底上制备锐钛矿相TiO2薄膜,研究了工艺条件中的氧氩流量比对薄膜润湿角的影响以及溅射气压对薄膜微观结构的影响。对不同氧氩流量比(分别为1/40,1/20,1/10和1/5)时制备的TiO2薄膜进行润湿角测量,润湿角照片显明:氧氩比1/5时薄膜润湿角可减小到8°左右,即提高氧氩比能增强TiO2薄膜的自洁净性能。X射线衍射(XRD)分析表明:当溅射气压降到1.0 Pa时,可以得到锐钛矿型TiO2薄膜晶体,0.5 Pa时的XRD图衍射峰更为明显。用分光光度计测量了TiO2薄膜的紫外吸收光谱,由光谱曲线上光吸收阈值与半导体带隙之间的关系计算出了TiO2薄膜的禁带宽度为3.42 eV,表明TiO2薄膜的吸收边出现了一定的蓝移。根据XRD图谱计算TiO2薄膜的晶粒尺寸,得到的薄膜晶粒尺寸在十几纳米左右,由此说明了TiO2薄膜吸收边发生蓝移的原因;按照锐钛矿相TiO2薄膜XRD图25.3°衍射峰对应的(101)晶面,由Bragg方程计算出其晶面间距为0.3521 nm,表明TiO2薄膜晶体发生了一定的晶格畸变。     

热处理对冷作模具钢Cr8WMo2V2SiNb组织和力学性能的影响

研究了1000～1240℃淬火,以及1100℃淬火+200～580℃回火对25 kg真空感应炉冶炼的Cr8WMo2V2SiNb钢(%:0.96C、1.11Si、7.79Cr、1.79Mo、2.16V、0.96W、0.60Nb)Φ13 mm锻材的淬火组织和晶粒度,淬-回火组织、硬度和冲击功的影响。结果表明,Cr8WMo2V2SiNb钢1 100℃淬火后的硬度HRC值为64.5;1100℃淬火+520℃回火有明显二次硬化效应,硬度达到最大值-HRC62.5,并有较好的韧性,冲击功为8.7 J。