酸性化学镀镍工艺研究

通过沉积速度、镀层耐蚀性和镀液稳定性的测试实验，研究了酸性化学镀镍工艺中复合添加剂，如稳定剂、络合剂、加速剂浓度对化学镀液速度、稳定性，镀层耐蚀性的影响，确定了所用添加剂的最佳浓度和工艺条件。当温度在90℃，pH在5．5时，所得镀层含磷量为7．8％，镀层光亮、耐蚀性优良。     

化学镀镍磷合金的应用

在零件上镀镍磷合金可以使零件具有优良的耐蚀性、耐磨性、可焊性和高硬度等特点，所以这一工艺已广泛应用于电子、石油、化工、机械、宇航及原子能等工业。本文主要介绍化学镀镍磷合金的应用，以及应当注意的几个问题。     

化学镀镍磷合金工艺研究

研究得到一种化学镀镍磷合金的优化工艺，该工艺已用于实际工业生产，所得产品的各项技术性能均符合工业标准。     

中温酸性化学镀镍工艺研究

研究了酸性化学镀镍体系镀液的主要成分、pH值和施镀温度对镀层沉积速度的影响，获得了优选的中温酸性化学镀镍工艺配方，并测定了镀层的结合力、硬度和耐蚀性。该工艺具有较好的工业应用价值。     

低温化学镀镍工艺研究

讨论了影响低温化学镀镍的主要工艺参数,获得了优选的工艺配方。     

ZY—03型高磷化学镀镍工艺研究

采用工业级原料,研究开发了ＺＹ－０３型高磷化学镀镍工艺。试验重点考察了镀液各组分及工艺条件对镀速及镀层耐蚀性能的影响,并测试了镀液的使用寿命及镀层性能。     

化学镀镍-铜-磷三元合金工艺的研究

为提高化学镀镍－磷合金镀层的性能及获得多种性能的合金镀层以拓宽其应用范围。在化学镀镍－磷合金液中加入硫酸铜制得镍－铜－磷三元合金。研究了镀液中硫酸镍、次磷酸钠、柠檬酸钠、硫酸铜、稳定剂、光亮剂的含量以及pH值和温度等因素对合金镀层的外观、沉积速度及铜含量的影响。通过5％氯化钠溶液和10％硫酸溶液浸泡试验比较了所得镍－铜－磷合金镀层与镍－磷合金镀层以及前人制得的镍－磷合金镀层的耐蚀性，同时比较了上述镀层的其它性能。结果表明，所得镍－铜－磷合金镀层的耐蚀性、外观、结合力、孔隙率、沉积速度、硬度和耐磨性等性能优于镍－磷合金及前人制得的镍－铜－磷合金镀层。     

化学镀镍磷合金工艺研究

化学镀镍磷合金由于其优良的性能在工业上得到了广泛应用。为改进传统工艺所存在的不足,采用乳酸－柠檬酸混合络合剂体系研究了络合剂、温度、ＰＨ值及稳定剂地沉积速度的影响。优选了一种最佳工艺。该工艺稳定、沉积速度高、成本低,所得镀层平整、光亮、孔隙率低、硬度高,具有很好的应用价值。     

化学镀镍磷合金研究的进展

对国内外化学沉积镍磷合金的化学镀机理、工艺、应用研究三方面的进展,结合我们自己的工作,作了系统的阐述。在文献调研与实验的基础上,根据国内实际情况,提出要加强工艺研究,重视监控镀液与镀层质量。降低成本,延长镀液寿命等一系列很重要的问题。同时应加强机理研究。本文第一部分从热力学和动力学方面对化学镀机理作了论述;第二部分对化学镀镍磷合金镀层工艺(偏重于酸性镀液)进行了探讨;第三部分针对镀层性能特点阐述了它的应用与前景。     

化学镀镍磷

概述了化学镀镍磷的发展、反应机理、化学镀工艺、镀层性能和化学镀镍磷的应用。     

低温化学镀镍磷合金工艺

以A3钢为基体,在低温下以化学镀制备镍磷合金。研究了镀液中复合配位剂含量、添加剂含量、温度、pH等条件对镀速的影响,以优化化学镀镍磷合金工艺。对镀层的外观、结合强度、耐蚀性、孔隙率等性能进行了表征。得到化学镀Ni-P合金较优的工艺条件为:NiSO4.6H2O30g/L,NaH2PO2.H2O30g/L,柠檬酸钠10g/L,植酸18g/L,NaF6g/L,巯基乙酸0.6g/L,温度50°C,pH9.0,氨水缓冲剂适量。在此条件下得到的Ni-P合金镀层具有良好的外观,孔隙率低,结合力强,耐蚀性好。     

TL全光亮化学镀镍磷合金工艺研究

开发了全光亮化学镀镍磷合金工艺及TL-013、TL-014两种浓缩液配方。研究了光亮剂的选择，被镀件表面状态对镀层光亮度的影响，合理的施镀条件。同时，试验研究了装载量、pH值及施镀温度对镀液的沉积速度、稳定性及镀层光亮度的影响。结果表明：该工艺可获得孔隙率低、耐蚀性能好的全光亮镀层。     

YD-96化学镀镍工艺研究

研制成功ＹＤ－９６高速高稳定化学镀Ｎｉ－Ｐ合金工艺,研究了镀液成分及操作条件对镀层沉积速度、含磷量的影响。分析了镀液中ＮｉＳＯ４·６Ｈ２Ｏ和ＮａＨ２ＰＯ２·Ｈ２Ｏ的消耗比,确定了镀液维护和补加方法。结果表明,该镀液可以在８个周期内以ｖ为１５～２５μｍ／ｈ的速度沉积出镀层,镀液稳定,镀层性能良好。     

聚氨酯海绵基体低磷化学镀镍工艺的研究

通过络合剂、还原剂等的筛选，确定了一种低磷含量且适合于聚氨酯海绵基体的低温碱性化学镀镍磷合金工艺，并研究了镀液的工艺性能。     

玻璃基体化学镀镍-磷工艺研究

非晶态化学镀玻璃基体可用作计算机磁盘基板针对玻璃表面化学镀镍一磷镀层易出现剥皮、开裂等问题，研究了玻璃基材表面的性质，镍磷合金化学镀层结构、含磷量以及镀层韧性、内应力、结合力等对镀层开裂产生的影响一通过调整镀液成分，优化温度、pH值、施镀时间等工艺参数，获得了玻璃基体化学镀镍一磷的工艺配方     

刷镀镍-磷合金工艺的研究

研究了电刷镀Ni-P合金镀液的组成以及工艺参数对镀层中磷含量和镀层沉积速度的影响。结果表明：在最佳工艺条件下，可以获得良好的Ni-P合金刷镀层，且该镀层具有较高的耐蚀性能。     

酸性化学镀镍-磷工艺研究

对化学镀镍-磷的镀液性能和镀层性能进行了研究。筛选了一种含稀土混合添加剂XT,从而改善了槽液的稳定性,镀层含磷量、显微硬度和韧性增加。利用试验数据推算了所研究体系沉镍反应的活化能为56kJ/mol。     

高稳定性化学镀镍磷合金工艺

采用正交试验法筛选络合剂，确定了以柠檬酸，琥珀酸和苹果酸复配作为络合剂的化学镀镍磷工艺，该工艺具有高稳定性，高装载量等优点，易在工业生产中应用。