一种制备优质的有机光薄膜的新方法

提出了一种用真空蒸发和真空热压相结合的技术来制备优质有机光学薄膜的方法,用它制成的有机学薄膜中没有任何残留有机溶剂,在旋转过程中也不产生晶化,因而不会对光发生散射,在光通讯器件,有机发光,有机光存储器的制作等方面有广泛的应用前景。     

阴极恒电流法制备SmS光学薄膜

以SmCl3·6H2O和Na2S2O3·5H2O为原料,采用电沉积法在单晶硅(100)和玻璃基板制备了SmS光学薄膜.采用XRD、AFM和紫外可见光分光光度计对薄膜进行了表征.研究了[Sm3 ]/[S2O32-]、溶液的pH值对于薄膜的物相的影响.结果表明:在[Sm3 ]/[S2O32-]=1:2,控制溶液pH值为4.50以及沉积1h的条件下,可制备出70nm厚单一晶相且表面比较平整的SmS薄膜,薄膜具有(331)方向的取向性.紫外光谱测试表明所制备的SmS薄膜具有290～300nm的紫外吸收特性,薄膜的禁带宽度约为3.6eV.     

实时测量器件中光学薄膜厚度的新方法研究

从薄膜光学理论出发，阐述了利用光学反射比实时测量特种器件中光学薄膜厚度的原理，介绍了测试仪器，分析了测试结果。在已知基底的折射率，光学薄膜的折射率，消光系数及入射光波长的情况下，可计算出光学薄膜的反射比随厚度变化的理论曲线，实验曲线与理论曲线相比较，可实时获得薄膜的厚度信息，这对控制薄膜工艺很有益处。     

汽相沉积光学薄膜微观结构的计算机模拟

本文在微观粒子运动动力学的基础上，考察了在光学薄膜成膜过程中，不同的基底界面特性和不同的沉积环境，以及粒子本身的动能和位置势能等因素对薄膜微观结构的影响，并对薄膜微观结构特征进行了分析和讨论。     

一种制备8-羟基喹啉铝的新方法

用一种简单、高效的方法合成了8-羟基喹啉铝.通过核磁共振谱和紫外光谱,证明了铝参与了配位和8-羟基喹啉铝的存在.对得到的晶体进行X-射线晶体结构分析,其主要晶胞参数为单胞尺寸a=1.11882nm,b=1.32614nm,c=1.6701nm,β=94.011(10)°.V=2.4718nm3,Z=4,计算密度1.358mg/m3,吸收系数0.124 mm-1.在氯仿溶液中对Alq进行了单光子荧光测试,其发射峰在520nm处,对以Alq为电子传输层的器件进行性能测试,其EL最大发射峰在516nm,起始电压为3.0V,15V时的亮度为19458cd/m2.最大流明效率和最大电流效率分别为0.70lm/W和1.32cd/A.     

一种基于遗传算法的光学薄膜优化设计方法

本文依据遗传算法的基本思想,立足光学薄膜领域,介绍了采用遗传算法进行光学薄膜设计优化的一种实现方法——包括"建立种群""建立适应度函数""选择""交叉""变异"和"精英保护"等方面的详细操作步骤.基于该方法,给出了一个在400 nm～900nm光谱区间内实现4个通带的优化设计实例,其结果表明该方法在膜系设计中能够起到较...     

实时测量器件中光学薄膜厚度的新方法研究

从薄膜光学理论出发，阐述了利用光学反射比实时测量特种器件中光学薄膜厚度的原理，介绍了测试仪器，分析了测试结果。在已知基底的折射率、光学薄膜的折射率、消光系数及入射光波长的情况下，可计算出光学薄膜的反射比随厚度变化的理论曲线，实验曲线与理论曲线相比较，可实时获得薄膜的厚度信息，这对控制薄膜工艺很有益处。     

制备光学薄膜的离子源技术概述

随着工业技术的发展及市场的需求,低能宽束离子源已广泛应用于微细加工的离子束刻蚀技术、材料改性的离子束注入混合技术和光学薄膜制备的离子束辅助镀膜技术.本文在多年该技术的实践与发展基础上,总结了制备光学薄膜的各种常用辅助镀膜离子源,其中包括考夫曼离子源、霍耳离子源、射频离子源、无栅离子源、阳极层离子源(均由我们实验室制造)的工作原理,设计要点,分析了使用时可能出现的问题及解决办法,最后从各种离子源的工作机制、工作特点、性价比、优缺点上予以比较.相信会有益于从事薄膜的工作者.     

有机超晶格结构的制备及其量子阱结构电致发光器件

利用高真空多源型有机分子沉积系统制备了由８－羟基喹啉铝（Ａｌｑ３）和叔丁基联苯基呃二唑（ＰＢＤ）交替生长的有机超晶格结构，小角Ｘ射线衍射分析表明，有机超晶格结构具有良好的、完整的周期性结构，并且界面质量很好。从光致发光及电致发光测量中发现，对于由以上两种材料制备的有机量子阱结构，激发态能量随着Ａｌｑ３层厚度的变薄发生了向高能方向移动。电致发光测量中也发现谱线在室温下有窄化现象。     

锗(Ge)光学薄膜在不同沉积温度下的聚集密度研究

锗(Ge)薄膜是中长波红外区最常用的光学薄膜之一,高的聚集密度对于提升光谱稳定性和光学薄膜元件的品质非常重要.选用纯度为99.99％的Ge材料,在5× 10-4 Pa左右的真空压力下用电子束蒸发沉积,石英晶振仪将沉积速率控制在0.8～1.0 nm/s范围,宝石片基片上的膜层厚度约为0.8～1.0μm,在不同沉积温度下制...     

光学薄膜的数字滤波器设计方法

本文给出利用数字滤波器的设计方法设计光学薄膜的具体过程.由数字滤波器设计软件,按照光学薄膜的设计要求给出光学薄膜目标谱传递函数,将光学薄膜传榆矩阵表示为格型数字滤波器传输矩阵的数学形式,导出等光学厚度光学薄膜传递函数的递归关系式.利用光学薄膜传递函数递归关系,采用剥层算法计算出各膜层的折射率,得到满足目标谱传递函数的膜...     

研究有机功能薄膜光存储的半导体激光装置

叙述了一种为研究有机功能薄膜光信息存储而设计的半导体激光装置，用该装置研究金属酞菁固态薄膜，发现其有光存储功能。     

碲氧溅射薄膜的光学性质

碲氧薄膜是很有希望的可擦写光盘介质材料。本文用射频溅射技术制备碲氧系统的薄膜。测定热处理前后薄膜的光学特性(光透过率、反射率、折射指数、光吸收系数和光能隙)和 X 射线衍射特性,并研究了这些性能与靶材的组份关系,还测定了这些薄膜激光喇曼光谱,并讨论它们的结构特征。     

TeOx Thin Films for Write-Once Optical Recording Media

TeOx thin films were prepared by vacuum evaporation of TeO2 powder. Structural characteristic and surface mor-phology of the as-deposited films was analyzed by using X-ray photoelectron spectroscopy, transmission electron microscopy, X-ray diffractometer and atomic force microscopy. It was found that the films represented a two component system comprising Te particies dispersed in an amorphous TeO2 matrix. The dispersed Te particies were in a crystalline state. The TeOx films showed a finely granular structure and a rough surface. Results of the statie recording test showed that the TeOx films had good writing sensitivity for short-wavelength laser beam (514.5 nm). Primary results of the dynamic test at 514.5 nm were also reported. The TeOx films were suitable for using as a blue-green wavelength high density optical storage medium.     

ZnO:Cd薄膜光学性能的研究

本文以载玻片、石英为基底,采用控制掺杂方法,制备了ZnO:Cd薄膜,通过热处理方法获得了优良性能的ZnO:Cd薄膜。研究分析了镉浓度为2%-10%时ZnO薄膜的透射光谱。结果表明,有较强的紫外发射峰,但没有深能级发射,未出现其它的发射峰,说明ZnO:Cd薄膜在紫外线区的发射占主导地位,表明带间跃迁占主导地位。     

Effects of Mg Incorporation on Microstructure and Optical Properties of ZnO Thin Films Prepared by Sol-gel Method

Well-crystallized MgZnO alloy thin films with hexagonal wurtzite structure were fabricated by sol-gel method. With the band gap increases, the surface roughness and the grain size reduces. It is worth noting that the intensity of the band-edge luminescence of Mg doped films enhances with the increase of the Mg content. The microstructure and photoluminescence mechanism have been discussed based on X-ray diffraction patterns, atomic force microscopy images, ultraviolet-visible absorption spectra, photolumine...     

Cu/CaF2复合团簇镶嵌薄膜的光学性质

利用溅射-气体-聚集（SGA）共沉积法，分别在方华膜和光学石英玻璃衬底上制备了Cu团簇嵌理在CaF_2介质中的Cu／CaF_2复合团簇镶嵌薄膜样品。透射电镜（TEM）分析表明，样品为多晶结构；样品的分光光谱仪测量和光Kerr响应表明，Cu金属的表面等离子体共振吸收频率明显依赖于样品中Cu团簇的大小，随着团簇尺寸的减小，样品共振吸收峰发生红移；并且在吸收峰位附近，表现出较大的第三级非线性系数。     

热处理对钛酸锶钡薄膜光学性能的影响

采用无水溶胶-凝胶技术制备了钛酸锶钡光学薄膜,系统研究了预处理和退火温度对钛酸锶钡薄膜的相结构、微观形貌和光性能的影响,优化了薄膜的光学性能,结果表明,膜的结构和形貌直接影响其光学性能。通过150℃预处理和850℃退火获得了晶化程度良好、表面形貌平整致密的钛酸锶钡薄膜。该膜在350-1000nm的最大光透过率为80．72％,在600-1000nm的折射率稳定在-1．93左右,消光系数最小,最小值为4x10-5。     

硅基LiNbO3薄膜的光波导性能研究

利用脉冲激光沉积技术在硅衬底上生长高c轴取向LiNbO3薄膜.研究了衬底温度对薄膜质量的影响,发现衬底温度在600 ℃时获得了具有优异结晶质量的高c轴取向LiNbO3薄膜.采用扫描电镜和透射电镜分别对薄膜的表面、截面进行了分析,结果表明,薄膜表面光滑,晶粒均匀致密,薄膜呈与衬底垂直的柱状结构.棱镜耦合技术制备的LiNbO3薄膜具有优异的光波导性能,光损耗为1.14 dB/cm.     

掺Sb-CdTe薄膜的结构及其光学特性研究

用真空蒸发技术在玻璃衬底上获得了掺杂Sb的CdTe薄膜 ,薄膜为立方晶系结构 ,具有沿 [111]晶向的择优取向。薄膜为p型呈高阻状态 ,在可见光范围内透过率很低。研究了不同掺杂浓度下薄膜的性质 ,并在不同条件下对薄膜进行热处理 ,研究了热处理对薄膜的影响