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海马神经元的原子力显微成像 总被引:3,自引:0,他引:3
原子力显微镜(AFM)对完整的细胞成像并同时进行微细结构观察尚有一定困难。本实验改进了标本制备的过程.用原子力显微镜对戊二醛固定的海马神经元进行扫描,建立了方便、实用的完整海马神经元自完整胞体至超微结构的原子力显微镜成像技术,并用改进的方法获得了完整海马神经元及其超微结构的清晰的三维成像,并发现了一些其它显微技术所不能发现的微细结构。这些结构包括:①海马神经元胞体的亚细胞部分及这些亚细胞部分所具有的不同功能;②神经突触的完整形态;③损伤细胞膜表面出现的孔洞;④通过神经突触所形成的神经网络结构。 相似文献
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电突触前膜在高于阈值的刺激下,产生一个大小不变的动作电位,突触后细胞可直接被突触前轴突中伴随动作电位产生的电紧张所激活,突触膜相当于整流器,电流只能从突触前神经元流向突触后神经元。电流流过神经元之间结合部时,连结电导将随时间变化。 相似文献
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微纳传感技术在研究组织和细胞的电生理活动、揭示细胞网络属性、研究神经传导及药物安全性测试等方面展现了它独特优势。针对组织电生理检测的多种微纳传感技术及其特点进行了描述与评价,着重对多点实时监测的微阵列传感技术的研究和应用进展进行了详细介绍和讨论。最后结合本实验室的研究工作,介绍了微电极阵列技术在嗅觉组织研究中的进展。在探索细胞的离子通道、突触特性及细胞内信号转导时,玻璃微电极记录特别是膜片钳技术是目前比较理想的手段;在研究信号传导、突触传递时,多电极阵列具有明显的优势。微电极传感阵列技术是未来神经科学研究的主要方法之一,它将在提高信噪比及生物相容性、减少对组织的损伤、扩大应用等方面有新的发展。 相似文献
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全脑介观神经联接研究是解析脑认知功能的神经输入输出环路结构基础、普查基因表达与细胞类型,以及绘制全景立体脑图谱的科学前沿。光学成像方法在横向方向能够达到亚微米的分辨率,并可通过多种手段实现“光学切片”的效果,具备在介观水平观测神经环路的天然优势。基于组织透明或机械切削的自动化全脑显微光学成像方法,突破了光学成像在生物组织中成像深度的限制,具有在大范围内提供介观水平精细观察的技术优势。结合各类生物样本荧光标记技术,全脑显微光学成像方法在神经环路的结构和功能的研究方面有着巨大潜力,已成为剖析全脑神经及血管网络的最佳方式。为了更全面地了解和认识这种有力的工具,总结了近年来发展的各类全脑显微光学成像方法,并展望了未来的技术发展。 相似文献
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模拟大脑中的神经突触是实现下一代计算机——类脑神经形态计算的关键一步。为了利用光子模拟神经突触的可塑性进而发展全光人工神经突触器件,文章开展了基于可控光诱导抑制效应的硫系非晶态半导体人工神经突触的实验研究。分析了材料化学组分和抽运光功率对该人工神经突触的调控作用,描述了该人工神经突触的可塑性。结果表明掺入不同杂质的硫系非晶态半导体平面波导具有不同的可控光诱导抑制过程,且抑制深度受控于抽运光功率的变化。基于这些特性,该人工神经突触展现出了配对脉冲易化功能、短程抑制功能、长程抑制功能,具有良好的可塑性。 相似文献
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冷冻割断扫描电镜(SEM)观察,可同时显示细胞表面及其内部亚显微结构的立体形貌;冷冻置换超薄切片法,是将未经固定的生物样品快速冷冻、锇酸丙酮液低温(-80℃)置换系列处理,再行常规包埋、切片、染色,用透射电镜(TEM)观察。该项技术,具有保存结构好,图象分辨力高等优点,是近年来国内开展的一项新的制样技术。本文采用上述两种方法,对家兔、大鼠及小鼠等动物的肾小体亚显微结构分别进行了透射电镜和扫描电镜对照观察,为深入探讨肾小体亚显微结构与功能的联系,提供了一定的形态学依据。 相似文献
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自Konig发表了结晶聚乙烯染色方法以来,以TEM为手段研究结晶聚乙烯的微观结构形态的工作有了突飞进展,为建立块状聚乙烯片晶堆积(聚集态)模型提供了有力的直观依据。在konig工作的启发下,近年来又相继成功地找到了适于聚酯类高巨物,共巨、共混及接技高巨物的染色方法,进而扩大了以TEM为手段,深入研究高巨物形态结构的路子。 相似文献
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以2 200 t级交通船为研究对象, 建立撞击船、被撞船以及水域有限元模型, 采用附加质量法研究不同撞击
位置、不同撞击角度和不同撞击速度对该船耐撞性能的影响, 获得了不同方案下的运动状态以及损伤变形
、碰撞速度和碰撞力等动态结构响应。所获结果可为交通船在不可避免地发生碰撞时提供操船建议, 对于
提高交通船的结构强度具有重要的参考意义。 相似文献
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人脑由复杂的神经网络构成,拥有极强的信息处理、学习和记忆能力,并且具有功耗低、神经元密度高等特点。利用现有的电路元件搭建出类似大脑功能的人工神经网络成为当今人工智能研究的热点。在人工神经网络的研究中,信息的编码、神经元模型的建立以及突触的选择是最关键的3个要素。分别介绍了4种不同种类的编码方式和4种不同类型的神经元模型。对忆阻器用作神经突触的特点进行了简要阐述,并对其数学模型和对应的工作方式作了详细概括。 相似文献
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应用溅射技术,在具有[111]取向的CdTe衬底上生长出了Cd组分(x值)在0.14—0.4范围内、大面积(大到15平方厘米)的Cd_xHg_(1-x)Te外延层(厚度<15微米)。在加热到200℃的衬底上,该外延层以每小时0.6微米的沉积速率生长。采用不同的分析技术,如反射高能电子衍射法(RHEED)、反射x射线形貌法和透射电子显微术(TEM),研究了外延层的晶体学特性。RHEED图形反映出外延层具有高品质晶体的性质。x射线形貌法的研究结果表明,外延层的亚结构与衬底的亚结构十分类似。上述结果与TEM的观察结果是一致的。 相似文献