乙酸乙酯萃取-ICP-MS测定高纯金中杂质元素含量

采用乙酸乙酯萃取分离金基体,用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)内标法测定高纯金中31种杂质元素。萃取酸度为1 mol/L HCl,用25 mL乙酸乙酯可去除金基体对待测元素的干扰,对金的萃取率大于99.9%。将31种元素用~(45)Sc、~(133)Cs、~(159)Tb、~(187)Re等4个内标元素分组测定。方法检出限为0.25μg/L,定量限为0.83μg/L,精密度(RSD,n=12)为0.31%～5.97%,加标回收率为95.3%～109.2%。可满足99.999%的高纯金样品中杂质元素含量的检测。     

氨基磺酸镍/碳化硅复合镀层组织及硬度分析

配制了氨基磺酸镍电镀液,找出了最佳镀液成分和工艺参数。使用扫描电子显微镜、超景深显微镜、库仑测厚仪、XRD衍射仪和显微硬度计对镀层进行了分析。结果表明,镀液组成最佳为氨基磺酸镍360g/L、氯化镍20g/L、硼酸38g/L;镀液温度范围在45~60℃,电流密度为5~18A/dm^3。复合镀镍/碳化硅的最大电流密度为15A/dm^3。电流密度15A/dm^2的镀速为113μm/h,镀层硬度为638HV。     

4-羟基萘-1-亚甲基若丹宁柱前衍生高效液相色谱法测定Pt、Pd、Rh

研究了用4-羟基萘-1-亚甲基若丹宁(HNR)为柱前衍生试剂,安捷伦ZORBAXStableBound(4.6×50mm,1.8μm)快速分离柱为固定相,62%的甲醇(内含0.5%的醋酸)为流动相,高效液相色谱分离,二极管矩阵检测器检测Pt、Pd和Rh的方法。3种贵金属离子的络合物在2.0min内可达到基线分离。根据信噪比(S/N=3)测得各金属离子的检测限分别为:Pt1.0μg/L、Pd0.6μg/L和Rh0.8μg/L,方法用于废汽车尾气催化剂中痕量Pt、Pd和Rh的测定,相对标准偏差为1.8%～2.1%,标准回收率为97%～103%,结果令人满意。     

共沉淀分离富集-ICP-AES法测定铜灰渣中金、铂、钯

建立了碲共沉淀分离富集、电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)测定铜灰渣样品中微量元素金、铂、钯的方法。研究了影响测量的各种因素,确定了最佳测定条件。方法的检出限为:Au 5.6μg/L、Pd 8.2μg/L、Pt 3.6μg/L,回收率93.2%~102%,相对标准偏差(RSD)为:1.21%(Au)~3.45%(Pd),方法测定结果与火试金法一致。方法准确、简便快速,易于掌握。     

快速化学镀 Ni-Zn-P 合金工艺及镀层性能

目的确定快速化学镀Ni-Zn-P合金的工艺。方法通过一系列实验,研究主盐含量、pH值、温度、时间等对镀层沉积速度及镀层锌镍比的影响,确定最优工艺条件。借助SEM,EDS,XRD及电化学方法分析镀层微观形貌、成分及耐蚀性。结果在ZnSO4·7H2O8 g/L,NiSO4·6H2O 35 g/L,NaH2PO2·H2O20 g/L,NH4Cl 50 g/L,C6H5Na3O7·2H2O 70 g/L,稳定剂1.5 mg/L,p H=9.0,温度90~95℃的条件下,化学镀Ni-Zn-P合金沉积速度为5~6μm/h,镀层中Zn质量分数为8%~10%,P质量分数为6%左右,Ni质量分数为80%~85%。Zn的存在使Ni呈现出晶态结构,在XRD谱图上2θ=45°及2θ=52°位置分别出现了Ni(111),Ni(200)衍射峰。施镀时间不会影响镀层成分,但会影响镀层耐蚀性。施镀1.5 h时,镀层厚度约为9~10μm,其耐蚀性略好于相同厚度的Ni-P镀层。结论 Ni-Zn-P化学镀沉积速度较快,8%~10%的Zn使镀层中Ni呈晶态结构,且改善了镀层耐蚀性。     

奥沙利铂及其手性异构体的高效液相色谱分析

研究了用高效液相色谱(HPLC)分析奥沙利铂及其左旋异构体的方法.采用反相手性色谱柱CHIRALCEL OD-RH(甲苯氨甲酰纤维素衍生化合物键合硅胶,150mm×Φ4.6mm,5μm),流动相为乙腈∶乙醇(60∶40,V/V),甲醇为样品溶剂,检测波长250nm.本方法线性相关,奥沙利铂及左旋异构体的相关系数均为0.9997,最小检出限分别为:6.08μg/L、3.04μg/L,回收率分别是:98.64%～101.31%、98.76%～100.13%,奥沙利铂与左旋异构体的分离度＞2.本方法与文献方法相比具有手性色谱柱使用寿命长、分析耗时短、成本低、效率高等优点.     

奥氏体不锈钢低温渗碳硬化处理后的化学亮化处理

目的研究一种化学方法对经过低温离子渗碳后的奥氏体不锈钢表面进行亮化处理。方法采用酸洗(草酸180~200 g/L,硫脲10~15 g/L,OP-10 10~15 m L/L,温度为70℃,时间为3 min)、除积炭(邻二氯苯610 g/L,水30 g/L,氢氧化钠20 g/L,油酸100 g/L,甲酚240 g/L,处理温度为70℃,在超声波中清洗120 min)、碱洗(氢氧化钠110 g/L,碳酸钠110 g/L,高锰酸钾50 g/L,溶液温度为70℃,在超声波中清洗30 min。)、再酸洗(草酸180~200 g/L,硫脲10~15 g/L,OP-10 10~15 m L/L,溶液温度为70℃,在超声波中清洗1 min)的化学处理过程,对低温离子渗碳硬化处理后的316 L奥氏体不锈钢表面进行亮化处理,并对亮化处理前后硬化层的组织结构、厚度、硬度及耐蚀性能进行比较。结果硬化处理后的不锈钢经过化学亮化处理过程,就可以比较彻底地去除硬化层表面的黑膜,恢复不锈钢的本色。结论化学表面亮化处理后,不锈钢渗硬化层的损失量比较小,去除黑膜后的不锈钢表面表现出很好的耐蚀性能。     

结晶紫—贵金属—氯化亚锡体系分离富集贵金属

本文对结晶紫—贵金属—氯化亚锡体系沉淀形成的研究结果表明:在0.6mol/L HCl—0.15mol/L SnCl_2—1.4×10~(-3)mol/L CV的体系中,15.4～604.0μg铑、16.1～535.0μg钯、15.4～738.0μg铱、15.7～792.0μg铂、15.4～664.0μg金可以从40ml试液中同时定量沉淀。回收率依次为％:91.6～100.7、90.0～98.1、92.5～98.1、95.7～101.2、93.4～101.9。所拟定的方法用于精矿、阳极泥、选冶中间产品、废催化剂等μg级上述元素分析时,相对标准偏差在(4～7)％以内。     

五价锑在脱除铜电解液中砷、锑、铋杂质中的作用(英文)

通过向含有45 g/L Cu2+、185 g/L H2SO4、10 g/L As和0.5 g/L Bi的铜电解液中加入Sb(V),研究五价锑对铜电解液中砷、锑、铋杂质脱除作用机理。过滤电解液,采用化学分析、SEM、TEM、EDS、XRD、FTIR等方法对沉淀渣的结构形貌和成分进行表征。结果表明,沉淀渣呈尺寸为50~200μm的不规则块状,其化学成分主要为砷、锑、铋和氧。红外光谱检测表明,沉淀渣主要特征官能团为As—O—As、As—O—Sb、Sb—O—Bi、Sb—O—Sb和Bi—O—Bi。X射线衍射和电子衍射检测结果表明,沉淀渣由AsSbO4、BiSbO4和Bi3SbO7组成。锑酸盐的生成是五价锑脱除铜电解液中砷、锑、铋杂质的主要原因。     

NaOH浓度对ZAlSi12Cu2Mg1微弧氧化陶瓷膜形成及其特性的影响

在NaOH-Na2SiO3电解液体系下对ZAlSi12Cu2Mg1合金进行微弧氧化,通过改变NaOH的浓度研究其对微弧氧化的临界起弧电压、微弧氧化过程中试样表面火花形态、陶瓷膜的生长速率及陶瓷膜厚度的影响.结果表明随NaOH浓度从0.5g/L到3.0 g/L逐渐增加,微弧氧化的临界起弧电压从420 V逐渐降低到350 V,陶瓷膜的厚度从138μm逐渐增加到242μm,陶瓷膜的平均生长速率从2.30 μm/min提高到4.03 μm/min;当NaOH浓度超过2.0 g/L后,陶瓷膜表面变粗糙,甚至烧蚀;NaOH的最佳浓度为2.0 g/L.     

ZL109铝合金微弧氧化耐磨陶瓷层的工艺优化

采用控制变量、正交试验法,通过测定膜层厚度、截面显微硬度、表面粗糙度、表面形貌、截面形貌及摩擦磨损试验、膜层表面XRD的分析对制备ZL109铝合金微弧氧化陶瓷层的电解液组成及电参数进行了优化研究。得到了制备ZL109铝合金微弧氧化耐磨陶瓷层的一组优化后的工艺方案,电解液配方为:8 g/L硅酸钠、2.5 g/L氢氧化钾、5 g/L钨酸钠、2 g/L乙二胺四乙酸二钠;电参数为:正向电压400 V、负向电压120 V、占空比20%、频率500 Hz。所生成的膜层厚度为76μm,表面粗糙度为2.2872μm;摩擦磨损试验中,磨损状态稳定,磨损量在30 h后稳定在1 mg左右。     

哈氏合金C-276电抛光中抛光液的失效分析

目的哈氏合金C-276带材被广泛用作第二代高温超导体YBCO的金属衬底,其表面抛光质量(粗糙度Ra)要求极为严格。为了保证抛光质量就要有效控制电化学抛光液,对抛光液的变化及失效与否进行分析。方法以哈氏合金C-276带材为研究对象,采用非接触式电化学抛光方法,使用扫描电镜、原子力显微镜、金相显微镜、微波等离子体原子发射光谱仪等仪器设备,阐明了抛光液中H_3PO_4和H_2SO_4等主要成分的作用及工艺要求,并测定单位体积抛光液在一定时间内通过电量(Ah/L)后,H_3PO_4、H_2SO_4含量及Ni、Cr、Mo等金属离子浓度。结果当H_3PO_4、H_2SO_4含量分别在775~1013 g/L、318~451 g/L范围内,Ni、Cr、Mo三种金属离子质量浓度分别小于7.3、2.7、3.4 g/L时,C-276带材表面的粗糙度才能满足工艺要求Ra1 nm(5μm×5μm)。结论通过对电化学抛光液中的H_3PO_4、H_2SO_4、添加剂、金属离子浓度等有效控制,采用非接触式电化学抛光,实现了千米级哈氏合金第二代高温超导带材的连续生产,并且表面粗糙度Ra1 nm。     

在微乳液离子液体协同作用下测定碳钢中的磷

应用分光光度法,研究了O/W型微乳液OP/n-C_5H_(11)OH/n-C_7H_(16)/H_2O与氯代1-丁基3-甲基咪唑离子液体协同作用下,孔雀绿-磷钼酸显色反应。在20℃下确定了显色反应的最大吸收波长,显色稳定时间,微乳液与离子液体的比例以及用量,硫酸、钼酸铵、孔雀绿的用量。得到的线性回归方程为y=0.180 1x-0.015 7,表观摩尔吸光系数为1.4×10~5L·mol~(-1)·cm~(-1),磷含量在0.2~6.0μg/25 m L符合比尔定律。该方法的检出限为:5.8×10~(-6)g/L。用于5种碳钢中磷含量的测定,相对标准偏差小于3%。     

LZ91镁锂合金化学镀镍工艺

目的为了改善LZ91镁锂合金的耐蚀性能,以扩大其适用范围。方法在前期试验的基础上,通过正交实验探索不同镀镍配方及工艺对LZ91镁锂合金化学镀镍过程,及镍磷合金镀层形貌、孔隙率、自腐蚀电流密度等的影响。结果优化工艺条件为:主盐乙酸镍20 g/L,还原剂次亚磷酸钠20 g/L,络合剂柠檬酸6 g/L,氟化氢铵20 g/L,氢氟酸12 m L/L,氨水少量,温度85℃,p H=7.4。采用优化后的工艺镀镍得到镀层的厚度为5~7μm,表面孔隙率较低,自腐蚀电位为?0.3806 V,较未处理Mg-Li合金正移1.356 V,自腐蚀电流密度为1.97×10?7 A/cm2,较未处理Mg-Li合金降低两了个数量级,96 h盐雾测试性能符合军工标准。结论采用优化后工艺所得的镀层能够起到改善合金耐蚀性能的作用。     

杂质元素总量对无取向硅钢中夹杂物的影响

采用工业化生产的0.25wt%Si无取向硅钢,研究了C、S、O、N、Nb、V、Ti杂质元素对硅钢成品中夹杂物成分、形貌、数量和尺寸的影响。结果表明,成品钢中的夹杂物主要有长片状和三角块的氧化物,如Si O_2、Al_2O_3或者二者的复合;条带状、棒状的Mn S、Al N、Cu_xS或者其二、其三的复合。尺寸分布在0.1~10μm。当杂质元素总量从83μg/g升高到105μg/g时,尺寸小于0.2μm的Mn S、Cu_xS单位体积数量明显增多,从1.68×10~7/mm~3增加到2.66×10~7/mm~3。     

核电厂蒸汽发生器水化学参数的长期监督结果与评价

基于实际运行数据对某核电厂蒸汽发生器(SG)相关主要水化学参数的长期监督结果进行了趋势分析与评价。结果表明,机组自满功率商运以来SG二次侧水质运行状态总体良好,1/2号机组SG排污水系统杂质离子(Na~+、SO_4~(2-)、Cl~-)运行燃料循环内平均浓度随运行堆年逐年降低并趋于稳定,分别达到0.5/0.4μg/L、1.3/1.6μg/L、0.9/0.8μg/L;主给水系统总Fe运行燃料循环内平均浓度随运行堆年逐年降低并趋于稳定,达到0.9/0.7μg/L;主给水系统溶解氧(DO)年均浓度均控制在期望值(3μg/L)以下,但随运行堆年的增加呈现缓慢上升的趋势,泥渣沉积量上升与二次侧溶解氧含量升高呈现正相关性。对极限水化学条件可能引起的SG传热管腐蚀风险进行了评价,对有利于保持SG运行可靠性的水质运行工况控制及其优化提出了相关措施建议。     

低碳钢亚快速凝固过程夹杂物的生成规律

薄带钢中夹杂物是影响其表面质量和材料性能的重要因素。采用真空感应熔炼和铜模吸铸的方法制取了Si-Mn脱氧后加Ti脱氧的低碳钢薄带,薄带中全氧含量为79μg/g,凝固冷速范围为240~960 K/s。利用此工艺制备的薄带中大多数夹杂物尺寸小于1μm,最大夹杂直径为8.5μm。其中尺寸在0.2~0.5μm夹杂物的数量密度为825个/mm2,其在截面上的分布规律为:表面数量最多,达1 570个/mm2,中心和1/4处数量接近。尺寸在0.5~5μm夹杂物的数量密度为510个/mm2,各厚度位置分布均匀。尺寸大于5μm夹杂物的数量密度为15个/mm2,各厚度位置分布均匀。对夹杂物的成分、形貌和结构分析显示,每个夹杂均由多个晶体组成,整体形貌近似球形,为TinO2n-1+Mn S复合夹杂,其中以钛氧化物为主体,Mn S附着在钛氧化物的表面区域。     

微波消解-ICP-MS法测定舒尼铂原料药中银的残留量

采用微波消解法进行样品前处理,以电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定了舒尼铂原料药中的银残留量。结果表明,银质量浓度在0.1~150 μg/L的范围内,与银信号强度和内标铟信号强度的比值呈良好的线性关系,重复性试验的RSD为2.32%,加标回收率为95.89%~104.81%,检出限为0.0109 μg/g,定量限为0.0365 μg/g;3批样品测定结果分别为2.42、1.54和1.96 μg/g。方法可满足舒尼铂原料药中银残留量测定的要求。     

离子溶液改性7075合金组织与性能研究

以NaAlO2溶液为离子改性溶液,用正交试验法研究了离子溶液体系中NaAlO2浓度、NaOH浓度和三乙醇胺浓度对改性膜层组织与性能的影响。结果表明,NaAlO2体系最佳电解液的配方为A2B2C2,即NaAlO2浓度为9 g/L、NaOH浓度为1 g/L、三乙醇胺浓度为6 m L/L,得到了7075合金陶瓷膜层最大厚度为32.2μm,显微硬度达到1 091 HV。     

稀土铝黄铜合金在NaCl+NH4Cl腐蚀液中的腐蚀行为

利用失重法、X射线衍射分析、扫描电镜与能谱分析等手段研究了Cu-Zn-Al-Ni-B-Ce合金在自来水和去离子水配置的NaCl(35g/L)+NH4Cl(26.75g/L)腐蚀液中的耐腐蚀性能及其腐蚀行为。结果表明:该合金在溶液中的腐蚀产物均主要为稀土氧化物(Ce4O7)、铜的碱式氯化物(Cu(OH)Cl)和铜氨络合物的水合物(Cu(OH)2NH3.H2O);在去离子水溶液中合金的腐蚀速率为1.60×10-3mm/a,在自来水溶液中的腐蚀速率达到了7.51×10-2mm/a;合金在两种腐蚀液中均有沿晶界腐蚀现象,合金在自来水溶液中的腐蚀产物厚度10~20μm,远大于合金在去离子水中的腐蚀产物厚度1μm左右,且经去离子水溶液腐蚀后的合金表面比经自来水溶液腐蚀后的平滑。